JP2008298770A - レーザーイオン化質量分析法及びレーザーイオン化質量分析に使用される試料支持用基板 - Google Patents
レーザーイオン化質量分析法及びレーザーイオン化質量分析に使用される試料支持用基板 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】基板の上にスペクトル解析を行う対象である試料を支持し、レーザーを照射し発生するイオンに基づいてレーザーイオン化質量分析を行うレーザーイオン化質量分析方法において、レーザーと基板表面、又はレーザーと基板及び試料の界面の相互作用からイオンを発生させ、該イオンを指標イオンとしてその信号を利用し、レーザーイオン化質量分析方法におけるノイズとなる信号を明確にして、ノイズに影響されないスペクトルの解析を行う。
【選択図】図1
Description
(1)静電シャッターを有する飛行時間型質量分析装置と分析方法において、発生したイオンのうち分析器に導入するものを空間的または時間的に選別することにより望ましくないイオンを取り除くことが知られている(特許文献1参照)。また、磁場型質量分析装置において、同様に望ましくないイオンを取り除くことが知られている(特許文献2参照)。
(2)このインジウムの基板表面を、耐水ペーパーでこすり細かい凹凸をつける。このように凹凸を形成する理由は、後に滴下する試料の溶液を均一に付着させるためである。
(7)レーザーイオン化質量分析装置において、複数回のパルス照射で得られた各スペクトルについて、まず指標イオンの信号の強度を求め、その中心値を基準値とした。次に各レーザーパルスに対応するスペクトルを指標イオンの信号の強度が基準値未満のもの(図2参照)と、基準値以上のもの(図3参照)に分けて、各々の中で平均を求める。
溶媒:エタノール水混合溶液(エタノール:水=98:2(重量比))。
溶質:各2.8 x 10-3 mol/lの濃度の臭化リチウム、臭化セシウム、および各3.9 x 10-3 mol/lの濃度の臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラペンチルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウム。
以上5種類すべての溶質を一緒に溶媒に溶解させて混合溶液としたものを試験液とする。
図6は、ステンレススチール基板についての試験結果を示す図である。この試験におけるレーザー強度の設定値(相対値)はa) 1.14、b)1、c) 0.77である。c)ではイオンが全く観測されない。 b)ではリチウムイオン(Li)が観測されるがステンレススチールの主な成分である鉄(m/z 56)、ニッケル(m/z 58)、クロム(m/z 52)のイオンは観測されない。
図7は、金基板についての試験結果を示す図である。この試験におけるレーザー強度の設定値(相対値)は、a)1.14、b)1、c) 0.77である。
図8は、インジウム基板についての試験結果を示す図である。レーザー強度の設定値(相対値)は、a)1.14、b)1、c)0.46である。
2 パルスレーザー
3 基板
4 試料(サンプル)
5 イオン加速電極
6 イオン検出器
7 計測・制御装置
Claims (12)
- 基板の上にスペクトル解析を行う対象である試料を支持し、レーザーを照射し発生するイオンに基づいてレーザーイオン化質量分析を行うレーザーイオン化質量分析方法であって、
前記レーザーと基板表面、又は前記レーザーと基板及び試料の界面の相互作用からイオンを発生させ、該イオンを指標イオンとしてその信号を利用し、レーザーイオン化質量分析方法におけるノイズとなる信号を明確にして、ノイズに影響されないスペクトルの解析を行うことを特徴とするレーザーイオン化質量分析方法。 - 前記基板は、インジウム製の基板を用いることにより、前記イオンとして、インジウム金属に由来するイオンを発生させることを特徴とする請求項1記載のレーザーイオン化質量分析方法。
- 複数のパルスを照射して得られる複数のスペクトルを、前記指標イオンの強度より大きい強度を有するスペクトルグループと小さい強度を有するスペクトルグループに分けて、それぞれのグループで積算乃至平均化することで、ノイズとなる信号を明確にすることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザーイオン化質量分析方法。
- 前記指標イオンに対応する信号の強度と前記スペクトル中の他の信号の強度との相関を、統計又は演算操作により求めることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザーイオン化質量分析方法。
- 試料にレーザーを照射し発生するイオンに基づいてレーザーイオン化質量分析を行うレーザーイオン化質量分析装置において基板の上にスペクトル解析を行う対象である試料を支持するための基板であって、
前記基板は、レーザーを照射すると表面からイオンが発生し易い材料で形成されており、
該イオンを指標イオンとしてその信号を利用し、レーザーイオン化質量分析方法におけるノイズとなる信号を明確にして、ノイズに影響されないスペクトルの解析を行うことを特徴とするレーザーイオン化質量分析装置において基板の上にスペクトル解析を行う対象である試料を支持するための基板。 - 請求項5記載の基板であって、該基板の上に複数の種類の塩を溶質とする溶液が一様に塗布されたもので、該基板が様々な強度のレーザー光で照射されたときに、前記溶液の成分の一価正イオンが観測されるときにはいつも前記基板の物質のイオンが観測されることを特徴とする基板。
- 請求項6記載の基板であって、複数の種類の塩が、臭化リチウム、臭化セシウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラペンチルアンモニウム及び臭化テトラヘキシルアンモニウムであることを特徴とする基板。
- 請求項5記載の基板であって、該基板の物質から発生するイオンの質量/電荷比が予め知られていることを特徴とする基板。
- 請求項5記載の基板であって、該基板の物質がインジウムであることを特徴とする基板。
- レーザー脱離イオン化質量分析において試料を支持する基板を試験する方法であって、
複数の異なる塩を溶質として含む溶液を一様に前記基板に塗布し乾燥し、
様々な強度のレーザー光で前記基板を照射し、
前記基板から発生するイオンを観察し、
前記溶液の成分の一価正イオンが観測されるときにはいつも前記基板の物質のイオンが観測されるならば、前記基板がレーザー脱離イオン化質量分析において試料を支持する基板として使用できると判断することを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析において試料を支持する基板を試験する方法。 - 請求項10記載の基板を試験する方法であって、複数の異なる塩が臭化リチウム、臭化セシウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラペンチルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウムであることを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析において試料を支持する基板を試験する方法。
- 請求項11記載の基板を試験する方法で試験された基板であって、レーザー脱離イオン化質量分析を行うレーザー脱離イオン化質量分析装置において、スペクトルの解析に供せられる試料を支持することを特徴とする基板。
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