JP2008300830A - レジスト材料に構造体を形成する方法及び電子ビーム露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】形成される構造体231〜234の所定の角度α、βに応じて、レジスト材料が設置されている基板表面の位置を決定し、設定するステップを備える。露光装置の基準座標系101、102に関して、45°の整数倍とは異なる任意の角度の構造体を形成することが可能になり、任意の角度をもつパターンを所望のエッジ粗さで、短時間に描画可能となる。
【選択図】図1
Description
Claims (19)
- 電子ビーム露光装置によってレジスト材料に構造体を形成する方法であって、
レジスト材料が配置される基板表面の第1の位置を、前記電子ビーム露光装置の基準座標系に関して、形成される第1構造体の所定の第1の角度に基づいて決定して設定するステップを含む方法。 - 請求項1記載の方法であって、
前記第1の角度が、45°の整数倍とは異なることを特徴とする方法。 - 請求項1記載の方法であって、
前記電子ビーム露光装置内の基板表面の少なくとも1つの更なる位置が設定され、
当該位置が、前記第1の位置及び基準位置とは異なり、前記更なる位置に結像された構造体の角度が、前記第1の角度及び45°の整数倍とは異なることを特徴とする方法。 - 請求項1記載の方法であって、
前記基板表面の設定された各位置について、電子ビームの偏向が、隣接する構造体要素を結像するように回転され、当該回転が、形成すべき角度に適合されていることを特徴とする方法。 - 電子ビーム露光装置であって、
電子ビームを放射する電子ビーム源と、
前記電子ビームを集束し、遮蔽し、及び偏向する素子と、
前記電子ビームを成形する絞りと、
基板ホルダと、
前記基板ホルダを、電子ビーム露光装置の基準座標系の方向に沿って移動させる素子と、
前記基板ホルダの位置を、前記基準座標系に関して結像される構造体の所定角度に基づいて決定し設定する素子と、備える電子ビーム露光装置。 - 請求項5記載の電子ビーム露光装置であって、
前記電子ビームを集束し、遮蔽し、及び偏向する素子と、前記基板ホルダを移動させる素子と、前記基板ホルダの位置を設定する素子とを所定のデータに基づいて駆動する制御システムをさらに備え、所定のデータが、結像される構造体の角度を有する電子ビーム露光装置。 - 請求項5記載の電子ビーム露光装置であって、
前記基板ホルダの位置を決定し設定する素子は、前記基板ホルダの特定の位置が、結像される構造体の各角度に割り当てられる分配表を有することを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 請求項5記載の電子ビーム露光装置であって、
前記基板ホルダの位置を決定し設定する素子が、基準構造体の角度を測定する検出器を備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 電子ビーム露光装置によってレジスト材料に構造体を形成する方法であって、
所定寸法を有し、同一サイズの複数の矩形から構成され、当該複数の矩形が互いに隣接し、互いに第1方向に相対的にずらして配置される第1構造体を前記レジスト材料に結像するステップと、
前記第1構造体と同じであるが、前記第1構造体に対して第1方向及び当該第1方向に対して垂直な第2方向にずらして配置される第2構造体を前記レジスト材料に結像するステップと、を備え、
結果として生じる構造体が、前記第1構造体と前記第2構造体との重ね合わせによって形成される方法。 - 請求項9記載の方法であって、
レジスト材料に更なる構造体が結像され、
前記更なる構造体は各々、その寸法が第1構造体の寸法と同じであるが、前記第1構造体の矩形の寸法と同一の複数の矩形を有するが、前記第1構造体並びに第1方向及び第2方向に予め形成された他の構造体に対してずらして配置されていることを特徴とする方法。 - 請求項9記載の方法であって、
前記複数の矩形の寸法と、互いに隣接する矩形が相対的にずれている大きさと、前記第2構造体が前記第1構造体に対して第1方向及び第2方向にずれている大きさとが、所定の方向、所定の寸法及び所定の構造体エッジ粗さを有する構造体が、前記第1構造体及び前記第2構造体の重ね合わせにより生じるように、選択されることを特徴とする方法。 - 請求項10記載の方法であって、
前記複数の矩形の寸法と、互いに隣接する矩形が相対的にずれている大きさと、形成される更なる構造体の数と、前記第2構造体及び形成された更なる構造体が前記第1構造体に対して第1方向及び第2方向にずれている大きさとが、所定の方向、所定の寸法及び所定の構造体エッジ粗さを有する構造体が、前記第1構造体、前記第2構造体及び前記更なる構造体の重ね合わせにより生じるように、選択されることを特徴とする方法。 - 請求項9記載の方法であって、
前記電子ビーム露光装置としてベクター走査成形ビーム装置が使用され、
前記第2構造体を形成するステップ用の開始ベクトルが、第1方向及び第2方向における所定の大きさによって変更されることを特徴とする方法。 - 請求項10記載の方法であって、
前記電子ビーム露光装置としてベクター走査成形ビーム装置が使用され、
前記第2構造体及び前記更なる構造体を形成するステップ用の開始ベクトルが、いずれも、第1方向及び第2方向における所定の大きさによって変更されることを特徴とする方法。 - 電子ビーム露光装置であって、
電子ビームを集束し、遮蔽し、及び偏向する素子と、基板ホルダを移動させ素子とを制御するために予め定められたデータが、所定の構造体を結像するために、可変開始ベクトルを備える電子ビーム露光装置。 - 電子ビーム露光装置によってパターン形成される基板層に構造体を形成する方法であって、
表面上にレジスト材料が塗布された基板を、前記電子ビーム露光装置に導入するステップと、
同一サイズの複数の要素から構成され、当該要素が互い隣接し、第1の方向に相対的にずらして配置され、所望の構造体エッジ粗さを有する構造体をレジスト材料に結像するステップと、
前記レジスト材料を現像し、レジスト構造体が形成されるステップと、
前記レジスト構造体をパターン形成される基板層に転写して、基板構造体が形成されるステップと、備え、
前記レジスト構造体を前記基板に転写する処理が、オーバエッチング処理を備える方法。 - 請求項16記載の方法であって、
前記複数の要素の寸法と、互いに隣接する要素が互いにずれている大きさとが、所定の方向、所定の寸法、及び所定の構造体エッジ粗さを有する複数の基板構造体が生じるように選択されることを特徴とする方法。 - 請求項16記載の方法であって、
前記オーバエッチング処理が、前記レジスト構造体のエッチングを備えることを特徴とする方法。 - 請求項16記載の方法であって、
前記オーバエッチング処理が、前記パターン形成される層のエッチングを備えることを特徴とする方法。
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