JP2008300793A - 触媒化学気相成長装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る触媒化学気相成長装置1においては、触媒線6として、タンタル線の表面にそのホウ化物層が形成されたものを用いる。金属タンタルのホウ化物(ホウ化タンタル)は、金属タンタルよりも硬質であるため、このホウ化物層が表面に形成されたタンタル線を触媒線として用いることで、触媒線の熱伸びを低減し、機械的強度を向上させて、長寿命化を図ることが可能となる。また、触媒線6の通電加熱を連続通電によって行うことで、触媒線6の更なる高寿命化を図ることができる。
【選択図】図1
Description
まず、真空ポンプ4を作動させて真空チャンバ3の内部を真空排気し、反応室2を所定の真空度(例えば1Pa)に減圧する。次に、ジボランガス供給部9bから反応室2へジボランガスを導入するとともに、制御部8により各触媒線6を通電し、所定温度(例えば1700℃)以上に加熱する。このとき、触媒線6の表面におけるジボランガスの接触により触媒線6の表面に反応生成物であるホウ化タンタル層が形成される。
次に、本発明の第2の実施形態による触媒線化学気相成長方法について説明する。
[初期ホウ化条件]
ジボラン(B2H6)ガス流量:160sccm
印加電力:3kW(モニター電流値:約30A)
圧力:2Pa
[成膜テスト条件]
モノシラン(SiH4)ガス流量:32sccm
水素(H2)ガス流量:16sccm
印加電力:3kW(モニター電流値:約30A)
圧力:2Pa
一例として、太陽電池は、まず、ガラス、アルミニウム等の基板上にMo膜などからなる金属電極をスパッタ法や熱CVD法で成膜した後、P型層(例えば、CuInSe2膜)、N型層(例えば、CdS膜)をそれぞれ成膜し、その上にZnOなどからなる透明電極を成膜することにより製造される。この例において、本装置を用いて、P型層のCuInSe2膜、N型層のCdS膜を成膜することができる。
2 反応室
3 真空チャンバ
4 真空ポンプ
5 防着板
6 触媒線
7 ガス導入配管
8 制御部
9a 原料ガス供給部
9b ジボランガス供給部
Claims (2)
- 反応室内に設置された加熱した触媒線に原料ガスを供給し、生成した分解種を前記反応室内の被成膜基材上に堆積させて成膜を行う触媒化学気相成長装置であって、
前記触媒線は、タンタル線の表面にそのホウ化物層が形成されてなる
ことを特徴とする触媒化学気相成長装置。 - 前記触媒線の通電加熱を連続通電により行う制御手段を備えた
ことを特徴とする請求項1に記載の触媒化学気相成長装置。
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