JP5898381B2 - 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、および磁気ディスク装置 - Google Patents

Description

本発明は、情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、および磁気ディスク装置に関する。

コンピュータなどに用いられる情報記録媒体（磁気ディスク記録媒体）には、従来からアルミニウム基板またはガラス基板が用いられている。これらの基板上に磁気薄膜層が形成され、磁気薄膜層を磁気ヘッドで磁化することにより、磁気薄膜層に情報が記録される。

近年、コンピュータ等に搭載されるハードディスク（ＨＤＤ）装置等の磁気ディスク装置においては、２．５インチの記録媒体１枚で、記録容量が５００ＧＢ（片面２５０ＧＢ）、面記録密度が６３０Ｇｂｉｔ／平方インチ以上の記録密度を有するものが開発されている。

このような記録密度の高密度化に伴い、情報記録媒体と情報記録媒体上を浮上しながら記録の読み書きを行なう磁気ヘッドとのギャップ（フライングハイト）が狭小化している。

フライングハイトが狭小化した場合には、ガラス基板の主表面上に形成された微細な凹凸に起因して、磁気ヘッドと情報記録媒体とが互いに接触（ヘッドクラッシュともいう）しやすくなる。ヘッドクラッシュを抑制するために、ガラス基板の主表面の平滑度および平坦度に対する要求がますます高くなっている。

ガラス基板の主表面の平坦度を向上せることによりヘッドクラッシュを抑制することができる情報記録媒体用ガラス基板が開示された文献として、たとえば、特開２００８−２３４８２３号公報（特許文献１）が挙げられる。

特許文献１に開示の情報記録媒体用ガラス基板は、主表面内の周縁部において当該主表面内の周縁部以外の平坦面を基準とする基準平面から隆起または沈降することによって当該基準平面から乖離する乖離部を含んでおり、主表面の片側において当該乖離部が当該基準平面から乖離する大きさ（ずれ量）がガラス基板の全周に亘って略均一に形成されている。

特開２００８−２３４８２３号公報

ＨＤＤの記録密度を６３０Ｇｂｉｔ／平方インチ以上にまで増大させるために磁気ヘッドと情報記録媒体とのギャップを調整するＤＦＨ（Dynamic Flying Height）機構が用いられる。このＤＦＨ機構を採用した場合には、フライングハイトを３ｎｍ以下にまで狭くすることができる。

一般的に、磁気ディスク装置内にて情報記録媒体が高速回転する場合にあっては、特に情報記録媒体の外周端部において周速が速くなるため、当該外周端部近傍において発生する空気の流れ（風力）の影響を受けてヘッドが浮上しやすくなる。

フライングハイトが３ｎｍ以下となる場合には、磁気ヘッドは、外周端部近傍において、風力の影響を顕著に受けやすくなり、磁気ヘッドの浮上特性が不安定となる傾向がある。磁気ヘッドは、情報記録媒体の片面側だけでなく、両面側に配置される場合がある。このような場合においては、情報記録媒体の両面の表面形状の差異によって、表側と裏側で発生する風力にばらつきが生じ、磁気ヘッドの浮上特性がより不安定となりやすい。

特許文献１に開示のガラス基板にあっては、ガラス基板の両側の主表面に磁気薄膜層が形成され当該ガラス基板の両側に磁気ヘッドが配置される場合における磁気ヘッドの浮上特性については、十分に考慮されていない。

本発明の目的は、情報記録媒体の外周端部近傍領域の形状に起因して空気の流れが乱れることを抑制し、磁気ヘッドの浮上特性を安定させることができる情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、およびこれを備えた磁気ディスク装置を提供することにある。

本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板は、上記情報記録媒体用ガラス基板の表側および裏側のそれぞれに位置する主表面と、上記情報記録媒体用ガラス基板の外周端部に位置する外周端面とを備える。上記中心から上記外周端面までの上記情報記録媒体用ガラス基板の半径をＲとし、表側および裏側の双方において、径方向に沿って上記中心から０．７１Ｒ離れた上記主表面上の点を第１基準点とし、上記径方向に沿って上記中心から０．８３Ｒ離れた上記主表面上の点を第２基準点とし、上記第１基準点および上記第２基準点を結ぶ直線を基準線とし、上記中心から０．９９Ｒ離れた上記基準線上の点を基準位置とし、上記回転中心を通る回転軸の延在方向に沿って見た場合において上記基準位置と重なる上記主表面上の点から上記基準位置までの距離をずれ量としたときに、表側および裏側の双方において、上記ずれ量の周方向の分布の平均値が１５０ｎｍ以下であり、表側および裏側の双方において、上記回転中心から０．９９Ｒ離れた半径位置における上記ずれ量の周方向の分布の最大値と最小値との差が４０ｎｍ以下であり、表側における上記ずれ量の周方向の分布の平均値と裏側における上記ずれ量の周方向の分布の平均値との差が１０ｎｍ以下である。

上記本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板にあっては、上記情報記録媒体用ガラス基板の厚さが０．６５ｍｍ以下であることが好ましい。
本発明に基づく情報記録媒体は、上記情報記録媒体用ガラス基板の前記主表面に少なくとも磁性層を有する。

本発明に基づく磁気ディスク装置は、ある局面においては、複数枚の上記情報記録媒体が搭載される。

本発明に基づく磁気ディスク装置は、その他の局面においては、１枚または複数枚の上記情報記録媒体を７２００ｒｐｍ以上の回転数で回転させる。

本発明によれば、情報記録媒体の外周端部近傍領域の形状に起因する空気流れの乱れを抑制し、磁気ヘッドの浮上特性を安定させることができる情報記録媒体用ガラス基板および、情報記録媒体、これを備えた磁気ディスク装置を提供することができる。

本発明の実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を搭載する磁気ディスク装置を示す概略斜視図である。 図１に示す磁気ディスク装置の変形例を示す断面図である。 本発明の実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を備える情報記録媒体を示す概略図である。 本発明の実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を示す概略図である。 図４に示すＶ−Ｖ線に沿った断面図である。 図５に示す情報記録媒体用ガラス基板の裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。 図５に示す情報記録媒体用ガラス基板の表側および裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。 図４に示す情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を示すフロー図である。 図８に示す第２ポリッシュ工程にて用いられる両面研磨装置を示す側面図である。 図９に示すＸ−Ｘ線に沿った矢視断面図である。 図９に示す両面研磨装置が研磨加工を行なっている様子を示す断面図である。 図４に示す情報記録媒体用ガラス基板の使用例を示す図である。 比較の形態における情報記録媒体用ガラス基板を製造する際に第２ポリッシュ工程にて両面研磨装置が精密研磨加工を行なっている様子を示す断面図である。 図１３に示すＸＩＶ線に囲まれる領域を示す図である。 図１３に示すＸＶ線に囲まれる領域を示す図である。 比較例１における情報記録媒体用ガラスの表側および裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。 比較例２における情報記録媒体用ガラスの表側および裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。 比較例３における情報記録媒体用ガラスの表側および裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。 本発明の効果を検証するために行なった第１実験の条件および結果を示す図である。 本発明の効果を検証するために行なった第２実験の条件および結果を示す図である。

以下、本発明の実施の形態について、図を参照して詳細に説明する。なお、以下に示す実施の形態においては、同一のまたは共通する部分について図中同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。

（実施の形態）
図１は、本実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を搭載する磁気ディスク装置を示す概略斜視図である。図１を参照して、本実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板１Ｇを搭載する磁気ディスク装置１００について説明する。

図１に示すように、磁気ディスク装置１００は、情報記録媒体１０、アクチュエーター２０、筐体３０、クランプ部材２７、および固定ネジ２８を備えている。

アクチュエーター２０は、ヘッドスライダー２１、サスペンション２２、アーム２３、垂直軸２４、ボイスコイル２５およびボイスコイルモーター２６を有する。筐体３０の上面上には、スピンドルモーター（図示せず）が設置されている。

情報記録媒体用ガラス基板１Ｇ（以下、ガラス基板１Ｇとも称する）に磁性体を塗布して形成された磁気ディスクなどの情報記録媒体１０は、クランプ部材２７および固定ネジ２８によって、上記のスピンドルモーターに回転可能に固定されている。情報記録媒体１０は、ガラス基板１Ｇに磁気薄膜層（磁気記録層）が形成されることによって製造される。情報記録媒体１０は、上記のスピンドルモーターによって、たとえば数千ｒｐｍの回転数でガラス基板１Ｇの回転中心ＣＰ（図４参照）を通る回転軸Ｌ１を中心にＤＲ１方向に回転駆動される。

アーム２３は、垂直軸２４回りに揺動可能に取り付けられている。アーム２３の先端には、板バネ（片持ち梁）状に形成されたサスペンション２２が取り付けられている。サスペンション２２の先端には、磁気ヘッド（図示せず）を備えたヘッドスライダー２１が情報記録媒体１０を挟み込むように取り付けられている。

アーム２３のヘッドスライダー２１とは反対側には、ボイスコイル２５が取り付けられている。ボイスコイル２５は、筐体３０上に設けられたマグネット（図示せず）によって挟持されている。ボイスコイル２５およびこのマグネットにより、ボイスコイルモーター２６が構成されている。

ボイスコイル２５には所定の電流が供給される。アーム２３は、ボイスコイル２５に流れる電流と上記マグネットの磁場とにより発生する電磁力の作用によって、垂直軸２４回りに揺動する。アーム２３の揺動によって、サスペンション２２およびヘッドスライダー２１も矢印ＡＲ１方向に揺動する。ヘッドスライダー２１は、情報記録媒体１０の表面上および裏面上を、情報記録媒体１０の半径方向に往復移動する。ヘッドスライダー２１に設けられた磁気ヘッド（図示せず）はシーク動作を行なう。

当該シーク動作が行なわれる一方で、ヘッドスライダー２１は、情報記録媒体１０の回転に伴って発生する空気流により、浮揚力を受ける。当該浮揚力とサスペンション２２の弾性力（押圧力）とのバランスによって、ヘッドスライダー２１は情報記録媒体１０の表面に対して一定の浮上量で走行する。当該走行によって、ヘッドスライダー２１に設けられた磁気ヘッドは、情報記録媒体１０内の所定のトラックに対して情報（データ）の記録および再生を行なうことが可能となる。

ヘッドスライダー２１に設けられる磁気ヘッドが情報記録媒体１０の表面に対して浮上する浮上量は、フライングハイトと称される。本実施の形態の磁気ディスク装置１００では、フライングハイトは３ｎｍ以下である。すなわち、情報記録媒体１０の回転時における、情報記録媒体１０の厚み方向における情報記録媒体１０と磁気ヘッドとの間隔は、３ｎｍ以下である。

図２は、図１に示す磁気ディスク装置の変形例を示す断面図である。図２を参照して、図１に示す磁気ディスク装置１００の変形例としての磁気ディスク装置１００Ａについて説明する。

図２に示すように、磁気ディスク装置１００Ａは、磁気ディスク装置１００と比較した場合に、２枚の情報記録媒体１０が回転できるように構成されている点で相違し、具体的には、磁気ディスク装置１００Ａは、２つのクランプ部材２７によって２枚の情報記録媒体１０が、スピンドルモーター２９に回転可能に固定されている。この際、２枚の情報記録媒体１０は、回転中心ＣＰ（図４参照）を通る回転軸Ｌ１が同一となるように搭載されている。また、２枚の情報記録媒体１０のそれぞれは、２つのヘッドスライダー２１に挟み込まれるように配置されている。

図３は、本発明の実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を備える情報記録媒体を示す概略図である。図３を参照して、本実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板１Ｇを備える情報記録媒体について説明する。

図３に示すように、情報記録媒体１０は、中心孔１１が形成された円板形状を有するガラス基板１Ｇと、当該ガラス基板１Ｇの表側の主表面１４上に成膜された磁気薄膜層１６（磁気記録層）と、当該ガラス基板１Ｇの裏側の主表面１５上に成膜された磁気薄膜層１７（磁気記録層）とを備えている。

磁気薄膜層１６，１７は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板１Ｇの表側の主表面１４上および裏側の主表面１５上にスピンコートすることによって形成される（スピンコート法）。磁気薄膜層１６，１７は、スパッタリング法または無電解めっき法等を使用して形成されていてもよい。

磁気薄膜層１６，１７の膜厚は、スピンコート法の場合は約０．３μｍ〜約１．２μｍ、スパッタリング法の場合は約０．０４μｍ〜約０．０８μｍ、無電解めっき法の場合は約０．０５μｍ〜約０．１μｍである。

磁気薄膜層１６，１７の成膜に用いる磁性材料としては、結晶異方性の高いＣｏを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金などを用いるとよい。熱アシスト記録に好適な磁性材料として、ＦｅＰｔ系の材料が用いられてもよい。

磁気ヘッドに対する滑りをよくするために、磁気薄膜層１６，１７の表面に薄い潤滑剤をコーティングしてもよい。潤滑剤としては、たとえばパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。必要に応じて下地層や保護層を設けてもよい。

下地層は、磁性膜の種類に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、およびＮｉなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。下地層は、単層構造を有していてもよく、同一または異種の層を積層した複数層構造を有していてもよい。複数層構造としては、たとえば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等が挙げられる。

磁気薄膜層１６，１７の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層およびシリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。これらの保護層は、単層構造を有していてもよく、同一または異種の層を積層した複数層構造を有していてもよい。

上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、テトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散してＣｒ層の上に塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）層をその上に形成してもよい。

図４は、本発明の実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を示す概略図である。図５は、図４に示すＶ−Ｖ線に沿った断面図である。図４および図５を参照して、本実施の形態に係る情報記録媒体用ガラス基板１Ｇについて説明する。

図４および図５に示すように、ガラス基板１Ｇは、その表側および裏側のそれぞれに位置する主表面１４，１５と、中心孔１１を規定する内周端面１３と、当該ガラス基板１Ｇの外周端部に位置する外周端面１２とを備える。

主表面１４、１５は、内周端面１３側から径方向および周方向に延在する平坦部１４ａ，１５ａと、当該平坦部１４ａ，１５ａの外側である主表面の周縁（外周端部近傍）に位置し、外側に向かうにつれて外周端面１２の中央１２ｃに近づくように傾斜する傾斜部１４ｂ，１５ｂとを含む。また、傾斜部１４ｂ，１５ｂと外周端面１２の間には、面取り部１４ｃ，１５ｃが設けられている。

ガラス基板１Ｇは、たとえば、０．８インチ、１インチ、１．８インチ、２．５インチまたは３．５インチの大きさを有する。ガラス基板１Ｇは、たとえば、０．３ｍｍ、０．６５ｍｍ、０．８ｍｍ、１ｍｍ、２ｍｍ、２．２ｍｍの厚みを有する。ガラス基板１Ｇの厚みとは、ガラス基板１Ｇ上の点対称となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。

ガラス基板１Ｇのガラス組成としては、イオン交換による化学強化が可能なガラスであれば特に限定されない。たとえば、ＳｉＯ_２、Ｎａ_２Ｏ、ＣａＯを主成分としたソーダライムガラス、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ３、Ｒ_２Ｏ（Ｒ＝Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ）を主成分としたアルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、Ｌｉ_２Ｏ−ＳｉＯ_２系ガラス、Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス、Ｒ’Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）などを使用することができる。中でも、ＳｉＯ_２を６３〜７０ｍｏｌ％含み、かつＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３との合計量を７０ｍｏｌ％以上とするアルミノシリケートガラスが好ましい。

ここで、本実施の形態においては、ガラス基板１Ｇの回転中心ＣＰから外周端面１２までのガラス基板１Ｇの半径をＲとする。次のように規定する。表側および裏側の双方において、径方向に沿って回転中心から０．７１Ｒ離れた主表面１４，１５上の点Ｒ１を第１基準点とする。当該径方向に沿って回転中心から０．８３Ｒ離れた主表面１４，１５上の点Ｒ２を第２基準点とする。第１基準点および第２基準点を結ぶ直線ＢＬを基準線とする。上記径方向に沿って回転中心ＣＰから０．９９Ｒ離れた基準線上の点Ｒ３を基準位置とする。回転中心ＣＰを通る回転軸Ｌ１の延在方向に沿って見たときに基準位置と重なる主表面１４，１５（より具体的には傾斜部１４ｂ，１５ｂ）上の点Ｒ４から上記基準位置までの距離Ｌをずれ量とする。

上述の傾斜部１４ｂ，１５ｂは、後述する第２ポリッシュ工程にて主として形成されるものであり、周方向において微小な凹凸形状を有する。傾斜部１４ｂ，１５ｂにおけるずれ量は、周方向においてわずかに分布を有している。

本実施の形態においては、傾斜部１４ｂ，１５ｂが当該上記の基準線よりも沈降するロールオフ形状の場合を例示して説明するが、これに限定されず、当該基準線よりも隆起するスキージャンプ形状であってもよい。この場合においても、上記と同様に基準位置、点Ｒ４、ずれ量等を規定することができる。ずれ量は、基準線から沈降する深さまたは基準線から隆起する高さを意味するものである。

図６は、図５に示す情報記録媒体用ガラス基板の裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。図７は、図５に示す情報記録媒体用の表側および裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。図６および図７を参照して、本実施の形態に係るガラス基板１Ｇのずれ量について説明する。

図６に示すように、ガラス基板１Ｇの裏側における、回転中心ＣＰから径方向に沿って０．９９Ｒ離れた半径位置におけるずれ量の周方向の分布４２は、最大値を示す点Ｐ２と最小値を示す点Ｖ２とを含む。ずれ量が最大となる位置は基準線から最も遠い位置に該当し、ずれ量が最少となる位置は基準線に最も近い位置に該当する。この最大値と最小値の差をＰＶ値とする。また、当該ずれ量の周方向の分布４２の平均値４２ａを破線にて示す。

ガラス基板１Ｇを用いて作製された情報記録媒体１０を高速回転する際に当該情報記録媒体１０の外周端部近傍に発生する空気の流れは、片側（表側）のみの主表面の形状だけでなく、もう片側（裏側）の主表面の形状にも影響される。このため、表側および裏側の主表面はできるだけ同一であることが好ましい。表側および裏側の主表面の形状の相違は、表側および裏側のそれぞれにおける上記平均値の差を指標とすることにより確認することができる。

具体的には、図７に示すように、ガラス基板１Ｇの表側における上記半径位置（０．９９Ｒの位置）でのずれ量の周方向の分布４１が有する平均値４１ａと、ガラス基板１Ｇの裏側における上記半径位置（０．９９Ｒの位置）でのずれ量の周方向の分布４２が有する平均値４２ａとの差を指標とする。

図６および図７に示すように、本実施の形態に係るガラス基板１Ｇは、上記の半径位置において、表側および裏側のＰＶ値（最大値と最小値との差）が４０ｎｍ以下となり、かつ、表側におけるずれ量の周方向の分布４１が有する平均値４１ａと裏側におけるずれ量の周方向の分布４２が有する平均値４２ａとの差が１０ｎｍ以下となるような構成を有している。

このような構成とすることにより、情報記録媒体１０の表側および裏側に磁気ヘッドを配置して当該情報記録媒体１０を高速回転させた場合に、情報記録媒体の外周端部近傍において、磁気ヘッドと上記の傾斜部を含む主表面との間隔を周方向においてほぼ均一にすることができる。これにより、当該外周端部近傍において、情報記録媒体の表側および裏側で発生する空気の流れ（風力）のばらつきを抑制することができ、磁気ヘッドの浮上特性を安定させることができる。高速回転によって情報記録媒体１０自体が回転方向に対して垂直方向に振動するフラッタリングやその他の外乱（振動、音響）に対する耐久性が向上し、これによっても磁気ヘッドの浮上特性を安定させることができる。

さらに、上記の表側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値と上記の裏側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値との差が５ｎｍ以下となることが好ましい。この場合には、さらに上記の空気の流れのばらつきを抑制することができ、よりいっそう浮上特性を安定させることができる。

また、本実施の形態に係るガラス基板１Ｇにあっては、上記の表側および裏側のずれ量の平均値は１５０ｎｍ以下である。このように、ずれ量自体を小さくすることによっても、さらに浮上特性を安定させることができる。

なお、上述においては、一例として、ガラス基板１Ｇが、たとえば、０．３ｍｍ、０．６５ｍｍ、０．８ｍｍ、１ｍｍ、２ｍｍ、２．２ｍｍの厚みを有する場合を例示したが、特に０．６５ｍｍ以下の厚みを有することが好ましい。ガラス基板の厚みが薄くなりガラス基板自体のフラッタリング量が大きくなる（厚さが０．６３５ｍｍでのフラッタリング量は、たとえば厚さが０．８ｍｍのフラッタリング量の２倍となる）場合に、上記のような構成とすることで、上記の耐久性がより顕著に向上し、より確実に磁気ヘッドの浮上特性を安定させることができる。

図８は、図４に示す情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を示すフロー図である。図８を参照して、本実施の形態に係るガラス基板１Ｇの製造方法について説明する。

図８に示すように、当該製造方法は、工程Ｓ１０〜Ｓ１９を備える。まず、ガラス溶融工程Ｓ１０において、ガラス素材が溶融される。続いて、成形工程Ｓ１１において、上型および下型を用いて溶融ガラス素材がプレス成形される。成形により、ガラス基板が得られる。ガラス基板は、板ガラスから切り出して作製してもよい。ガラス基板の組成は、たとえばアルミノシリケートガラスである。

次に、第１ラップ工程Ｓ１２において、遊星歯車機構を有する両面ラッピング装置を用いて、ガラス基板の表側および裏側の両主表面にラッピング加工が施される。ガラス基板に対して上下方向からラップ定盤が押圧され、砥粒および研削液をガラス基板の両主表面上に供給しながら、ガラス基板とラップ定盤とが相対的に移動される。砥粒としては、アルミナ等が使用される。ラッピング加工により、おおよそ平坦な面形状を有するガラス基板が得られる。

続いて、コアリング工程Ｓ１３において、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ガラス基板の中心部に中心孔が形成される。ダイヤモンド砥石を用いて、ガラス基板の内周端面および外周端面に面取り加工が施される。次に、第２ラップ工程Ｓ１４において、ガラス基板の両主表面に、第１ラップ工程Ｓ１２と同様なラッピング加工が施される。これにより、両主表面に形成された微細な凹凸形状が除去される。

次に、外周／内周研磨工程Ｓ１５において、ブラシを用いて、ガラス基板の外周端面および内周端面に鏡面研磨加工が施される。研磨砥粒としては、たとえば酸化セリウム砥粒を含むスラリーが用いられる。

続いて、第１ポリッシュ工程Ｓ１６において、遊星歯車機構を有する両面研磨装置を用いて、ガラス基板の両主表面が研磨される。研磨剤としては、たとえば約１μｍの平均粒径を有する酸化セリウム砥粒が用いられる。第１および第２ラップ工程（Ｓ１２，Ｓ１４）において両主表面に残留したキズや反りは矯正される。

次に、化学強化工程Ｓ１７において、ガラス基板の両主表面に圧縮応力層が形成される。硝酸カリウム（７０％）と硝酸ナトリウム（３０％）との混合溶液を３００℃に加熱し、混合溶液中に、ガラス基板が約３０分間浸漬される。圧縮応力層が形成され、ガラス基板の両主表面および両端面が強化される。

続いて、第２ポリッシュ工程Ｓ１８において、遊星歯車機構を有する両面研磨装置を用いて、ガラス基板の両主表面に精密研磨加工が施される。研磨剤としては、たとえば平均粒径が約２０ｎｍのコロイダルシリカが用いられる。両主表面に残存している微小欠陥等は解消され、両主表面は鏡面状に仕上げられる。微細な反りも解消され、両主表面は所望の平坦度を有することとなる。第２ポリッシュ工程Ｓ１８の更なる詳細については、図９から図１１を参照して後述する。

次に、最終洗浄工程Ｓ１９においては、ガラス基板の両主表面および両端面が洗浄され、その後、ガラス基板は適宜乾燥される。本実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、以上のように構成される。このガラス基板の製造方法を用いることで、図４に示すガラス基板１Ｇが得られる。上述のとおり、ガラス基板１Ｇに磁気薄膜層を形成することによって、図３に示す情報記録媒体１０が得られる。

図９は、図８に示す第２ポリッシュ工程にて用いられる両面研磨装置を示す側面図である。図１０は、図９に示すＸ−Ｘ線に沿った矢視断面図である。図１１は、図９に示す両面研磨装置が精密研磨加工を行なっている様子を示す断面図である。図９から図１１を参照して、第２ポリッシュ工程Ｓ１８の詳細について説明する。

図９に示すように、両面研磨装置２００は、上定盤２１０、上研磨パッド２１１、下定盤２２０および下研磨パッド２２１を備える。上定盤２１０および下定盤２２０は、円柱状の形状を有する。上研磨パッド２１１は、上定盤２１０の下定盤２２０に対向する側（ガラス基板側）の下面に装着されている。下研磨パッド２２１は、下定盤２２０の上定盤２１０に対向する側（ガラス基板側）の上面に装着されている。上定盤２１０の下面および下定盤２２０の上面は、相互に平行であり、相互に逆向きに回転する。

上研磨パッド２１１および下研磨パッド２２１は、ガラス基板の両主表面を精密研磨するための加工部材である。上研磨パッド２１１および下研磨パッド２２１としては、たとえばポリウレタン製のスウェードパッドが用いられる。下定盤２２０と対向する上研磨パッド２１１の表面は、上研磨面２１２を形成する。上定盤２１０と対向する下研磨パッド２２１の表面は、下研磨面２２２を形成する。

図１０に示すように、下研磨面２２２の上には、円盤状の形状を有する研磨用のキャリア２５０が複数配置される。キャリア２５０は、複数の円孔を有する本体部２５１を備え、キャリア２５０の外周には、複数の噛合歯２５２が設けられる。キャリア２５０の厚さは、たとえば６５０μｍである。

ガラス基板１Ｇは、本体部２５１に設けられた円孔の中に配置される。精密研磨加工前のガラス基板１Ｇの厚さは、たとえば８１０μｍである。下定盤２２０の中央部には、サンギア２３０が設けられる。下定盤２２０の周縁部には、インターナルギア２４０がサンギア２３０と同軸状に設けられる。サンギア２３０の回転軸に対して平行な方向において、サンギア２３０およびインターナルギア２４０は、キャリア２５０よりも厚い厚さを有している。

キャリア２５０がサンギア２３０とインターナルギア２４０との間に配置された状態において、キャリア２５０の噛合歯２５２は、サンギア２３０の歯面２３２およびインターナルギア２４０の歯面２４２の双方に噛合する。キャリア２５０は、サンギア２３０およびインターナルギア２４０を用いて回転される。本実施の形態においては、サンギア２３０が回転駆動されることによって、キャリア２５０は自転しながらサンギア２３０の周りを公転する。

図１１に示すように、両面研磨装置２００によって精密研磨加工が行なわれる際には、円孔を規定するキャリア２５０の内周面２５３とガラス基板１Ｇとの間にリング部材２６０を介挿させた状態で、ガラス基板１Ｇが、上研磨パッド２１１および下研磨パッド２２１の間に挟み込まれる。

具体的には、ガラス基板１Ｇと略同等の厚さを有するリング部材２６０にガラス基板１Ｇが嵌め込まれた状態で、当該リング部材が内周面２５３から数ｍｍ程度離れた位置でガラス基板１Ｇが、上研磨パッド２１１および下研磨パッド２２１の間に挟み込まれる。

続いて、上定盤２１０および下定盤２２０によって、ガラス基板１Ｇにはその厚さ方向に所定の応力が加えられることにより、ガラス基板１Ｇの表側および裏側の主表面は、上研磨面２１２および下研磨面２２２に押圧される。

この際、上記のようにリング部材２６０を内周面２５３とガラス基板１Ｇとの間に介挿させることにより、ガラス基板１Ｇの外周端部近傍において上研磨パッド２１１および下研磨パッド２２１の沈み込みを抑制することができる。これにより、後述する研磨時において、ガラス基板１Ｇの表側および裏側の主表面の周縁をより平坦にすることができる。

この状態で、コロイダルシリカなどの研磨液を供給しつつ、ガラス基板１Ｇの表側の主表面に対して上研磨面２１２が相対移動し、ガラス基板１Ｇの裏側の主表面に対して下研磨面２２２が相対移動する。

上研磨面２１２がガラス基板１Ｇの表側の主表面に対して摺接することにより、ガラス基板１Ｇの表側の主表面が研磨される。また、下研磨面２２２がガラス基板１Ｇの裏側の主表面に対して摺接することにより、ガラス基板１Ｇの裏側の主表面が研磨される。このように、ガラス基板１Ｇの両主表面は、同時に研磨される。

この際、リング部材２６０およびガラス基板１Ｇは、円孔内において固定されていないため、円孔内で自転することができる。これにより、ガラス基板１Ｇの表側および裏側の主表面の周縁をさらに平坦にすることができる。

続いて、表側および裏側の主表面の形状をほぼ同等の形状にするために第２ポリッシュ工程の研磨加工の途中でガラス基板１Ｇの表側および裏側を反転させ、再度研磨加工を行う。このようにして、第２ポリッシュ工程１８にて精密研磨加工が行われる。

キャリア２５０とリング部材２６０の材質は、ガラス基板１Ｇを傷つけないように、たとえばエポキシ樹脂等の樹脂部材を採用することができる。また、リング部材２６０の材質としてガラス基板１Ｇよりも硬度が低い樹脂部材を採用する場合には、当該リング部材２６０の主表面にフッ素系樹脂、ＤＬＣ（Diamond-like carbon）等の耐摩耗性を向上させる部材を成膜することが好ましい。

図１２は、図４に示す情報記録媒体用ガラス基板の使用例を示す図である。図１２を参照して、ガラス基板１Ｇの使用例を説明する。図１２において磁気薄膜層は記載していない。

図２に示す磁気ディスク装置を用いる場合には、図１２に示すように、２枚の情報記録媒体１０のそれぞれが、２つのヘッドスライダー２１に挟み込まれるように配置されている。各ヘッドスライダー２１に先端には、情報記録媒体１０の表側または裏側の主表面に対向するように磁気ヘッド（図示せず）がそれぞれ配置されている。

４つの磁気ヘッドが２枚の情報記録媒体１０上を走査する場合には、２つの磁気ヘッドが１枚の情報記録媒体１０上を走査する場合と比較して、ヘッドクラッシュの頻度が２倍となる。

このような場合であっても、表面形状のばらつきが抑えられた本実施の形態に係るガラス基板１Ｇを複数用いることで、磁気ヘッドの浮上特性が安定し、ヘッドクラッシュ頻度を低減させることができる。

以下に、本発明の効果を検証するために行なったロードアンロード試験およびその結果について説明する。

ロードアンロード試験を実施するにあたり、比較例１から３として、後述の比較の形態におけるガラス基板１Ｈ（図１３参照）の製造方法に基づいて製造されたガラス基板を３つ準備し、これらに磁気成膜層を形成した磁気ディスクを製造した。また、実施例１および実施例２として、実施の形態に係るガラス基板１Ｇを２つ準備し、これらに磁気成膜層を形成した磁気ディスクを製造した。これら磁気ディスクに対して、ヘッド浮上時の浮上量を３ｎｍとし、磁気ディスクの回転数を５４００ｒｐｍまたは７２００ｒｐｍとして、ロードアンロードを５００万回繰り返すロードアンロード試験を行い、ヘッドクラッシュが発生するまでの耐久性を評価した。

ロードアンロード試験において、回転回数が５００万回に到達するまでにヘッドクラッシュが発生したものについては、製品の品質基準に満たないものとして「不可」と判定し、回転回数が５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生しないものについては、製品の品質基準を満たすものとして「可」と判定した。さらにロードアンロード試験を繰り返し行ない、２回の試験のいずれにおいて５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生しないものについては、製品の品質基準を十分に満たすものとして「良」と判定した。

基板のサイズとしては、ガラス基板１Ｇの外径が２．５インチ（６３．５ｍｍ）のものを用いた。ガラス基板１Ｇの厚みは、０．８ｍｍのものと０．６５ｍｍのものを用いた。径方向に沿ってガラス基板１Ｇの回転中心ＣＰから２３ｍｍ離れた点Ｒ１を第１基準点とし、当該径方向に沿って回転中心ＣＰから２７ｍｍの点Ｒ２を第２基準点とし、第１基準点および第２基準点を結ぶ直線ＢＬを基準線とし、回転中心ＣＰから３２．２ｍｍ離れた基準線上の点Ｒ３を基準位置とし、当該基準位置を半径位置とする上述のずれ量の周方向の分布を測定した。

ずれ量は、光学表面分析装置ＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）７１２０（KLA-Tencor Candela社製）を用いて測定した。本装置は、ガラス基板１Ｇを回転させながらレーザー光をガラス基板１Ｇの主表面全面に照射し、本装置内の受光器が受光した反射光および散乱光に基づいて演算処理することによって、ガラス基板１Ｇの表面形状を把握することができる。

実施例１に係るガラス基板にあっては、表側および裏側の２つのずれ量の周方向の分布のＰＶ値のうち、ＰＶ値が大きい方の値が４０ｎｍであり、表側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値と裏側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値との差が１０ｎｍであった（図１９、図２０参照）。

実施例２に係るガラス基板にあっては、表側および裏側の２つのずれ量の周方向の分布のＰＶ値のうち、ＰＶ値が大きい方の値が３０ｎｍであり、表側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値と裏側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値との差が５ｎｍであった（図１９、図２０参照）。

比較例１から３におけるガラス基板は、本実施の形態に係るガラス基板１Ｇと比較した場合に、その製造方法が相違し、具体的には、第２ポリッシュ工程が相違する。これにより、その比較例１から３に係るガラス基板においては、その主表面の形状が相違し、後述のようにずれ量の分布が相違する。以下に、比較例におけるガラス基板の製造方法について説明する。

（比較の形態）
図１３は、比較の形態における情報記録媒体用ガラス基板を製造する際に第２ポリッシュ工程にて両面研磨装置が精密研磨加工を行なっている様子を示す断面図である。図１４は、図１３に示すＸＩＶ線に囲まれる領域を示す図である。図１５は、図１３に示すＸＶ線に囲まれる領域を示す図である。図１３から図１５を参照して、比較の形態におけるガラス基板の製造方法について説明する。

比較の形態におけるガラス基板１Ｈの製造方法は、実施の形態に係るガラス基板１Ｇの製造方法と比較した場合に、第２ポリッシュ工程が相違し、その他の工程においては、ほぼ同様の工程である。

比較の形態におけるガラス基板の製造方法の第２ポリッシュ工程においては、両面研磨装置２００によって精密研磨加工が行なわれる際に、円孔を規定するキャリア２５０の内周面２５３とガラス基板１Ｈとの間にリング部材２６０（図１１参照）を介挿させていない点および第２ポリッシュ工程の途中で、ガラス基板１Ｈを反転させない点において実施の形態に係るガラス基板１Ｇの製造方法の第２ポリッシュ工程Ｓ１８と相違する。

リング部材２６０（図１１参照）を介挿させずに、ガラス基板１Ｈの表側および裏側の主表面が上研磨パッド２１１の上研磨面２１２および下研磨パッド２２１の下研磨面２２２に押圧されることにより、図１４および図１５に示すように、ガラス基板１Ｈの外周端部において、上研磨パッド２１１および下研磨パッド２２１が沈み込む。

これにより、上研磨パッド２１１に形成された傾斜面２１１ａ（図１４参照）および下研磨パッドに形成された傾斜面２２１ｂ（図１５参照）が、研磨時にガラス基板１Ｈの外周端部に接触する。この結果、比較の形態におけるガラス基板にあっては、表側および裏側の主表面の周縁が沈降したり隆起したりしやすくなる。

また、第２ポリッシュ工程の途中で、ガラス基板１Ｈの表側と裏側を反転させないため、上研磨パッド２１１および下研磨パッド２２１の表面状態の影響を受けやすくなり、これによっても比較の形態におけるガラス基板１Ｈにあっては、表側および裏側の主表面の周縁が沈降したり隆起したりしやすくなる。

図１６から図１８は、比較例１から３における情報記録媒体用ガラス基板１Ｈの表側および裏側のずれ量の周方向の分布を示す図である。図１６から図１８を参照して、基板厚さが０．８ｍｍの場合の比較例１から３におけるガラス基板のずれ量の分布について説明する。

図１６に示すように、比較の形態におけるガラス基板の製造方法によって製造された比較例１としてのガラス基板にあっては、基準位置を半径位置とした場合の表側のずれ量の周方向の分布５１の平均値５１ａおよび裏側のずれ量の周方向の分布５２の平均値５２ａがいずれも１５０ｎｍを上回った。

さらに、表側および裏側の２つのずれ量の周方向の分布５１，５２のＰＶ値のうち、ＰＶ値が大きい方の値が６０ｎｍとなり、表側におけるずれ量の周方向の分布５１が有する平均値５１ａと裏側におけるずれ量の周方向の分布５２が有する平均値５２ａとの差が３０ｎｍであった（図１９参照）。

図１７に示すように、比較の形態におけるガラス基板の製造方法によって製造された比較例２としてのガラス基板にあっては、基準位置を半径位置とした場合の表側のずれ量の周方向の分布５３の平均値５３ａおよび裏側のずれ量の周方向の分布５４の平均値５４ａがいずれも１５０ｎｍを上回った。

さらに、表側および裏側の２つのずれ量の周方向の分布５３，５４のＰＶ値のうち、ＰＶ値が大きい方の値が６０ｎｍとなり、表側におけるずれ量の周方向の分布５３が有する平均値５３ａと裏側におけるずれ量の周方向の分布５４が有する平均値５４ａとの差が１０ｎｍであった（図１９参照）。

図１８に示すように、比較の形態におけるガラス基板の製造方法によって製造された比較例１としてのガラス基板にあっては、基準位置を半径位置とした場合の表側のずれ量の周方向の分布５５の平均値５５ａおよび裏側のずれ量の周方向の分布５６の平均値５６ａがいずれも１５０ｎｍを上回った。

さらに、表側および裏側の２つのずれ量の周方向の分布５５，５６のＰＶ値のうち、ＰＶ値が大きい方の値が４０ｎｍとなり、表側におけるずれ量の周方向の分布５５が有する平均値５５ａと裏側におけるずれ量の周方向の分布５６が有する平均値５６ａとの差が３０ｎｍであった（図１９参照）。

（実験結果）
図１９は、本発明の効果を検証するために行なった第１実験の条件および結果を示す図である。図１９を参照して、本発明の効果を検証するために行なった第１実験の結果について説明する。

本発明の効果を検証するために行なった第１実験においては、基板厚さが０．８ｍｍのものを用いて、実施例１，２および比較例１〜３として、ＰＶ値、および、表側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値と裏側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値との差が図１９に示すような値のものを用いた。また、ロードアンロード試験における磁気ディスクの回転数を５４００ｒｐｍおよび７２００ｒｐｍとした。

比較例１については、磁気ディスクの回転数が５４００ｒｐｍの場合には、１２０万回でヘッドクラッシュが発生し、磁気ディスクの回転数が７２００ｒｐｍの場合には、１００万回でヘッドクラッシュが発生し、いずれも場合においても上記の品質基準に基づき「不可」と判定された。

比較例２については、磁気ディスクの回転数が５４００ｒｐｍの場合には、３８０万回でヘッドクラッシュが発生し、磁気ディスクの回転数が７２００ｒｐｍの場合には、２１０万回でヘッドクラッシュが発生し、いずれも場合においても上記の品質基準に基づき「不可」と判定された。

比較例３については、磁気ディスクの回転数が５４００ｒｐｍの場合には、４００万回でヘッドクラッシュが発生し、磁気ディスクの回転数が７２００ｒｐｍの場合には、３９０万回でヘッドクラッシュが発生し、いずれも場合においても上記の品質基準に基づき「不可」と判定された。

実施例１については、磁気ディスクの回転数が５４００ｒｐｍの場合および７２００ｒｐｍのいずれの場合においても、回転回数が５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生せず、上記の品質基準に基づき「可」と判定された。

実施例２については、磁気ディスクの回転数が５４００ｒｐｍの場合および７２００ｒｐｍのいずれの場合においても、回転回数が５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生しなかった。さらに、上記回転数のいずれの場合において、同様の実験を繰り返し行なった際に、２回とも回転回数が５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生せず、上記の品質基準に基づき「良」と判定された。

図２０は、本発明の効果を検証するために行なった第２実験の条件および結果を示す図である。図２０を参照して、本発明の効果を検証するために行なった第２実験の結果について説明する。

本発明の効果を検証するために行なった第２実験においては、基板厚さが０．６５ｍｍのものを用いて、実施例１，２および比較例１〜３として、ＰＶ値、および、表側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値と裏側におけるずれ量の周方向の分布が有する平均値との差が図２０に示すような値のものを用いた。また、ロードアンロード試験における磁気ディスクの回転数を５４００ｒｐｍとした。

比較例１については、９０万回でヘッドクラッシュが発生し、上記の品質基準に基づき「不可」と判定された。

比較例２については、１９０万回でヘッドクラッシュが発生し、上記の品質基準に基づき「不可」と判定された。

比較例３については、３８０万回でヘッドクラッシュが発生し、上記の品質基準に基づき「不可」と判定された。

実施例１については、回転回数が５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生せず、上記の品質基準に基づき「可」と判定された。

実施例２については、回転回数が５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生しなかった。さらに、同様の実験を繰り返し行なった際でも、回転回数が５００万回に到達してもヘッドクラッシュが発生せず、上記の品質基準に基づき「良」と判定された。

本発明の効果を検証するために行なった第１実験および第２実験における比較例１から３と実施例１，２を比較して、ＰＶ値が４０ｎｍ以下、かつ、表側の平均値を裏側の平均値との差が１０ｎｍ以下となる条件を充足する実施例１，２では、表側および裏側の外周端部近傍において空気の流れが均一となり、その結果磁気ヘッドの浮上特性が安定することが実験的にも証明されたと言える。

ＰＶ値が４０ｎｍ以下、かつ、表側の平均値を裏側の平均値との差が１０ｎｍ以下となる条件を充足しない、比較例１から３においては、表側および裏側の外周端部近傍において空気の流れが不均一となり、その結果磁気ヘッドの浮上特性が不安定になることが実験的にも証明されたと言える。

比較例１から３においては、周方向に亘って裏面側のずれ量が表側のずれ量よりもほぼ小さくなっているため（図１６から図１８参照）、表側および裏側の情報記録媒体の外周端部近傍に磁気ヘッドを配置した場合には、裏面側の主表面が表側の主表面より磁気ヘッドに近づくことになる。

このため、表側および裏側の外周端部近傍において空気の流れが不均一となり、裏側の外周端部近傍の風圧は、表側の外周端部近傍の風圧よりも高くなる。したがって、風圧の高い裏側の外周端部近傍に位置する磁気ヘッドは、風圧の他に基板自体のフラッタリングやその他の外乱（振動、音響）の影響を受けやすくなり、ヘッドクラッシュが発生しやすくなることが考察される。

表側および裏側の外周端部近傍において空気の流れが均一となる実施例１，２では、上記の基板自体のフラッタリングやその他の外乱（振動、音響）の影響を受けにくく、ヘッドクラッシュが発生しにくくなることが考察される。

また、上記第１実験と上記第２実験とを比較して、基板厚さが０．６５ｍｍと薄くなり基板自体のフラッタリング量がより増加する場合にあっては、比較例１から３においては、フラッタリング量の増加によりヘッドクラッシュまでの回数が短くなり、その耐久性が低下している。一方、実施例１，２においては、基板厚さが薄くなった場合であっても、ヘッドクラッシュは発生していない。これにより、本実施形態に係るガラス基板は、その厚さが薄くなる程、当該ガラス基板の表側および裏側の外周端部近傍において空気の流れを均一にすることで、より確実に磁気ヘッドの浮上特性を安定させることができることが実験的にも証明されたと言える。

また、上記第１実験において回転数が５４００ｒｐｍである場合と７２００ｒｐｍである場合とを比較して、回転数が増加し、基板自体のフラッタリング量がより増加する場合にあっては、比較例１から３においては、フラッタリング量の増加によりヘッドクラッシュまでの回数が短くなり、品質が低下している。一方、実施例１，２においては、回転数が増加した場合であっても、ヘッドクラッシュは発生していない。これにより、本実施形態に係るガラス基板は、磁気ディスクでの使用時における回転数が増加する程、当該ガラス基板の表側および裏側の外周端部近傍において空気の流れを均一にすることで、より確実に磁気ヘッドの浮上特性を安定させることができることが実験的にも証明されたと言える。

上述した本実施の形態においては、磁気ディスク装置が、情報記録媒体を１枚または２枚搭載する構成を有する場合を例示して説明したがこれに限定されず、情報記録媒体を３枚以上搭載する構成を有していてもよい。

以上、本発明の実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。

１Ｇ ガラス基板、１０ 情報記録媒体、１１ 中心孔、１２ 外周端面、１３ 内周端面、１４，１５ 主表面、１４ａ，１５ａ 平坦部、１４ｂ，１５ｂ 傾斜部、１４ｃ，１５ｃ 面取り部、１６，１７ 磁気薄膜層、２０ アクチュエーター、２１ ヘッドスライダー、２２ サスペンション、２３ アーム、２４ 垂直軸、２５ ボイスコイル、２６ ボイスコイルモーター、２７ クランプ部材、２８ 固定ネジ、２９ スピンドルモーター、３０ 筐体、１００ 磁気ディスク装置、２００ 両面研磨装置、２１０ 上定盤、２１１ 上研磨パッド、２１１ａ 傾斜面、２１２ 上研磨面、２２１ 下研磨パッド、２２１ｂ 傾斜面、２３０ サンギア、２３２ 歯面、２４０ インターナルギア、２４２ 歯面、２５０ キャリア、２５１ 本体部、２５２ 噛合歯、２５３ 内周面、２６０ リング部材。

Claims (5)

1. 情報記録媒体用ガラス基板であって、
   前記情報記録媒体用ガラス基板の表側および裏側のそれぞれに位置する主表面と、
   前記情報記録媒体用ガラス基板の外周端部に位置する外周端面とを備え、
   前記情報記録媒体用ガラス基板の中心から前記外周端面までの前記情報記録媒体用ガラス基板の半径をＲとし、表側および裏側の双方において、径方向に沿って前記中心から０．７１Ｒ離れた前記主表面上の点を第１基準点とし、前記径方向に沿って前記中心から０．８３Ｒ離れた前記主表面上の点を第２基準点とし、前記第１基準点および前記第２基準点を結ぶ直線を基準線とし、前記中心から０．９９Ｒ離れた前記基準線上の点を基準位置とし、前記情報記録媒体用ガラス基板の厚み方向に沿って見た場合において前記基準位置と重なる前記主表面上の点から前記基準位置までの距離をずれ量としたときに、
   表側および裏側の双方において、前記ずれ量の周方向の分布の平均値が１５０ｎｍ以下であり、
   表側および裏側の双方において、前記中心から０．９９Ｒ離れた半径位置における前記ずれ量の周方向の分布の最大値と最小値との差が４０ｎｍ以下であり、
   表側における前記ずれ量の周方向の分布の平均値と裏側における前記ずれ量の周方向の分布の平均値との差が１０ｎｍ以下である、情報記録媒体用ガラス基板。
2. 前記情報記録媒体用ガラス基板の厚さが０．６５ｍｍ以下である、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
3. 請求項１または２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の前記主表面に少なくとも磁性層を有する、情報記録媒体。
4. 請求項３に記載の複数枚の情報記録媒体が搭載される、磁気ディスク装置。
5. 請求項３に記載の１枚または複数枚の情報記録媒体を７２００ｒｐｍ以上の回転数で回転させる、磁気ディスク装置。

Images