CN105247615B - 信息记录介质用玻璃基板及磁盘装置 - Google Patents

Abstract

信息记录介质用玻璃基板是具有旋转中心(CP)的玻璃基板，并具有主表面和外周端面，在设玻璃基板(1G)的半径为R、设从旋转中心(CP)离开0.99R的基准线(BL)上的点(R3)为基准位置、设沿着通过旋转中心(CP)的旋转轴(L1)的延伸方向观察时从与基准位置重合的主表面上点到基准位置的距离设为偏移量的情况下，在正面侧和背面侧双方，以基准位置为半径位置的偏移量在周向上的分布的最大值与最小值之差为40nm以下，正面侧的偏移量在周向上的分布的平均值与背面侧的偏移量在周向上的分布的平均值之差为10nm以下。

Description

信息记录介质用玻璃基板及磁盘装置

技术领域

本发明涉及信息记录介质用玻璃基板及磁盘装置。

背景技术

在计算机等中使用的信息记录介质(磁盘记录介质)从以往就采用铝基板或者玻璃基板。在这些基板上形成有磁薄膜层，通过利用磁头将磁薄膜层磁化，在磁薄膜层上记录信息。

近年来，关于搭载于计算机等的硬盘(HDD)装置等的磁盘装置，研发出了在一片2.5英寸的记录介质中具有记录容量为500GB(单面250GB)、面记录密度为630G比特/平方英寸以上的记录密度的装置。

随着这样的记录密度的高密度化，信息记录介质与在信息记录介质上悬浮着进行记录的读写的磁头的间隙(悬浮高度)缩小。

在悬浮高度缩小的情况下，由于在玻璃基板的主表面上形成的细微的凹凸，磁头和信息记录介质容易相互接触(也称为磁头压损)。为了抑制磁头压损，对玻璃基板的主表面的平滑度和平坦度的要求日益提高。

关于公开了能够通过提高玻璃基板的主表面的平坦度而抑制磁头压损的信息记录介质用玻璃基板的文献，例如可以举出日本特开2008－234823号公报(专利文献1)。

专利文献1公开的信息记录介质用玻璃基板包括偏离部，该偏离部由于在主表面内的周缘部相对于以该主表面内的周缘部以外的平坦面为基准的基准平面隆起或者沉降，而偏离该基准平面，在主表面的一侧，该偏离部形成为其偏离该基准平面的尺寸(偏移量)沿着玻璃基板的全周大致均匀。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2008－234823号公报

发明内容

发明要解决的问题

为了使HDD的记录密度增大至630G比特/平方英寸以上，采用用于调整磁头和信息记录介质的间隙的DFH(Dynamic Flying Height：动态飞行高度)机构。在采用该DFH机构的情况下，能够将悬浮高度缩小至3nm以下。

通常，当信息记录介质在磁盘装置内高速旋转的情况下，在信息记录介质的外周端部圆周速度特别快，因而磁头容易受到在该外周端部附近产生的空气的流动(风力)的影响而浮起来。

在悬浮高度达到3nm以下的情况下，磁头在外周端部附近明显容易受到风力的影响，具有磁头的悬浮特性不稳定的倾向。磁头不仅配置在信息记录介质的一面侧，有时也配置于两面侧。在这种情况下，由于信息记录介质的两面的表面形状的差异，在正面侧和背面侧产生的风力产生偏差，磁头的悬浮特性更加容易不稳定。

在专利文献1公开的玻璃基板中，没有充分考虑在玻璃基板的两侧的主表面形成有磁薄膜层、在该玻璃基板的两侧配置有磁头时的磁头的悬浮特性。

本发明的目的在于，提供一种信息记录介质用玻璃基板及具有该玻璃基板的磁盘装置，能够抑制因信息记录介质的外周端部附近区域的形状而引起的空气的流动紊乱，使磁头的悬浮特性稳定。

用于解决问题的手段

本发明的信息记录介质用玻璃基板是被用于信息记录介质中且具有旋转中心的玻璃基板，在该信息记录介质形成有具有630G比特/平方英寸以上的记录密度的磁记录层，该玻璃基板具有：主表面，其分别位于所述信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧；以及外周端面，其位于所述信息记录介质用玻璃基板的外周端部。在设从所述旋转中心到所述外周端面的所述信息记录介质用玻璃基板的半径为R，在正面侧和背面侧双方，将沿着径向从所述旋转中心离开0.71R的所述主表面上的点作为第1基准点，将沿着所述径向从所述旋转中心离开0.83R的所述主表面上的点作为第2基准点，将连接所述第1基准点和所述第2基准点的直线作为基准线，将从所述旋转中心离开0.99R的所述基准线上的点作为基准位置，将沿着通过所述旋转中心的旋转轴的延伸方向观察时从与所述基准位置重合的所述主表面上的点到所述基准位置的距离作为偏移量的情况下，在正面侧和背面侧双方，从所述旋转中心离开0.99R的半径位置处的所述偏移量在周向上的分布的最大值与最小值之差为40nm以下，正面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值与背面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值之差为10nm以下。

优选的是，在基于上述本发明的信息记录介质用玻璃基板中，在正面侧和背面侧双方，所述偏移量在周向上的分布的平均值为150nm以下。

优选的是，在基于上述本发明的信息记录介质用玻璃基板中，所述信息记录介质用玻璃基板的厚度为0.65nm以下。

基于本发明的磁盘装置在某一方面，以使所述旋转轴成为同一轴的方式搭载多片的所述信息记录介质用玻璃基板。

基于本发明的磁盘装置在另一方面，使一片或者多片的所述信息记录介质用玻璃基板以7200rpm以上的转速旋转。

发明效果

根据本发明能够提供一种信息记录介质用玻璃基板及具有该玻璃基板的磁盘装置，能够抑制因信息记录介质的外周端部附近区域的形状而引起的空气的流动紊乱，使磁头的悬浮特性稳定。

附图说明

图1是示出搭载了本发明的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的磁盘装置的概略立体图。

图2是示出图1所示的磁盘装置的变形例的剖视图。

图3是示出具有本发明的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的信息记录介质的概略图。

图4是示出本发明的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的概略图。

图5是沿着图4所示的V-V线的剖视图。

图6是示出图5所示的信息记录介质用玻璃基板的背面侧的偏移量在周向上的分布的图。

图7是示出图5所示的信息记录介质用玻璃基板的正面侧及背面侧的偏移量在周向上的分布的图。

图8是示出图4所示的信息记录介质用玻璃基板的制造方法的流程图。

图9是示出在图8所示的第2抛光工序中使用的双面研磨装置的侧视图。

图10是沿着图9所示的X-X线观察的剖视图。

图11是示出图9所示的双面研磨装置正在进行研磨加工的状态的剖视图。

图12是示出图4所示的信息记录介质用玻璃基板的使用例的图。

图13是示出在制造比较方式的信息记录介质用玻璃基板时，在第2抛光工序中双面研磨装置正在进行精密研磨加工的状态的剖视图。

图14是示出图13所示的XIV线包围的区域的图。

图15是示出图13所示的XV线包围的区域的图。

图16是示出比较例1的信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧的偏移量在周向上的分布的图。

图17是示出比较例2的信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧的偏移量在周向上的分布的图。

图18是示出比较例3的信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧的偏移量在周向上的分布的图。

图19是示出为验证本发明的效果而进行的第1实验的条件及结果的图。

图20是示出为验证本发明的效果而进行的第2实验的条件及结果的图。

具体实施方式

下面，参照附图详细说明本发明的实施方式。另外，在以下示出的实施方式中，对于相同或者共同的部分，在附图中标注相同的标号，不重复说明。

(实施方式)

图1是示出搭载了本实施方式的信息记录介质用玻璃基板的磁盘装置的概略立体图。参照图1，对搭载了本实施方式的信息记录介质用玻璃基板1G的磁盘装置100进行说明。

如图1所示，磁盘装置100具有信息记录介质10、致动器20、壳体30、卡紧部件27、及固定螺钉28。

致动器20具有磁头滑块21、悬架22、臂23、垂直轴24、音圈25、及音圈电机26。在壳体30的上表面上设置有主轴电机(未图示)。

在信息记录介质用玻璃基板1G(以下也称为玻璃基板1G)上涂覆磁性体而形成的磁盘等信息记录介质10，通过卡紧部件27和固定螺钉28被固定于上述的主轴电机且能够旋转。信息记录介质10是通过在玻璃基板1G形成磁薄膜层(磁记录层)而制造的。信息记录介质10由上述的主轴电机驱动着以例如数千rpm的转速、以在玻璃基板1G的旋转中心CP(参照图4)通过的旋转轴L1为中心沿DR1方向旋转。

臂23以能够围绕垂直轴24摆动的方式被安装。在臂23的末端安装有形成为板簧(单支撑梁)状的悬架22。在悬架22的末端以夹持信息记录介质10的方式安装有具有磁头(未图示)的磁头滑块21。

在臂23的与磁头滑块21相反的一侧安装有音圈25。音圈25被设于壳体30上的磁铁(未图示)夹持。由音圈25和该磁铁构成音圈电机26。

向音圈25供给规定的电流。臂23借助由流过音圈25的电流和上述磁铁的磁场而产生的电磁力的作用，围绕垂直轴24摆动。通过臂23的摆动，悬架22和磁头滑块21也沿箭头AR1方向摆动。磁头滑块21在信息记录介质10的表面上和背面上沿信息记录介质10的半径方向往复移动。设置于磁头滑块21的磁头(未图示)进行寻道动作。

在进行该寻道动作的另一方面，由于随着信息记录介质10的旋转而产生的空气流，磁头滑块21受到浮力。通过该浮力与悬架22的弹性力(挤压力)的平衡，磁头滑块21相对于信息记录介质10的表面以一定的悬浮量行进。通过该行进，设于磁头滑块21的磁头可以相对于信息记录介质10内的规定轨道进行信息(数据)的记录和再现。

将设于磁头滑块21的磁头相对于信息记录介质10的表面而悬浮的悬浮量称为悬浮高度。在本实施方式的磁盘装置100中，悬浮高度为3nm以下。即，在信息记录介质10旋转时，在信息记录介质10的厚度方向上的信息记录介质10与磁头的间隔为3nm以下。

图2是示出图1所示的磁盘装置的变形例的剖视图。参照图2，对作为图1所示的磁盘装置100的变形例的磁盘装置100A进行说明。

如图2所示，磁盘装置100A与磁盘装置100相比，不同之处在于其构成为是两片信息记录介质10旋转，具体而言，磁盘装置100A利用两个卡紧部件27将两片信息记录介质10可旋转地固定在主轴电机29上。此时，两片信息记录介质10以使在旋转中心CP(参照图4)通过的旋转轴L1成为同一轴的方式被搭载。并且，两片信息记录介质10分别以被两个磁头滑块21夹持的方式被配置。

图3是示出具有本发明的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的信息记录介质的概略图。参照图3，对具有本实施方式的信息记录介质用玻璃基板1G的信息记录介质进行说明。

如图3所示，信息记录介质10具有：玻璃基板1G，其具有形成有中心孔11的圆板形状；磁薄膜层16(磁记录层)，其成膜于该玻璃基板1G的正面侧的主表面14上；以及磁薄膜层17(磁记录层)，其成膜于该玻璃基板1G的背面侧的主表面15上。

磁薄膜层16、17通过在玻璃基板1G的正面侧的主表面14上以及背面侧的主表面15上旋转涂覆将磁性粒子分散得到的热固性树脂而形成(旋转涂覆法)。磁薄膜层16、17也可以使用溅射法或者无电解镀敷法等形成。

磁薄膜层16、17的膜厚在旋转涂覆法时是约0.3μm～约1.2μm，在溅射法时是约0.04μm～约0.08μm，在无电解镀敷法时是约0.05μm～约0.1μm。

作为在成膜磁薄膜层16、17时使用的磁性材料，可以采用以结晶各向异性较高的Co为基础、并基于调整残留磁通密度的目的而添加了Ni、Cr的Co系合金等。作为适合于热辅助记录的磁性材料，也可以采用FePt系的材料。

为了改善相对于磁头的滑动性，也可以在磁薄膜层16、17的表面涂覆较薄的润滑剂。关于润滑剂，例如可以举出利用氟利昂类等的溶剂将全氟聚醚(PFPE)稀释得到的物质。根据需要，也可以设置基底层和保护层。

基底层根据磁性膜的种类而选择。关于基底层的材料，例如可以举出从Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al及Ni等非磁性金属中选择的至少一种以上的材料。基底层可以具有单层构造，也可以具有将相同种类或者不同种类的层进行层叠得到的多层构造。关于多层构造，例如可以举出Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等。

作为防止磁薄膜层16、17的磨损和腐蚀的保护层，例如可以举出Cr层、Cr合金层、碳层、碳氢化合物层、氧化锆层及二氧化硅层等。这些保护层可以与基底层和磁性膜等一同用联机型溅射装置连续形成。这些保护层可以具有单层构造，也可以具有将相同种类或者不同种类的层进行层叠得到的多层构造。

或者可以代替上述保护层，而在上述保护层上形成其它保护层。例如，可以代替上述保护层，用醇类溶剂稀释四烷氧基硅烷而成的物质中分散胶态二氧化硅微粒，并涂布至Cr层上，进而烧制后在其上形成二氧化硅(SiO₂)层。

图4是示出本发明的实施方式的信息记录介质用玻璃基板的概略图。图5是沿着图4所示的V-V线的剖视图。参照图4和图5，对本实施方式的信息记录介质用玻璃基板1G进行说明。

如图4和图5所示，玻璃基板1G具有位于其正面侧及背面侧双方的主表面14、15、用于规定中心孔11的内周端面13、和位于该玻璃基板1G的外周端部的外周端面12。

主表面14、15包括：平坦部14a、15a，其从内周端面13侧沿径向及周向延伸；倾斜部14b、15b，其位于该平坦部14a、15a的外侧即主表面的周缘(外周端部附近)，以随着朝向外侧而接近外周端面12的中央12c的方式倾斜。并且，在倾斜部14b、15b和外周端面12之间设有倒角部14c、15c。

玻璃基板1G具有例如0.8英寸、1英寸、1.8英寸、2.5英寸或3.5英寸的尺寸。玻璃基板1G具有例如0.3mm、0.65mm、0.8mm、1mm、2mm、2.2mm的厚度。玻璃基板1G的厚度是指通过在玻璃基板1G上呈点对称的任意多个点所测定的值的平均所算出的值。

关于玻璃基板1G的玻璃组成没有特殊限定，只要是能够通过离子交换实现化学强化的玻璃即可。例如，可以使用以SiO₂、Na₂O、CaO为主成分的钠钙玻璃、以SiO₂、Al₂O₃、R₂O(R＝K、Na、Li)为主成分的铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、Li₂O-SiO₂系玻璃、Li₂O-Al₂O₃-SiO₂系玻璃、R’O-Al₂O₃-SiO₂系玻璃(R’＝Mg、Ca、Sr、Ba)等。其中，优选含有63～70mol％的SiO₂、而且SiO₂与Al₂O₃的合计量为70mol％以上的铝硅酸盐玻璃。

其中，在本实施方式中，将从玻璃基板1G的旋转中心CP到外周端面12的玻璃基板1G的半径设为R。进行如下规定。在正面侧和背面侧双方，将沿着径向从旋转中心离开0.71R的主表面14、15上的点R1作为第1基准点。将沿着该径向从旋转中心离开0.83R的主表面14、15上的点R2作为第2基准点。将连接第1基准点和第2基准点的直线BL作为基准线。将沿着所述径向从旋转中心CP离开0.99R的基准线上的点R3作为基准位置。将沿着通过旋转中心CP的旋转轴L1的延伸方向观察时从与基准位置重合的主表面14、15(更具体地讲是指倾斜部14b、15b)上的点R4到所述基准位置的距离L设为偏移量。

上述的倾斜部14b、15b主要是在后述的第2抛光工序中形成的部分，在周向上具有微小的凹凸形状。在倾斜部14b、15b的偏移量在周向上具有微小的分布。

在本实施方式中，示例倾斜部14b、15b呈相对于该上述的基准线而沉降的下降形状的情况进行说明，但不限于此，也可以是相对于该基准线而隆起的跳板形状。在这种情况下，能够与上述一样地规定基准位置、点R4、偏移量等。偏移量是指相对于基准线沉降的深度或者相对于基准线隆起的高度。

图6是示出图5所示的信息记录介质用玻璃基板的背面侧的偏移量在周向上的分布的图。图7是示出图5所示的信息记录介质用玻璃基板的正面侧及背面侧的偏移量在周向上的分布的图。参照图6和图7，对本实施方式的玻璃基板1G的偏移量进行说明。

如图6所示，在玻璃基板1G的背面侧从旋转中心CP沿着径向离开0.99R的半径位置处的偏移量在周向上的分布42，包括表示最大值的点P2和表示最小值的点V2。偏移量最大的位置相当于与基准线最远的位置，偏移量最小的位置相当于与基准线最近的位置。将该最大值与最小值之差设为PV值。并且，用虚线示出该偏移量在周向上的分布42的平均值42a。

在使使用玻璃基板1G制作的信息记录介质10高速旋转时，在该信息记录介质10的外周端部附近产生的空气的流动不仅影响到一侧(正面侧)的主表面的形状，而且也影响到另一侧(背面侧)的主表面的形状。因此，优选正面侧和背面侧的主表面尽可能相同。通过将正面侧和背面侧各自的上述平均值之差作为指标，能够确认正面侧和背面侧的主表面的形状的差异。

具体而言，如图7所示，将玻璃基板1G的正面侧的上述半径位置(0.99R的位置)处的偏移量在周向上的分布41具有的平均值41a、与玻璃基板1G的背面侧的上述半径位置(0.99R的位置)处的偏移量在周向上的分布42具有的平均值42a之差作为指标。

如图6和图7所示，本实施方式的玻璃基板1G具有如下的结构：在上述的半径位置处，正面侧和背面侧的PV值(最大值与最小值之差)达到40nm以下，而且正面侧的偏移量在周向上的分布41具有的平均值41a与背面侧的偏移量在周向上的分布42具有的平均值42a之差达到10nm以下。

通过形成这样的结构，当在信息记录介质10的正面侧和背面侧配置磁头并使该信息记录介质10高速旋转的情况下，在信息记录介质的外周端部附近，能够使磁头与包括上述倾斜部的主表面的间隔在周向上大致均匀。因此，在该外周端部附近，能够抑制在信息记录介质的正面侧和背面侧产生的空气的流动(风力)的偏差，能够使磁头的悬浮特性稳定。通过高速旋转，信息记录介质10自身针对在与旋转方向垂直的方向上振动的颤动和其它干扰(振动、音响)的耐久性提高，由此也能够使磁头的悬浮特性稳定。

另外，优选上述正面侧的偏移量在周向上的分布具有的平均值与上述背面侧的偏移量在周向上的分布具有的平均值之差达到5nm以下。在这种情况下，能够进一步抑制上述的空气的流动的偏差，能够使悬浮特性更加稳定。

并且，在本实施方式的玻璃基板1G中，上述的正面侧及背面侧的偏移量的平均值在150nm以下。这样，通过减小偏移量自身，也能够使悬浮特性更加稳定。

另外，在上述说明中，作为一例示出了玻璃基板1G具有例如0.3mm、0.65mm、0.8mm、1mm、2mm、2.2mm的厚度的情况，但特别优选具有0.65mm以下的厚度。在玻璃基板的厚度较薄、玻璃基板自身的颤动量增大(厚度为0.635mm时的颤动量达到例如厚度为0.8mm时的颤动量的2倍)的情况下，通过形成如上所述的结构，上述的耐久性更加明显地提高，能够更加可靠地使磁头的悬浮特性稳定。

图8是示出图4所示的信息记录介质用玻璃基板的制造方法的流程图。参照图8，对本实施方式的玻璃基板1G的制造方法进行说明。

如图8所示，该制造方法包括工序S10～S19。首先，在玻璃熔融工序S10，玻璃材料熔融。然后，在成型工序S11，使用上模具和下模具对熔融玻璃材料进行冲压成型。通过成型得到玻璃基板。也可以从玻璃板上切取而制作玻璃基板。玻璃基板的组成例如是铝硅酸盐玻璃。

然后，在第1研磨工序S12，使用具有行星齿轮机构的双面研磨装置，对玻璃基板的正面侧和背面侧的两个主表面实施研磨加工。将研磨板从上下方向按压在玻璃基板上，在玻璃基板的两个主表面上供给磨粒和磨削液，同时使玻璃基板和研磨板相对移动。磨粒使用氧化铝等。通过研磨加工，得到具有大致平坦的面形状的玻璃基板。

然后，在定心工序S13，使用圆筒状的金刚石钻头在玻璃基板的中心部形成中心孔。使用金刚石砂轮对玻璃基板的内周端面及外周端面实施倒角加工。然后，在第2研磨工序S14，对玻璃基板的两个主表面实施与第1研磨工序S12一样的研磨加工。由此，在两个主表面形成的细微的凹凸形状被去除。

然后，在外周/内周研磨工序S15，使用刷子对玻璃基板的外周端面及内周端面实施镜面研磨加工。研磨用磨粒使用例如含有氧化铈磨粒的料浆。

然后，在第1抛光工序S16，使用具有行星齿轮机构的双面研磨装置研磨玻璃基板的两个主表面。研磨剂使用例如具有约1μm的平均粒径的氧化铈磨粒。在第1及第2研磨工序(S12、S14)中残留于两个主表面上的伤痕和翘曲得到矫正。

然后，在化学强化工序S17，在玻璃基板的两个主表面形成压缩应力层。将硝酸钾(70％)与硫酸钠(30％)的混合液加热至300℃，将玻璃基板浸渍在混合液中大约30分钟。形成压缩应力层，玻璃基板的两个主表面和两个端面得到强化。

然后，在第2抛光工序S18，使用具有行星齿轮机构的双面研磨装置对玻璃基板的两个主表面实施精密研磨加工。研磨剂使用例如平均粒径约20μm的胶态二氧化硅。残留于两个主表面上的微小缺陷等被消除，两个主表面被精加工成镜面状。细微的翘曲也被消除，两个主表面具有期望的平坦度。关于第2抛光工序S18的更加详细的情况，在后面参照图9～图11进行说明。

然后，在最后清洗工序S19，清洗玻璃基板的两个主表面及两个端面，然后将玻璃基板适当烘干。本实施方式的信息记录介质用玻璃基板的制造方法是如上所述构成的。通过采用该玻璃基板的制造方法，能够得到图4所示的玻璃基板1G。通过按照以上所述在玻璃基板1G形成磁薄膜层，能够得到图3所示的信息记录介质10。

图9是示出在图8所示的第2抛光工序中使用的双面研磨装置的侧视图。图10是沿着图9所示的X-X线观察的剖视图。图11是示出图9所示的双面研磨装置正在进行精密研磨加工的状态的剖视图。参照图9～图11，对第2抛光工序S18进行详细说明。

如图9所示，双面研磨装置200具有上磨板210、上研磨垫211、下磨板220和下研磨垫221。上磨板210和下磨板220具有圆柱状的形状。上研磨垫211被安装在上磨板210的面对下磨板220的一侧(玻璃基板侧)的下表面。下研磨垫221被安装在下磨板220的面对上磨板210的一侧(玻璃基板侧)的上表面。上磨板210的下表面和下磨板220的上表面相互平行，并且向彼此相反的方向旋转。

上研磨垫211和下研磨垫221是用于精密研磨玻璃基板的两个主表面的加工部件。上研磨垫211和下研磨垫221例如采用聚氨酯制的皮革垫。由上研磨垫211的面对下磨板220的表面形成上研磨面212。由下研磨垫221的面对上磨板210的表面形成下研磨面222。

如图10所示，在下研磨面222上配置有多个具有圆盘状的形状的研磨用的滑架250。滑架250包括具有多个圆孔的主体部251，在滑架250的外周设有多个啮合齿252。滑架250的厚度例如为650μm。

玻璃基板1G配置在设于主体部251的圆孔中。精密研磨加工前的玻璃基板1G的厚度例如为810μm。在下磨板220的中央部设有太阳齿轮230。在下磨板220的周缘部设有与太阳齿轮230呈同轴状的内齿轮240。在与太阳齿轮230的旋转轴平行的方向上，太阳齿轮230和内齿轮240具有比滑架250厚的厚度。

在滑架250被配置在太阳齿轮230和内齿轮240之间的状态下，滑架250的啮合齿252啮合在太阳齿轮230的齿面232和内齿轮240的齿面242双方中。滑架250使用太阳齿轮230和内齿轮240而旋转。在本实施方式中，通过驱动太阳齿轮230旋转，滑架250进行自转并围绕太阳齿轮230进行公转。

如图11所示，在通过双面研磨装置200进行精密研磨加工时，在将环部件260插入设置在规定圆孔的滑架250的内周面253和玻璃基板1G之间的状态下，玻璃基板1G被夹持在上研磨垫211和下研磨垫221之间。

具体而言，在玻璃基板1G嵌入到具有与玻璃基板1G大致相同的厚度的环部件260中的状态下，在该环部件从内周面253离开约数mm的位置，玻璃基板1G被夹持在上研磨垫211和下研磨垫221之间。

然后，通过上磨板210和下磨板220对玻璃基板1G沿其厚度方向施加规定的应力，由此玻璃基板1G的正面侧和背面侧的主表面被上研磨面212和下研磨面222按压。

此时，通过如上所述将环部件260插入设置在内周面253和玻璃基板1G之间，能够在玻璃基板1G的外周端部附近抑制上研磨垫211和下研磨垫221的沉入。由此，在后述的研磨时，能够使玻璃基板1G的正面侧和背面侧的主表面的周缘更加平坦。

在该状态下供给胶态二氧化硅等研磨液，上研磨面212相对于玻璃基板1G的正面侧的主表面进行相对移动，下研磨面222相对于玻璃基板1G的背面侧的主表面进行相对移动。

通过上研磨面212滑动地接触玻璃基板1G的正面侧的主表面，玻璃基板1G的正面侧的主表面被研磨。并且，通过下研磨面222滑动地接触玻璃基板1G的背面侧的主表面，玻璃基板1G的背面侧的主表面被研磨。这样，玻璃基板1G的两个主表面被同时研磨。

此时，环部件260和玻璃基板1G在圆孔内未被固定，因而能够在圆孔内自转。由此，能够使玻璃基板1G的正面侧和背面侧的主表面的周缘更加平坦。

然后，为了使正面侧和背面侧的主表面的形状成为大致相同的形状，在第2抛光工序的研磨加工的中途使玻璃基板1G的正面侧和背面侧翻转，再次进行研磨加工。这样，在第2抛光工序S18中进行精密研磨加工。

滑架250和环部件260的材质可以采用例如环氧树脂等树脂部件，以便不会损伤玻璃基板1G。并且，在环部件260的材质采用硬度比玻璃基板1G低的树脂部件的情况下，优选在该环部件260的主表面成膜氟系树脂、DLC(Diamond-like carbon：类金刚石)等提高耐磨性的部件。

图12是示出图4所示的信息记录介质用玻璃基板的使用例的图。参照图12，说明玻璃基板1G的使用例。在图12中未记载磁薄膜层。

在使用图2所示的磁盘装置的情况下，如图12所示，两片信息记录介质10分别以被两个磁头滑块21夹持的方式被配置。在各个磁头滑块21的末端以面对信息记录介质10的正面侧或者背面侧的主表面的方式分别配置磁头(未图示)。

当4个磁头在两片信息记录介质10上扫描的情况下，与两个磁头在一片信息记录介质10上扫描的情况相比，磁头压损的频次成为2倍。

即使是在这种情况下，通过使用多片能够抑制表面形状的偏差的本实施方式的玻璃基板1G，能够使磁头的悬浮特性稳定，降低磁头压损频次。

实施例

下面，对为了验证本发明的效果而进行的装卸试验及其结果进行说明。

在实施装卸试验时，作为比较例1～3，准备根据后述的比较方式的玻璃基板1H(参照图13)的制造方法制造的三片玻璃基板，并制造了在这些玻璃基板上形成磁成膜层的磁盘。另外，作为实施例1和实施例2，准备两片实施方式的玻璃基板1G，并制造了在这些玻璃基板上形成磁成膜层的磁盘。针对这些磁盘，将磁头悬浮时的悬浮量设为3nm，将磁盘的转速设为5400rpm或者7200rpm，进行反复装卸500万次的装卸试验，并评价了直到产生磁头压损为止的耐久性。

在装卸试验中，对于在装卸动作的次数达到500万次之前就产生了磁头压损的磁盘，视为不满足产品的质量标准，并判定为“不可”，对于即使装卸动作的次数达到500万次也未产生磁头压损的磁盘，视为满足产品的质量标准，并判定为“可”。另外，反复进行装卸试验，对于在两次试验中即使是达到500万次也都未产生磁头压损的磁盘，视为充分满足产品的质量标准，并判定为“良”。

关于基板的尺寸，采用玻璃基板1G的外径为2.5英寸(63.5mm)的基板。玻璃基板1G的厚度采用0.8mm的厚度和0.65mm的厚度。将沿着径向从玻璃基板1G的旋转中心CP离开23mm的点R1作为第1基准点，将沿着该径向从旋转中心CP离开27mm的点R2作为第2基准点，将连接第1基准点和第2基准点的直线BL作为基准线，将从旋转中心CP离开32.2mm的基准线上的点R3作为基准位置，测定了将该基准位置作为半径位置的上述偏移量在周向上的分布。

偏移量是使用光学表面分析装置OSA(Optical Surface Analyzer)7120(KLA-Tencor Candela公司制作)测定的。本装置通过使玻璃基板1G旋转并向玻璃基板1G的主表面整面照射激光，根据本装置内的受光器接受的反射光和散射光进行运算处理，能够掌握玻璃基板1G的表面形状。

在实施例1的玻璃基板中，正面侧和背面侧的两个偏移量在周向上的分布的PV值中，PV值较大的一方的值是40nm，正面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值、与背面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值之差是10nm(参照图19、图20)。

在实施例2的玻璃基板中，正面侧和背面侧的两个偏移量在周向上的分布的PV值中，PV值较大的一方的值是30nm，正面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值、与背面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值之差是5nm(参照图19、图20)。

比较例1～3的玻璃基板与本实施方式的玻璃基板1G相比，其制造方法不同，具体地讲是第2抛光工序不同。因此，在该比较例1～3的玻璃基板中，其主表面的形状不同，如后面所述偏移量的分布不同。下面，对比较例的玻璃基板的制造方法进行说明。

(比较方式)

图13是示出在制造比较方式的信息记录介质用玻璃基板时，在第2抛光工序中双面研磨装置正在进行精密研磨加工的状态的剖视图。图14是示出图13所示的XIV线包围的区域的图。图15是示出图13所示的XV线包围的区域的图。参照图13～图15，对比较方式的玻璃基板的制造方法进行说明。

比较方式的玻璃基板1H的制造方法与实施方式的玻璃基板1G的制造方法相比，第2抛光工序不同，其它工序是基本相同的工序。

在比较方式的玻璃基板的制造方法的第2抛光工序中，与实施方式的玻璃基板1G的制造方法的第2抛光工序S18的不同之处在于，在通过双面研磨装置200进行精密研磨加工时，在用于规定圆孔的滑架250的内周面253和玻璃基板1H之间没有插入设置环部件260(参照图11)，以及在第2抛光工序的中途不使玻璃基板1H翻转。

由于不插入设置环部件260(参照图11)，玻璃基板1H的正面侧及背面侧的主表面被上研磨垫211的上研磨面212和下研磨垫221的下研磨面222按压，由此如图14和图15所示，在玻璃基板1H的外周端部，上研磨垫211和下研磨垫221沉入。

因此，在上研磨垫211形成的倾斜面211a(参照图14)和在下研磨垫形成的倾斜面221b(参照图15)，在研磨时与玻璃基板1H的外周端部接触。其结果是，在比较方式的玻璃基板中，正面侧和背面侧的主表面的周缘容易沉降或隆起。

另外，在第2抛光工序的中途不使玻璃基板1H的正面侧和背面侧翻转，因而容易受到上研磨垫211和下研磨垫221的表面状态的影响，因此在比较方式的玻璃基板1H中，正面侧和背面侧的主表面的周缘容易沉降或隆起。

图16～图18是示出比较例1～3的信息记录介质用玻璃基板1H的正面侧和背面侧的偏移量在周向上的分布的图。参照图16～图18，对基板厚度为0.8mm的比较例1～3的玻璃基板的偏移量的分布进行说明。

如图16所示，在利用比较方式的玻璃基板的制造方法制造的比较例1的玻璃基板中，将基准位置作为半径位置时的正面侧的偏移量在周向上的分布51的平均值51a、和背面侧的偏移量在周向上的分布52的平均值52a都超过了150nm。

另外，正面侧和背面侧的两个偏移量在周向上的分布51、52的PV值中，PV值较大的一方的值是60nm，正面侧的偏移量在周向上的分布51所具有的平均值51a、与背面侧的偏移量在周向上的分布52所具有的平均值52a之差是30nm(参照图19)。

如图17所示，在利用比较方式的玻璃基板的制造方法制造的比较例2的玻璃基板中，将基准位置作为半径位置时的正面侧的偏移量在周向上的分布53的平均值53a、和背面侧的偏移量在周向上的分布54的平均值54a都超过了150nm。

另外，正面侧和背面侧的两个偏移量在周向上的分布53、54的PV值中，PV值较大的一方的值是60nm，正面侧的偏移量在周向上的分布53所具有的平均值53a、与背面侧的偏移量在周向上的分布54所具有的平均值54a之差是10nm(参照图19)。

如图18所示，在利用比较方式的玻璃基板的制造方法制造的比较例1的玻璃基板中，将基准位置作为半径位置时的正面侧的偏移量在周向上的分布55的平均值55a、和背面侧的偏移量在周向上的分布56的平均值56a都超过了150nm。

另外，正面侧和背面侧的两个偏移量在周向上的分布55、56的PV值中，PV值较大的一方的值是40nm，正面侧的偏移量在周向上的分布55所具有的平均值55a、与背面侧的偏移量在周向上的分布56所具有的平均值56a之差是30nm(参照图19)。

(实验结果)

图19是示出为了验证本发明的效果而进行的第1实验的条件及结果的图。参照图19，对为了验证本发明的效果而进行的第1实验的结果进行说明。

在为了验证本发明的效果而进行的第1实验中，使用基板厚度为0.8mm的基板，作为实施例1、2和比较例1～3，使用PV值、以及正面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值与背面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值之差是如图19所示的值的基板。并且，将装卸试验中的磁盘的转速设为5400rpm和7200rpm。

关于比较例1，在磁盘的转速是5400rpm的情况下，在120万次内产生了磁头压损，在磁盘的转速是7200rpm的情况下，在100万次内产生了磁头压损，无论在哪种情况下，根据上述的质量标准都判定为“不可”。

关于比较例2，在磁盘的转速是5400rpm的情况下，在380万次内产生了磁头压损，在磁盘的转速是7200rpm的情况下，在210万次内产生了磁头压损，无论在哪种情况下，根据上述的质量标准都判定为“不可”。

关于比较例3，在磁盘的转速是5400rpm的情况下，在400万次内产生了磁头压损，在磁盘的转速是7200rpm的情况下，在390万次内产生了磁头压损，无论在哪种情况下，根据上述的质量标准都判定为“不可”。

关于实施例1，在磁盘的转速是5400rpm的情况下和转速是7200rpm的情况下，即使在装卸动作的次数达到500万次时也都未产生磁头压损，根据上述的质量标准都判定为“可”。

关于实施例2，在磁盘的转速是5400rpm的情况下和转速是7200rpm的情况下，即使在装卸动作的次数达到500万次时也都未产生磁头压损。并且，在上述转速的情况下，在反复进行同样的实验时，在两次试验中即使装卸动作的次数达到500万次也都未产生磁头压损，根据上述的质量标准都判定为“良”。

图20是示出为了验证本发明的效果而进行的第2实验的条件及结果的图。参照图20，对为了验证本发明的效果而进行的第2实验的结果进行说明。

在为了验证本发明的效果而进行的第2实验中，使用基板厚度为0.65mm的基板，作为实施例1、2和比较例1～3，使用PV值、以及正面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值与背面侧的偏移量在周向上的分布所具有的平均值之差是如图20所示的值的基板。并且，将装卸试验中的磁盘的转速设为5400rpm。

关于比较例1，在90万次内产生了磁头压损，根据上述的质量标准判定为“不可”。

关于比较例2，在190万次内产生了磁头压损，根据上述的质量标准判定为“不可”。

关于比较例3，在380万次内产生了磁头压损，根据上述的质量标准判定为“不可”。

关于实施例1，即使是装卸动作的次数达到500万次时也未产生磁头压损，根据上述的质量标准判定为“可”。

关于实施例2，即使是装卸动作的次数达到500万次时也未产生磁头压损。并且，即使是反复进行同样的实验时，在装卸动作的次数达到500万次时也都未产生磁头压损，根据上述的质量标准判定为“良”。

将为了验证本发明的效果而进行的第1实验及第2实验中的比较例1～3与实施例1、2进行比较，在满足PV值为40nm以下、而且正面侧的平均值与背面侧的平均值之差达到10nm以下的条件的实施例1、2中，可以说通过实验证明了在正面侧和背面侧的外周端部附近空气的流动均匀，其结果是磁头的悬浮特性稳定。

在不满足PV值为40nm以下、而且正面侧的平均值与背面侧的平均值之差达到10nm以下的条件的比较例1～3中，可以说通过实验证明了在正面侧和背面侧的外周端部附近空气的流动不均匀，其结果是磁头的悬浮特性不稳定。

在比较例1～3中，沿着周向，背面侧的偏移量基本小于正面侧的偏移量(参照图16～图18)，因而在将磁头配置在正面侧及背面侧的信息记录介质的外周端部附近的情况下，背面侧的主表面比正面侧的主表面接近磁头。

因此，在正面侧及背面侧的外周端部附近空气的流动不均匀，背面侧的外周端部附近的风压高于正面侧的外周端部附近的风压。因此，认为风压较高的背面侧的位于外周端部附近的磁头除风压以外，还容易受到基板自身的颤动及其它干扰(振动、音响)的影响，容易产生磁头压损。

在空气的流动在正面侧及背面侧的外周端部附近均匀的实施例1、2中，认为不易受到上述的基板自身的颤动及其它干扰(振动、音响)的影响，不易产生磁头压损。

另外，将上述第1实验和上述第2实验进行比较，在基板厚度变薄至0.65mm、基板自身的颤动量增加的情况下，在比较例1～3中，由于颤动量的增加，直到磁头压损为止的装卸动作的次数减少，其耐久性下降。另一方面，在实施例1、2中，即使是基板厚度变薄的情况下，也不会产生磁头压损。因此，可以说通过实验证明了本实施方式的玻璃基板在其厚度越薄时，通过在该玻璃基板的正面侧及背面侧的外周端部附近使空气的流动均匀，能够更加可靠地使磁头的悬浮特性稳定。

另外，在上述第1实验中，将转速为5400rpm的情况和转速为7200rpm的情况进行比较，在转速增加、基板自身的颤动量增加的情况下，在比较例1～3中，由于颤动量的增加，直到磁头压损为止的装卸动作的次数减少，质量下降。另一方面，在实施例1、2中，即使是转速增加的情况下，也没有产生磁头压损。因此，可以说通过实验证明了本实施方式的玻璃基板在磁盘使用中转速增加时，通过在该玻璃基板的正面侧及背面侧的外周端部附近使空气的流动均匀，能够更加可靠地使磁头的悬浮特性稳定。

在上述的本实施方式中，示例磁盘装置具有搭载一片或者两片信息记录介质的结构进行了说明，但不限于此，也可以具有搭载三片以上的信息记录介质的结构。

以上对本发明的实施方式及各实施例进行了说明，但在此公开的实施方式及各实施例是所有方面的示例，不是限制性的内容。本发明的范围通过权利要求书进行公开，也包括与权利要求书等同的意义及范围内的所有变更。

标号说明

1G玻璃基板；10信息记录介质；11中心孔；12外周端面；13内周端面；14、15主表面；14a、15a平坦部；14b、15b倾斜部；14c、15c倒角部；16、17磁薄膜层；20致动器；21磁头滑块；22悬架；23臂；24垂直轴；25音圈；26音圈电机；27卡紧部件；28固定螺钉；29主轴电机；30壳体；100磁盘装置；200双面研磨装置；210上磨板；211上研磨垫；211a倾斜面；212上研磨面；221下研磨垫；221b倾斜面；230太阳齿轮；232齿面；240内齿轮；242齿面；250滑架；251主体部；252啮合面；253内周面；260环部件。

Claims (5)

1.一种信息记录介质用玻璃基板，其具有：

主表面，其分别位于所述信息记录介质用玻璃基板的正面侧和背面侧；以及

外周端面，其位于所述信息记录介质用玻璃基板的外周端部，

在设从所述信息记录介质用玻璃基板的中心到所述外周端面的所述信息记录介质用玻璃基板的半径为R，在正面侧和背面侧双方，将沿着径向从所述中心离开0.71R的所述主表面上的点作为第1基准点，将沿着所述径向从所述中心离开0.83R的所述主表面上的点作为第2基准点，将连接所述第1基准点和所述第2基准点的直线作为基准线，将从所述中心离开0.99R的所述基准线上的点作为基准位置，将沿着所述信息记录介质用玻璃基板的厚度方向观察时从与所述基准位置重合的所述主表面上的点到所述基准位置的距离作为偏移量的情况下，

在正面侧和背面侧双方，所述偏移量在周向上的分布的平均值为150nm以下，

在正面侧和背面侧双方，从所述中心离开0.99R的半径位置处的所述偏移量在周向上的分布的最大值与最小值之差为40nm以下，

正面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值与背面侧的所述偏移量在周向上的分布的平均值之差为10nm以下。

2.根据权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板，其中，

所述信息记录介质用玻璃基板的厚度为0.65mm以下。

3.一种信息记录介质，其中，

在权利要求1或2所述的信息记录介质用玻璃基板的所述主表面上至少具有磁性膜。

4.一种磁盘装置，其中，

搭载多片权利要求3所述的信息记录介质。

5.一种磁盘装置，其中，

使一片或者多片权利要求3所述的信息记录介质以7200rpm以上的转速旋转。