JP5714892B2 - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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向上させることによって情報を高い密度で記録可能な磁気記録層が形成されることができ、さらにガラス基板が情報記録媒体として情報記録装置に組み込まれた状態において、そのガラス基板の耐衝撃性を向上させることが可能なガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
(ガラス基板1)
図1は、本実施の形態におけるガラス基板1を示す平面図である。図2は、図1中のII−II線矢視断面図である。図3は、ガラス基板1の被クランプ領域1R(詳細は後述する)の付近を示す拡大断面図である。図1〜図3を参照して、ガラス基板1について説明する。ガラス基板1の製造方法については、実施の形態4において後述する。ガラス基板1の大きさは、たとえば0.8インチ、1.0インチ、1.8インチ、2.5インチ、または3.5インチである。
図4は、ガラス基板1を含む情報記録媒体10を示す断面図である。情報記録媒体10においては、磁気記録層形成領域1S上に、磁気記録層1K(第1磁気記録層)が形成される。磁気記録層形成領域2S上に、磁気記録層2K(第2磁気記録層)が形成される。
図5は、本実施の形態における情報記録装置100を示す斜視図である。図6は、図5中のVI−VI線矢視断面図である。図5および図6に示すように、情報記録装置100は、ガラス基板1に磁気記録層1Kおよび磁気記録層2K(図6参照)が形成された情報記録媒体10、筐体20、スピンドルモータ21(図6参照)、下部クランプ部材22(図6参照)、ハブ23(図6参照)、上部クランプ部材24、固定ネジ25、ヘッドスライダ26(図3参照)、サスペンション27、アーム28、垂直軸29、ボイスコイル30、およびボイスコイルモータ31を備える。
図6を参照して、ガラス基板1においては、化学強化層6が、表主表面1F、裏主表面2F、内周端面3、および外周端面4のそれぞれに形成される。ここで、ガラス基板1を情報記録媒体10として情報記録装置100に組み込んだ状態で、この情報記録装置100を所定の高さから落下させたとする。所定の高さとは、たとえば情報記録装置100への落下衝撃が1100Gとなるような値である。
(ガラス基板1A)
図7を参照して、本変形例におけるガラス基板1Aについて説明する。ここでは、上述の実施の形態1におけるガラス基板1との相違点について説明する。ガラス基板1Aの製造方法については、実施の形態4の変形例として後述する。ガラス基板1Aにおいては、被クランプ領域1R,2Rおよび内周端面3に化学強化層6が形成され、磁気記録層形成領域1S,2Sに化学強化層6が存在していない(形成されていない)。
(ガラス基板1B)
図9を参照して、本実施の形態におけるガラス基板1Bについて説明する。ここでは、上述の実施の形態1におけるガラス基板1との相違点について説明する。ガラス基板1Bの製造方法については、実施の形態5として後述する。ガラス基板1Bにおいては、磁気記録層形成領域1S,2Sにおける化学強化層6に比べて、被クランプ領域1R,2Rにおける化学強化層6の方が、ガラス基板1Bの(厚さ方向における)内部深くに入り込むように形成されている。ガラス基板1Bは、表主表面1Fおよび裏主表面2Fが平坦に形成され、一様な厚さT1を有する。
(ガラス基板1C)
図10を参照して、本変形例におけるガラス基板1Cについて説明する。ここでは、上述の実施の形態2におけるガラス基板1Bとの相違点について説明する。ガラス基板1Cにおいては、上述の実施の形態1の変形例におけるガラス基板1A(図7参照)と同様に、磁気記録層形成領域1S,2Sに化学強化層6が存在していない(形成されていない)。
(ガラス基板1D)
図11を参照して、本実施の形態におけるガラス基板1Dを情報記録媒体10Dとして内蔵する情報記録装置100Dについて説明する。ここでは、上述の実施の形態1,2(各変形例を含む)との相違点について説明する。上述のガラス基板1,1A〜1Cにおいては、化学強化層6が被クランプ領域1Rおよび被クランプ領域2Rの双方に形成される。
(ガラス基板1の製造方法)
図12〜図19を参照して、本実施の形態について説明する。ここでは、上述の実施の形態1におけるガラス基板1(図1〜図3)の製造方法、および上述の実施の形態1における情報記録媒体10(図4参照)の製造方法について説明する。
(ガラス基板1Aの製造方法)
上述の実施の形態4においては、磁気記録層形成領域1S,2Sにおける化学強化層6が所定の厚さに到達するまで研磨されたあと、ガラス基板1は容器53から取り出される。
(ガラス基板1Bの製造方法)
図21〜図25を参照して、本実施の形態について説明する。ここでは、上述の実施の形態2におけるガラス基板1B(図9参照)の製造方法、および情報記録媒体10Bの製造方法について説明する。
(ガラス基板1B1の製造方法)
上述の実施の形態5におけるコアリング工程(S12A)では、凹部5Gが、孔5に繋がるように形成される(図22参照)。図26を参照して、凹部5Gは、孔5の周りに孔5と間隔を空けて平面視円環状に形成されてもよい。
(ガラス基板1Cの製造方法)
上述の実施の形態5においては、磁気記録層形成領域1S,2Sにおける化学強化層6が所定の厚さに到達するまで研磨される。
上述の実施の形態5においては、コアリング工程(S12A)において、孔5の周りに、平面視円環状の凹部5Gが形成される(図22参照)。
Claims (3)
- 情報記録装置に情報記録媒体として内蔵されるガラス基板の製造方法であって、
主表面を有するガラス基板を準備する工程と、
前記ガラス基板を化学強化処理液に浸漬することにより、前記主表面を含む前記ガラス基板の表面全体に化学強化層を形成する工程と、
前記化学強化層を研磨する工程と、を備え、
前記主表面は、前記ガラス基板が前記情報記録媒体として前記情報記録装置に内蔵された状態において、前記情報記録媒体を固定するために押圧される被クランプ領域と、前記被クランプ領域よりも前記主表面の外周側に位置し、磁気記録層が形成される磁気記録層形成領域と、を含み、
前記化学強化層を研磨する工程においては、前記被クランプ領域に前記化学強化層を残存させるとともに、前記磁気記録層形成領域における前記化学強化層のすべてが除去されるか、若しくは、前記磁気記録層形成領域における前記化学強化層の厚さが前記被クランプ領域における前記化学強化層の厚さよりも薄くなるように、前記化学強化層が研磨される、
ガラス基板の製造方法。 - 前記化学強化層を研磨する工程においては、前記被クランプ領域が覆われた状態で、研磨粒子を含む流体と前記磁気記録層形成領域に形成された前記化学強化層とを相対移動させることによって、前記磁気記録層形成領域における前記化学強化層が研磨される、
請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記ガラス基板を準備する工程においては、前記磁気記録層形成領域に対して前記被クランプ領域が凹設された前記ガラス基板が準備され、
前記主表面に前記化学強化層を形成する工程においては、前記被クランプ領域および前記磁気記録層形成領域のそれぞれに対して均一な厚さを有する前記化学強化層が形成され、
前記化学強化層を研磨する工程においては、前記ガラス基板の全体が一様な厚さとなるように前記磁気記録層形成領域に対して平行な方向に沿って前記化学強化層が研磨される、
請求項1に記載のガラス基板の製造方法。
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