JP5030166B2 - レーザー脱離イオン化質量分析に使用される試料支持用基板の試験方法 - Google Patents
レーザー脱離イオン化質量分析に使用される試料支持用基板の試験方法 Download PDFInfo
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Description
(1)静電シャッターを有する飛行時間型質量分析装置と分析方法において、発生したイオンのうち分析器に導入するものを空間的または時間的に選別することにより望ましくないイオンを取り除くことが知られている(特許文献1参照)。また、磁場型質量分析装置において、同様に望ましくないイオンを取り除くことが知られている(特許文献2参照)。
(2)このインジウムの基板表面を、耐水ペーパーでこすり細かい凹凸をつける。このように凹凸を形成する理由は、後に滴下する試料の溶液を均一に付着させるためである。
(7)レーザーイオン化質量分析装置において、複数回のパルス照射で得られた各スペクトルについて、まず指標イオンの信号の強度を求め、その中心値を基準値とした。次に各レーザーパルスに対応するスペクトルを指標イオンの信号の強度が基準値未満のもの(図2参照)と、基準値以上のもの(図3参照)に分けて、各々の中で平均を求める。
溶媒:エタノール水混合溶液(エタノール:水=98:2(重量比))。
溶質:各2.8 x 10-3 mol/lの濃度の臭化リチウム、臭化セシウム、および各3.9 x 10-3 mol/lの濃度の臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラペンチルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウム。
以上5種類すべての溶質を一緒に溶媒に溶解させて混合溶液としたものを試験液とする。
図6は、ステンレススチール基板についての試験結果を示す図である。この試験におけるレーザー強度の設定値(相対値)はa) 1.14、b)1、c) 0.77である。c)ではイオンが全く観測されない。 b)ではリチウムイオン(Li)が観測されるがステンレススチールの主な成分である鉄(m/z 56)、ニッケル(m/z 58)、クロム(m/z 52)のイオンは観測されない。
図7は、金基板についての試験結果を示す図である。この試験におけるレーザー強度の設定値(相対値)は、a)1.14、b)1、c) 0.77である。
図8は、インジウム基板についての試験結果を示す図である。レーザー強度の設定値(相対値)は、a)1.14、b)1、c)0.46である。
2 パルスレーザー
3 基板
4 試料(サンプル)
5 イオン加速電極
6 イオン検出器
7 計測・制御装置
Claims (1)
- レーザー脱離イオン化質量分析において試料を支持する表面にインジウムを有する基板を試験する方法であって、
複数の異なる塩である臭化リチウム、臭化セシウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラペンチルアンモニウム、臭化テトラヘキシルアンモニウムを溶質として含む溶液を一様に前記表面にインジウムを有する基板に塗布し乾燥し、
様々な強度のレーザー光で前記表面にインジウムを有する基板を照射し、
前記表面にインジウムを有する基板から発生するイオンを観察し、
前記溶液の成分の一価正イオンが観測されるときにはいつも前記表面にインジウムを有する基板の物質のインジウムイオンが観測されるならば、前記表面にインジウムを有する基板がレーザー脱離イオン化質量分析において試料を支持する基板として使用できると判断することを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析において試料を支持する基板を試験する方法。
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