JP6481509B2 - 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、および磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
酸化物基準のモル%表示で、
SiO2を60〜75%、Al2O3を10〜15%、B2O3を7〜12%、MgOを0〜15%、CaOを3〜15%、SrOを0〜10%、BaOを0〜10%、Na2Oを0〜10%、K2Oを0〜10%、Li2Oを0〜10%、TiO2を0〜3%、ZrO2を0〜1%含有し、
上記12成分の含有量の合計が97%以上であり、
MgO、CaO、SrO、およびBaOの含有量の合計が10〜20%であり、
Na2O、Li2O、およびK2Oの含有量の合計が6.0〜10%であり、
共振振動周波数3000Hzにおける横振動内部摩擦と、比弾性率との積の値が2.6×10−2MNm/kg以上である、磁気記録媒体基板用ガラスが提供される。
SiO2の含有量が60%未満の場合、耐酸性が著しく低下しやすく、ガラス転移点Tgが低下しやすく、傷が生じやすくなる。また、この場合、液相温度が上昇すると共に、温度T2(粘度が102dPa・sとなる温度)および温度T4(粘度が104dPa・sとなる温度)が低下しやすく、失透が生じやすくなる。従って、SiO2の含有量は、60%以上、好ましくは61%以上、より好ましくは63%以上、特に好ましくは65%以上である。
一方、SiO2の含有量が75%超の場合、温度T2および温度T4が上昇しやすく、ガラスの溶解が困難となりやすく、清澄時の脱泡性が低下し欠点が生じやすくなる。また、この場合、比弾性率E/ρが低下しやすい。さらに、この場合、ガラスの50〜350℃における平均線膨張係数α(以下、単に「平均線膨張係数α」ともいう)が小さくなりやすい。従って、SiO2の含有量は、75%以下、好ましくは73%以下、より好ましくは71%以下、特に好ましくは68%以下である。
Al2O3の含有量が10%未満の場合、ヤング率Eが低下しやすく、また、ガラス転移点Tgが低下しやすい。従って、Al2O3の含有量は、10%以上、好ましくは10.2%以上、より好ましく10.3%以上である。
一方、Al2O3の含有量が15%超の場合、密度ρが大きく比弾性率E/ρが小さくなりやすく、フラッタリング特性が悪化しやすい。また、この場合、耐酸性が低下しやすい。さらに、この場合、液相温度が高くなりすぎる傾向があるため成形が困難となりやすい。従って、Al2O3の含有量は、15%以下、好ましくは13%以下、より好ましくは12%以下、さらに好ましくは11%以下である。
先ず、所定の配合比で混合した原料を、白金坩堝に投入し、1550〜1650℃の温度で溶解しながら撹拌した。撹拌には、白金スターラを用いた。次いで、溶解ガラスを白金坩堝から流し出し、所定の形状に成形後、徐冷し、ガラス素板を作製した。その後、ガラス素板を加工し、評価用のサンプルを作製した。
ガラスの組成は、蛍光X線分析(リガクZSX100e)により測定した。尚、例1〜3のガラスは、例6のガラスにNa2O成分を添加したものである。
表1に、ガラスの組成(モル%)、ガラス転移点Tg(℃)、平均線膨張係数α(×10-7/℃)、密度ρ(×103kg/m3)、ヤング率E(GPa)、比弾性率E/ρ(MNm/kg)、内部摩擦ξ(×10−4)、振動振幅比a、および指標d(×10−2MNm/kg)などを示す。表1において、例4、5、7、8の振動振幅比aは、その他の例1−3、6の振動振幅比aおよび例1−8の指標dを用いて回帰分析を行い、その分析結果を基に推定した値である。尚、例1−3、6の振動振幅比aは、実測値である。
11 基板
12 ヒートシンク層
13 シード層
14 磁気記録層
15 保護層
Claims (13)
- 酸化物基準のモル%表示で、
SiO2を60〜75%、Al2O3を10〜15%、B2O3を7〜12%、MgOを0〜15%、CaOを3〜15%、SrOを0〜10%、BaOを0〜10%、Na2Oを0〜10%、K2Oを0〜10%、Li2Oを0〜10%、TiO2を0〜3%、ZrO2を0〜1%含有し、
上記12成分の含有量の合計が97%以上であり、
MgO、CaO、SrO、およびBaOの含有量の合計が10〜20%であり、
Na2O、Li2O、およびK2Oの含有量の合計が6.0〜10%であり、
共振振動周波数3000Hzにおける横振動内部摩擦と、比弾性率との積の値が2.6×10−2MNm/kg以上である、磁気記録媒体基板用ガラス。 - 酸化物基準のモル%表示で、SiO2を60〜68%、Al2O3を10〜13%、B2O3を7〜12%、MgOを0.1〜15%、CaOを4.5〜10%、SrOを0.1〜10%、BaOを0〜10%、Na2Oを0〜10%、K2Oを0〜10%、Li2Oを0〜10%、TiO2を0〜3%、ZrO2を0〜1%含有する、請求項1に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- 共振振動周波数1500Hzにおける横振動内部摩擦と、比弾性率との積の値が3.3×10−2MNm/kg以上である、請求項1または2に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- 50〜350℃における平均線膨張係数が40×10−7〜70×10−7/℃である請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- ガラス転移点が600〜800℃である請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板用ガラス。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板用ガラスを用いた磁気記録媒体基板。
- フロート法、スロットダウンドロー法、またはフュージョン法により成形された板状のガラスを前記磁気記録媒体基板用ガラスとして用いた請求項6に記載の磁気記録媒体基板。
- 前記磁気記録媒体基板用ガラスを化学強化したものを用いた請求項6または7に記載の磁気記録媒体基板。
- 形状が円盤状であって、直径が2.5インチを超える、請求項6〜8のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板。
- 請求項6〜9のいずれか1項に記載の磁気記録媒体基板と、
磁気記録層とを有する、磁気記録媒体。 - 前記磁気記録層の面記録密度が800Gbits/in2以上である、請求項10に記載の磁気記録媒体。
- 記録時および再生時の少なくとも一方の回転数が7200〜20000rpmである、請求項10または11に記載の磁気記録媒体。
- エネルギーアシスト磁気記録媒体として用いられる、請求項10〜12のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
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