JP2008250267A - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】２層以上の機能層を同時に重層塗布することができ、高い生産性が得られるとともに、層間の密着性が高く、かつ、各層間での機能分離に支障をきたすことのない光学フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材上に（Ａ）ハードコート層又は防眩層と（Ｂ）屈折率制御層をこの順に積層する光学フィルムの製造方法であって、それぞれ電離放射線硬化性樹脂を含有する（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物を同時重層塗布し、１回目の電離放射線照射を行い、次いで乾燥し、２回目の電離放射線照射を行って硬化させる光学フィルムの製造方法である。
【選択図】図１
【解決手段】透明基材上に（Ａ）ハードコート層又は防眩層と（Ｂ）屈折率制御層をこの順に積層する光学フィルムの製造方法であって、それぞれ電離放射線硬化性樹脂を含有する（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物を同時重層塗布し、１回目の電離放射線照射を行い、次いで乾燥し、２回目の電離放射線照射を行って硬化させる光学フィルムの製造方法である。
【選択図】図１
Description
本発明は光学フィルムの製造方法に関し、さらに詳しくは、同時重層塗布により、透明基材上にハードコート層又は防眩層と屈折率制御層をこの順に積層する光学フィルムの製造方法に関する。
ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、ＣＲＴ（陰極線管）、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）などのディスプレイにおいては、画面に外部から光が入射し、この光が反射して表示画像を見づらくする（視認性が低下する）ことがあり、特に近年、フラットパネルディスプレイの大型化に伴い、上記問題を解決することが、ますます重要な課題となってきている。
このような問題を解決するために、これまで種々のディスプレイに対して、様々な反射防止処置や防眩処置がとられている。
このような問題を解決するために、これまで種々のディスプレイに対して、様々な反射防止処置や防眩処置がとられている。
前記防眩処置としては、例えば、画像表示装置の表示画面に防眩フィルムを貼着する方法、あるいは液晶表示装置における偏光板に使用されるハードコートフィルムや各種ディスプレイ保護用ハードコートフィルムなどに対し、その表面を粗面化する防眩処置がとられている。
画像表示装置の表示画面に貼着される防眩フィルムとしては、例えば基材フィルム上にウェットプロセスにより無機微粒子及び電離放射線による硬化樹脂を含む防眩層が積層されたものが知られている（例えば、特許文献1参照）。このような防眩フィルムが適用される表示装置においては、防眩層内の無機微粒子が透過光を散乱させるので、背後の表示装置に由来して輝点がランダムに発生することが防止でき、表示される画像や映像の視認性の低下を防止することができる。前記防眩層は所望の微細凹凸の逆型形状の型を使用して、透明樹脂層にエンボス加工を施すことによっても形成することができる。
画像表示装置の表示画面に貼着される防眩フィルムとしては、例えば基材フィルム上にウェットプロセスにより無機微粒子及び電離放射線による硬化樹脂を含む防眩層が積層されたものが知られている（例えば、特許文献1参照）。このような防眩フィルムが適用される表示装置においては、防眩層内の無機微粒子が透過光を散乱させるので、背後の表示装置に由来して輝点がランダムに発生することが防止でき、表示される画像や映像の視認性の低下を防止することができる。前記防眩層は所望の微細凹凸の逆型形状の型を使用して、透明樹脂層にエンボス加工を施すことによっても形成することができる。
反射防止処置としては、例えば画像表示装置の表示画面に反射防止フィルムを貼着する方法がとられている。
この反射防止フィルムは、従来、蒸着やスパッタリングなどのドライプロセス法により、基材フィルム上に、低屈折率の物質（例えばＭｇＦ2）を薄膜化する方法や、屈折率の高い物質［ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＴｉＯ2など］と屈折率の低い物質（ＭｇＦ2、ＳｉＯ2など）を交互に積層する方法などで作製されている。しかしながら、このようなドライプロセス法で作製された反射防止フィルムは、製造コストが高いという問題があった。
したがって、近年、ウェットプロセス法、すなわちコーティングにより反射防止フィルムを作製することが試みられている。しかしながら、このウェットプロセス法により作製された反射防止フィルムにおいては、前記のドライプロセス法による反射防止フィルムに比べて、表面の耐擦傷性に劣るという問題があった。
この反射防止フィルムは、従来、蒸着やスパッタリングなどのドライプロセス法により、基材フィルム上に、低屈折率の物質（例えばＭｇＦ2）を薄膜化する方法や、屈折率の高い物質［ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＴｉＯ2など］と屈折率の低い物質（ＭｇＦ2、ＳｉＯ2など）を交互に積層する方法などで作製されている。しかしながら、このようなドライプロセス法で作製された反射防止フィルムは、製造コストが高いという問題があった。
したがって、近年、ウェットプロセス法、すなわちコーティングにより反射防止フィルムを作製することが試みられている。しかしながら、このウェットプロセス法により作製された反射防止フィルムにおいては、前記のドライプロセス法による反射防止フィルムに比べて、表面の耐擦傷性に劣るという問題があった。
そこで、防眩性能や反射防止性能と同時に耐傷性、防汚性等に優れる光学フィルムが開発されている。例えば、透明支持体上にハードコート層と該ハードコート層上に特定の屈折率を有する低屈折率層を設けた光学フィルムが提案されている（特許文献２参照）。
このような光学フィルムの製造において、通常、支持体上に複数の機能層を設ける方法として、各層の塗布、乾燥を繰り返す逐次重層塗布方式が挙げられ、リバースロールコーティング、グラビアロールコーティング等のロール塗布方式、ブレードコーティング、ワイヤーバーコーティング、ダイコーティング等が用いられる。
このような光学フィルムの製造において、通常、支持体上に複数の機能層を設ける方法として、各層の塗布、乾燥を繰り返す逐次重層塗布方式が挙げられ、リバースロールコーティング、グラビアロールコーティング等のロール塗布方式、ブレードコーティング、ワイヤーバーコーティング、ダイコーティング等が用いられる。
しかしながら、逐次重層塗布方式では、複数回の塗布・乾燥処理工程を行うため、外気に触れる機会が相対的に多く、機能面で劣化したり、外部からの異物によって不具合が発生する場合がある。また加熱乾燥工程が複数となるためにエネルギーの利用効率という観点からの生産性も良くない。特に、多層構成になると工程数が増大し、製造が煩雑である上に製造コストが高くなる。
さらに、上述のような低屈折率層は薄膜であり、低固形分で塗工するために塗工速度が遅く、生産性が低いという問題がある。また、各層間での密着性が低く、耐久性に劣るという問題点もある。
さらに、上述のような低屈折率層は薄膜であり、低固形分で塗工するために塗工速度が遅く、生産性が低いという問題がある。また、各層間での密着性が低く、耐久性に劣るという問題点もある。
これに対し、２層以上の層を同時に重層塗布する方法がある。この方法は、複数の塗布液を積層させて塗布する方式であり、上記課題を解決し得る生産性の高い方法であるが、各層塗布液の流動、拡散等により層間での混合が発生しやすく、各層の機能分離が困難になる場合があった。
本発明は、このような状況下、２層以上の機能層を同時に重層塗布することができ、高い生産性が得られるとともに、層間の密着性が高く、かつ、各層間での機能分離に支障をきたすことのない光学フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、２層以上の機能層を同時に重層塗布し、１回目の電離放射線照射を行い、次いで乾燥し、２回目の電離放射線照射を行って硬化させることで上記課題を解決し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
［１］透明基材上に（Ａ）ハードコート層又は防眩層と（Ｂ）屈折率制御層をこの順に積層する光学フィルムの製造方法であって、それぞれ電離放射線硬化性樹脂を含有する（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物を同時重層塗布し、１回目の電離放射線照射を行い、次いで乾燥し、２回目の電離放射線照射を行って硬化させる光学フィルムの製造方法、
［２］前記屈折率制御層が多層からなる上記［１］に記載の光学フィルムの製造方法、
［３］多層の屈折率制御層のうち基材から最も遠い層が低屈折率層である上記［２］に記載の光学フィルムの製造方法、
［４］前記ハードコート層又は防眩層の厚さが１〜２５μｍであり、前記屈折率制御層の厚さが１層あたり５０〜１２０ｎｍである上記［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［５］電離放射線が紫外線である上記［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［６］（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物をエクストルージョン型ダイコーターのスリットより吐出させて積層する上記［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［７］（Ａ）層を形成するための樹脂組成物の粘度が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の粘度よりも小さい上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［８］（Ａ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力よりも大きい上記［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［９］（Ａ）層及び（Ｂ）層形成用樹脂組成物を溶解するためのそれぞれの溶媒が互いに溶解性を有する上記［１］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［１０］前記防眩層が無機及び／又は有機粒子を含む上記［１］〜［９］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、及び
［１１］光学フィルムが反射防止フィルム又は防眩フィルムである上記［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
を提供するものである。
すなわち、本発明は、
［１］透明基材上に（Ａ）ハードコート層又は防眩層と（Ｂ）屈折率制御層をこの順に積層する光学フィルムの製造方法であって、それぞれ電離放射線硬化性樹脂を含有する（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物を同時重層塗布し、１回目の電離放射線照射を行い、次いで乾燥し、２回目の電離放射線照射を行って硬化させる光学フィルムの製造方法、
［２］前記屈折率制御層が多層からなる上記［１］に記載の光学フィルムの製造方法、
［３］多層の屈折率制御層のうち基材から最も遠い層が低屈折率層である上記［２］に記載の光学フィルムの製造方法、
［４］前記ハードコート層又は防眩層の厚さが１〜２５μｍであり、前記屈折率制御層の厚さが１層あたり５０〜１２０ｎｍである上記［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［５］電離放射線が紫外線である上記［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［６］（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物をエクストルージョン型ダイコーターのスリットより吐出させて積層する上記［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［７］（Ａ）層を形成するための樹脂組成物の粘度が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の粘度よりも小さい上記［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［８］（Ａ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力よりも大きい上記［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［９］（Ａ）層及び（Ｂ）層形成用樹脂組成物を溶解するためのそれぞれの溶媒が互いに溶解性を有する上記［１］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
［１０］前記防眩層が無機及び／又は有機粒子を含む上記［１］〜［９］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、及び
［１１］光学フィルムが反射防止フィルム又は防眩フィルムである上記［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法、
を提供するものである。
本発明によれば、２層以上の機能層を同時に重層塗布することができるため、高い生産性を得ることができ、層間密着性が高く、しかも各層間での機能が分離されて十分に発揮し得る光学フィルムを製造することができる。
本発明にかかる光学フィルムの製造方法は、透明基材上に（Ａ）ハードコート層又は防眩層と（Ｂ）屈折率制御層をこの順に積層する光学フィルムの製造方法であって、（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物は、それぞれ電離放射線硬化性樹脂を含有する。これらの樹脂組成物を同時重層塗布し、乾燥前の塗布直後に１回目の電離放射線照射を行い、その後に乾燥し、２回目の電離放射線照射を行って硬化させることを特徴とする。
本発明で用いる透明基材としては、特に限定されず、光学フィルム用として一般に使用されるものを用いることができるが、平滑性及び耐熱性を備え、機械的強度に優れるとの点から、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等）、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルスルホン、アクリル系樹脂（ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート等）、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、（メタ）アクリロニトリル等の各種樹脂で形成したフィルム等を好適に例示することができる。
これらのうち、透明性、平滑性、耐熱性、及び機械的強度に特に優れるとの観点から、ＴＡＣ、ＰＥＴ、及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
これらのうち、透明性、平滑性、耐熱性、及び機械的強度に特に優れるとの観点から、ＴＡＣ、ＰＥＴ、及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
その他、本発明の透明基材として、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）フィルムも使用することができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン（株）製の「ゼオネックス」や「ゼオノア」（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製「スミライトＦＳ-１７００」、ＪＳＲ（株）製「アートン」（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製「アペル」（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製の「Ｔｏｐａｓ」（環状オレフィン共重合体）、日立化成工業（株）製「オプトレッツＯＺ-１０００シリーズ」（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、ＴＡＣの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
本発明の透明基材としては、これらの熱可塑性樹脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム状として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板状体のものを使用することも可能である。
また、透明基材の厚さは、通常２０〜１０００μｍ程度であり、２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍの範囲がより好ましい。
特に好ましい態様であるＴＡＣを用いた場合、その厚さは２５〜１００μｍの範囲が好ましい。２５μｍ以上であると製膜時のハンドリングが容易であり、１００μｍ以下であると、透明性、光学フィルムの薄膜化の点で有利である。以上の観点から、ＴＡＣフィルムの厚さは、３０〜９０μｍの範囲がより好ましく、３５〜８０μｍの範囲が特に好ましい。
特に好ましい態様であるＴＡＣを用いた場合、その厚さは２５〜１００μｍの範囲が好ましい。２５μｍ以上であると製膜時のハンドリングが容易であり、１００μｍ以下であると、透明性、光学フィルムの薄膜化の点で有利である。以上の観点から、ＴＡＣフィルムの厚さは、３０〜９０μｍの範囲がより好ましく、３５〜８０μｍの範囲が特に好ましい。
透明基材は、その上にハードコート層又は防眩層を形成するに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
透明基材上に積層される（Ａ）層はハードコート層又は防眩層である。ハードコート層は光学フィルムに強度を付与し、表面に耐傷性等を付与する機能を有するものである。より具体的には、塗膜の耐擦傷性、強度等の性能を向上させ、ＪＩＳ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものが好ましい。
ハードコート層を構成する樹脂組成物に用いる樹脂成分としては、主として電離放射線硬化性樹脂を用いる。電離放射線硬化性樹脂とは、電磁波または荷電粒子線の中で分子を架橋、重合させ得るエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線または電子線などを照射することにより、架橋、硬化する樹脂を指す。具体的には、従来電離放射線硬化性樹脂として慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーの中から適宜選択して用いることができる。本発明においては、速硬化性で使用エネルギーが少なく、生産性にも優れるという点で紫外線硬化性樹脂が好ましい。
ハードコート層を構成する樹脂組成物に用いる樹脂成分としては、主として電離放射線硬化性樹脂を用いる。電離放射線硬化性樹脂とは、電磁波または荷電粒子線の中で分子を架橋、重合させ得るエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線または電子線などを照射することにより、架橋、硬化する樹脂を指す。具体的には、従来電離放射線硬化性樹脂として慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーの中から適宜選択して用いることができる。本発明においては、速硬化性で使用エネルギーが少なく、生産性にも優れるという点で紫外線硬化性樹脂が好ましい。
紫外線硬化性樹脂としては、開始剤の作用を受けて間接的に、重合や二量化等の大分子化を進行させる反応を起こす硬化反応性官能基を有するモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性のモノマー、オリゴマーが好ましく、該樹脂成分の分子間で架橋結合が生じるように、一分子内に硬化反応性官能基を２個以上、好ましくは３個以上有する多官能の樹脂成分であることが望ましい。
電離放射線硬化性樹脂として紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、光開始剤を通常使用する。光開始剤としては、特に制限はなく、従来慣用されているものから適宜選択することができる。例えば、アルキルフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類などが挙げられる。より具体的には、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。
本発明においては、特にα−ヒドロキシアルキルフェノン等のアルキルフェノン類が好ましい。市販品としては、イルガキュアー１２７（チバスペシャリティケミカルズ社製、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン）などが挙げられる。
本発明においては、特にα−ヒドロキシアルキルフェノン等のアルキルフェノン類が好ましい。市販品としては、イルガキュアー１２７（チバスペシャリティケミカルズ社製、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン）などが挙げられる。
また、（Ａ）層は防眩層であってもよい。防眩層は、表面に微細な凹凸形状を有し、防眩機能を提供する層である。防眩層は、微細な凹凸形状を付与するための透光性微粒子、及び基材や隣接する層に対する密着性を付与するためのバインダーを含有する。また、必要に応じて、レベリング剤等の添加剤、屈折率調整、架橋収縮防止、鉛筆硬度付与のための無機フィラー等を含有して形成される。
防眩層は、凹凸層の単層であってもよいし、複層からなるものであってもよい。防眩層が複層の場合、下地凹凸層及びこの下地凹凸層上に設けられた表面形状調整層からなることが好ましい。ここで表面形状調整層は、上記下地凹凸層の表面形状をより適切な凹凸形状に調整する機能を有する層である。
防眩層は、凹凸層の単層であってもよいし、複層からなるものであってもよい。防眩層が複層の場合、下地凹凸層及びこの下地凹凸層上に設けられた表面形状調整層からなることが好ましい。ここで表面形状調整層は、上記下地凹凸層の表面形状をより適切な凹凸形状に調整する機能を有する層である。
防眩層に用いられるバインダーは、成膜性や膜強度を担保するためのものである。本発明においては、上記ハードコート層で用いた樹脂成分と同様のものを用いることができる。また、該バインダーは塗膜にした時に光が透過する透光性であるものが好ましい。なお、防眩層の樹脂を選択することにより、ハードコート層と同様の機能を兼ね備えたものとすることができる。
本発明において、防眩層におけるバインダーの含有量は、防眩層の固形分全質量の１５〜８５質量％であることが好ましい。
本発明において、防眩層におけるバインダーの含有量は、防眩層の固形分全質量の１５〜８５質量％であることが好ましい。
また、防眩層で用いる透光性微粒子としては、特に限定されず、無機系及び有機系のものを使用することができる。
有機系材料により形成される微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．５０〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。
無機系微粒子としては、不定形シリカ、無機シリカビーズ等を挙げることができる。
有機系材料により形成される微粒子の具体例としては、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、スチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．５０〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。
無機系微粒子としては、不定形シリカ、無機シリカビーズ等を挙げることができる。
透光性微粒子の形状についても特に制限はなく、球状、例えば真球状、楕円状等のものであってよく、真球状であることがより好ましい。透光性微粒子の平均粒子径としては、０．５〜２０μｍの範囲であることが好ましい。０．５μｍ以上であると十分な防眩性や光拡散効果が得られる。一方、２０μｍ以下であると、防眩層の表面形状が粗くなることがなく、面質の悪化や表面へイズの上昇が生じない。以上の観点から、０．５〜１０μｍの範囲がさらに好ましい。
なお、透光性微粒子は、目的に応じ、１種類だけでなく、成分が異なるもの、形状が異なるもの、粒度分布が異なるものなどを２種類以上混合して用いることができる。
なお、透光性微粒子は、目的に応じ、１種類だけでなく、成分が異なるもの、形状が異なるもの、粒度分布が異なるものなどを２種類以上混合して用いることができる。
防眩層における透光性微粒子の含有量は、防眩層の固形分全質量に対して、５〜４０質量％の範囲であることが好ましい。５質量％以上であると十分な防眩性を付与することができ、４０質量％以下であると十分な膜強度を得ることができる。以上の観点から、透光性微粒子の含有量は、１０〜３０質量％の範囲がより好ましい。
防眩層には、更に、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レベリング剤）またはその他の成分が含まれていてもよい。
防眩層には、更に、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レベリング剤）またはその他の成分が含まれていてもよい。
本発明における（Ｂ）屈折率制御層は、屈折率を制御して反射防止性能を付与する層である。屈折率制御層は単層からなっていても、多層構造であってもよく、例えば、中屈折率層（屈折率１．５０〜１．８０）、高屈折率層（屈折率１．８０〜２．３０）、及び低屈折率層（屈折率１．３０〜１．５０）がこの順に積層されるものなどが好適に挙げられる。屈折率制御層が単層からなる場合には、低屈折率層であることが好ましく、また多層である場合には、基材から最も遠い層が低屈折率層であることが、高い反射防止性能を付与するとの観点から好ましい。
低屈折率層の屈折率は、通常１．３０〜１．５０であり、好ましくは１．３０〜１．４５である。屈折率が小さいほど、反射率が低くなるため好ましいが、十分な強度を得るとの観点から１．３０以上であることが好ましい。
さらに、低屈折率層は下記式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
（ｍ／４）λ×０．７＜ｎ1 ｄ1＜（ｍ／４）λ×１．３ ・・・式（Ｉ）
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数。通常１である。）が存在することを意味している。
さらに、低屈折率層は下記式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
（ｍ／４）λ×０．７＜ｎ1 ｄ1＜（ｍ／４）λ×１．３ ・・・式（Ｉ）
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。
なお、上記数式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数。通常１である。）が存在することを意味している。
低屈折率層を形成する材料としては、例えば、１）シリカ又はフッ化マグネシウムのような低屈折率微粒子を含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムのような低屈折率微粒子を含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜などが挙げられる。
上記フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体をいう。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
上記フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体をいう。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基（電離放射線硬化性基）や熱で硬化する極性基（熱硬化極性基）等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。
また、低屈折率層中に無機微粒子を含有させることは、低屈折率層自身の強度を上げ、耐擦傷性を向上させる点から好ましい。低屈折率層に含有させる無機微粒子は、低屈折率微粒子であることが望ましい。例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの１０〜１００％が好ましい。１０％以上であると十分な耐擦傷性の改良効果が見られ、１００％以下であると低屈折率層表面に微細な凹凸が生じることによる、外観及び反射率の悪化が見られない。以上の点から、シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの２０〜９０％がより好ましく、特には３０〜８０％が好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの１０〜１００％が好ましい。１０％以上であると十分な耐擦傷性の改良効果が見られ、１００％以下であると低屈折率層表面に微細な凹凸が生じることによる、外観及び反射率の悪化が見られない。以上の点から、シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの２０〜９０％がより好ましく、特には３０〜８０％が好ましい。
シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でもよい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であってもよい。さらには中空の微粒子であってもよい。
市販品としては、日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌ、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）などが挙げられる。
また、低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。
市販品としては、日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌ、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）などが挙げられる。
また、低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。
本発明の光学フィルムの製造方法は、上記（Ａ）ハードコート層又は防眩層と（Ｂ）屈折率制御層を構成する樹脂組成物を同時重層塗布することが特徴である。
これらの樹脂組成物を塗布するに際しては、通常、それぞれの樹脂組成物を溶媒に溶解し塗工する。ここで用いられる溶媒としては、種々のものが用いられ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらのうち、ケトン類、エステル類が特に好ましい。
溶媒の量としては、各成分を均一に溶解、分散することができ、調製後放置しても内容物が凝集せず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節する。具体的には、全量１００質量部に対して全固形分０．５〜５０質量部、溶媒を５０〜９９．５質量部とすることが好ましい。この範囲内であると分散安定性に優れ、長期保存に適する。以上の観点から、全固形分３〜３０質量部、溶媒７０〜９７質量部とすることがさらに好ましい。
これらの樹脂組成物を塗布するに際しては、通常、それぞれの樹脂組成物を溶媒に溶解し塗工する。ここで用いられる溶媒としては、種々のものが用いられ、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらのうち、ケトン類、エステル類が特に好ましい。
溶媒の量としては、各成分を均一に溶解、分散することができ、調製後放置しても内容物が凝集せず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節する。具体的には、全量１００質量部に対して全固形分０．５〜５０質量部、溶媒を５０〜９９．５質量部とすることが好ましい。この範囲内であると分散安定性に優れ、長期保存に適する。以上の観点から、全固形分３〜３０質量部、溶媒７０〜９７質量部とすることがさらに好ましい。
上記（Ａ）層及び（Ｂ）層を構成する樹脂組成物を溶解させる溶媒は、それぞれ同じでも異なってもよいが、それぞれの溶媒が互いに同種であって、溶解性を有することが好ましい。溶解性を有することによって、（Ａ）層と（Ｂ）層の混合が起きにくくなる。これは、（Ａ）層と（Ｂ）層の層間の流動が各層の塗布液の溶媒として用いられる有機溶媒の揮発速度の差により生じると考えられるからである。すなわち、下層（（Ａ）層）の溶媒の揮発速度が速い場合には、上層中を通過して揮発する際に、上層の溶媒の移動速度を上回るため、隣接する２層が混合される。また逆の場合は、乾燥終了直前の上層中を下層の有機溶媒が通過することにより、乱れを生じて隣接する２層が混合するものと考えられる。
また、（Ａ）層（より基材に近い下層）を形成するための樹脂組成物の粘度が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の粘度よりも小さいことが、層間の混合を起こしづらくするという点から好ましい。塗布時における、具体的な粘度としては、特に限定されるものではなく、用いられる樹脂や溶媒の種類等によって適宜決定される。
また、（Ａ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力よりも大きいことが、層間の混合を起こしづらくするという点から好ましい。塗布時における、具体的な表面張力としては、特に限定されるものではなく、用いられる樹脂や溶媒の種類等によって適宜決定される。
上記２種以上の樹脂組成物を同時重層塗布する方法としては種々の方法があるが、エクストルージョン型ダイコーターを用いることが好ましい。この方法によれば、溶媒の揮発による塗布液物性の変化が起こりにくく、塗膜形成精度も高い。以下、図１を用いて説明する。
図１はエクストルージョン型ダイコーターを用いた同時重層塗布の模式図である。１は透明基材、２はダイコーターのダイヘッド、３ａ及び３ｂはスリット、４は（Ａ）ハードコート層又は防眩層、５は（Ｂ）屈折率制御層を示す。（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物をエクストルージョン型ダイコーターのスリット３ａ及び３ｂより吐出させて積層するものである。エクストルージョン型ダイコーターの２つのスリットのうち、透明基材の進行方向に対して、上流側に位置するスリット３ａより（Ａ）ハードコート層又は防眩層形成用塗布液を、下流側に位置するスリット３ｂより（Ｂ）屈折率制御層形成用塗布液を吐出させて塗布を行う。
また、図１では２スロットダイコートを一例として示したが、（Ｂ）屈折率制御層を多層とする場合には、スロット数をさらに増やすことで、同時重層することができる。例えば、４スロットダイコートを用いて、透明基材２上に１０μｍ程度の厚さのハードコート層、その上に中屈折率層（厚さ８０ｎｍ程度）、高屈折率層（厚さ６０ｎｍ程度）及び低屈折率層（厚さ１００ｎｍ程度）の４層構成の積層体を同時重層塗布することが可能である（図４参照）。
図１はエクストルージョン型ダイコーターを用いた同時重層塗布の模式図である。１は透明基材、２はダイコーターのダイヘッド、３ａ及び３ｂはスリット、４は（Ａ）ハードコート層又は防眩層、５は（Ｂ）屈折率制御層を示す。（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物をエクストルージョン型ダイコーターのスリット３ａ及び３ｂより吐出させて積層するものである。エクストルージョン型ダイコーターの２つのスリットのうち、透明基材の進行方向に対して、上流側に位置するスリット３ａより（Ａ）ハードコート層又は防眩層形成用塗布液を、下流側に位置するスリット３ｂより（Ｂ）屈折率制御層形成用塗布液を吐出させて塗布を行う。
また、図１では２スロットダイコートを一例として示したが、（Ｂ）屈折率制御層を多層とする場合には、スロット数をさらに増やすことで、同時重層することができる。例えば、４スロットダイコートを用いて、透明基材２上に１０μｍ程度の厚さのハードコート層、その上に中屈折率層（厚さ８０ｎｍ程度）、高屈折率層（厚さ６０ｎｍ程度）及び低屈折率層（厚さ１００ｎｍ程度）の４層構成の積層体を同時重層塗布することが可能である（図４参照）。
本発明においては、ダイコーターのダイヘッド２と透明基材１の距離であるコーターギャップａと透明基材１上に同時重層塗布した際のウェット状態での（Ａ）層及び（Ｂ）層の合計の厚さｂが、ａ＜２ｂの関係にあることが好ましい。このような関係を保ちながら同時重層塗布することで、透明基材１とダイヘッド２の間に形成される塗布ビードが安定化する。特にこの塗布ビードは塗布により形成する層が薄膜化するほど不安定になりやすく、塗布面にむらやすじを生じさせ、外観を悪化させる原因となるが、上記ａとｂの関係を保つことで、塗布ビードを安定化させることができる。
また、塗布時の（Ａ）層と（Ｂ）層の厚さは相対的に（Ａ）層の厚さを厚くすることが好ましい。（Ａ）層の厚さを厚くすることで、塗布速度を早くすることができ、高い生産性で積層体を製造することができる。
図１に示すようにして、同時重層塗布された（Ａ）層及び（Ｂ）層に対して、乾燥前の塗布直後に１回目の電離放射線照射を行う。この１回目の電離放射線照射は、（Ａ）層及び（Ｂ）層中の電離放射線硬化性樹脂を硬化させるものではなく、わずかに反応を進行させ、ウェット状態の（Ａ）層及び（Ｂ）層の層間での混合を阻止するためのものである。
ここで用い得る電離放射線としては、紫外線、電子線等があるが、いわゆる半硬化よりもさらに硬化度の低い状態を作り出すためには、紫外線を用いることが好ましい。また、その照射線量も小さいほうがよく、具体的には５〜１００ｍＪ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
ここで用い得る電離放射線としては、紫外線、電子線等があるが、いわゆる半硬化よりもさらに硬化度の低い状態を作り出すためには、紫外線を用いることが好ましい。また、その照射線量も小さいほうがよく、具体的には５〜１００ｍＪ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
その後、乾燥した後に、２回目の電離放射線照射を行って、電離放射線硬化性樹脂を完全に硬化させる。乾燥の条件としては、用いる樹脂組成物の種類、及び溶媒によって適宜決定されるものであるが、通常、３０〜１００℃程度で、２０秒〜３分程度の乾燥が行われる。
２回目の電離放射線の照射は、電離放射線硬化性樹脂を完全に硬化させるものであって、１回目の照射に比較して、高い出力での照射が行われる。この照射においては、電子線を用いても、紫外線を用いてもよいが、１回目の電離放射線照射と同じ装置を用い得る点で紫外線照射のほうが便利である。照射線量については、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
２回目の電離放射線の照射は、電離放射線硬化性樹脂を完全に硬化させるものであって、１回目の照射に比較して、高い出力での照射が行われる。この照射においては、電子線を用いても、紫外線を用いてもよいが、１回目の電離放射線照射と同じ装置を用い得る点で紫外線照射のほうが便利である。照射線量については、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ2の範囲が好ましい。
以上のようにして形成された（Ａ）ハードコート層又は防眩層の平均膜厚は、乾燥・硬化後で１〜２５μｍの範囲であることが好ましい。１μｍ以上であると、十分に鉛筆硬度が得られ、光学フィルムの強度が得られる。一方、２５μｍ以下であると、樹脂組成物の硬化収縮によるカールが生じにくく、ハンドリング性や取り扱い性が良好である。以上の観点から、（Ａ）層の平均膜厚は２〜２０μｍの範囲がさらに好ましい。
一方、（Ｂ）屈折率制御層の厚さは、５０〜１２０ｎｍの範囲であることが好ましい。この範囲であると屈折率が制御でき、良好な反射防止性能が得られる。以上の観点から、（Ｂ）層の厚さは６０〜１１０ｎｍの範囲がより好ましい。なお、（Ｂ）屈折率制御層が多層である場合には、上記厚さは１層当たりの厚さを意味する。
本発明により得られる積層体は光学フィルムとして有用であり、特に反射防止フィルム及び防眩フィルムとして有用である。これらの模式図を図２〜図４に示す。
図２は透明基材１１の上に（Ａ）ハードコート層１２及び（Ｂ）単層の低屈折率層１３が積層された反射防止フィルムであり、図３は透明基材２１の上に（Ａ）ハードコート層２２及び（Ｂ）３層構成の屈折率制御層（中屈折率層２４、高屈折率層２５及び低屈折率層２３）が積層された反射防止フィルムである。また、図４は透明基材３１の上に（Ａ）防眩層３２及び（Ｂ）単層の低屈折率層３３が積層された防眩フィルムである。
このように、本発明の方法によれば、透明基材上に多層の機能層を有する積層体が、高い生産性で得られる。
図２は透明基材１１の上に（Ａ）ハードコート層１２及び（Ｂ）単層の低屈折率層１３が積層された反射防止フィルムであり、図３は透明基材２１の上に（Ａ）ハードコート層２２及び（Ｂ）３層構成の屈折率制御層（中屈折率層２４、高屈折率層２５及び低屈折率層２３）が積層された反射防止フィルムである。また、図４は透明基材３１の上に（Ａ）防眩層３２及び（Ｂ）単層の低屈折率層３３が積層された防眩フィルムである。
このように、本発明の方法によれば、透明基材上に多層の機能層を有する積層体が、高い生産性で得られる。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。
（評価方法）
各実施例及び比較例で得られた積層体に関して、以下の方法で評価した。
１．外観
目視にて判断した。
２．反射率の測定
（株）島津製作所製分光光度計「ＵＶ−３１００ＰＣ」を用いて絶対反射率を測定した。なお、最低反射率は、低屈折率層の膜厚を、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように設定した際の値で評価した。
３．耐擦傷性評価試験
＃００００のスチールウールを用い、荷重３００ｇで１０往復した時の傷の有無を目視
により確認した。評価基準は以下の通りとした。
○：全く傷が認められなかった
×：著しい傷が認められた
（評価方法）
各実施例及び比較例で得られた積層体に関して、以下の方法で評価した。
１．外観
目視にて判断した。
２．反射率の測定
（株）島津製作所製分光光度計「ＵＶ−３１００ＰＣ」を用いて絶対反射率を測定した。なお、最低反射率は、低屈折率層の膜厚を、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように設定した際の値で評価した。
３．耐擦傷性評価試験
＃００００のスチールウールを用い、荷重３００ｇで１０往復した時の傷の有無を目視
により確認した。評価基準は以下の通りとした。
○：全く傷が認められなかった
×：著しい傷が認められた
実施例１
（Ａ）ハードコート層形成用樹脂組成物の調製
多官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製「ＵＶ１７００Ｂ」）１０質量部、ポリエステルアクリレート（東亞合成（株）製「Ｍ９０５０」、分子量４１８）１０質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）「イルガキュアー１２７」（商品名））０．４質量部、及び光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）「イルガキュアー１８４」（商品名））０．６質量部を溶媒であるメチルエチルケトン３０質量部に溶解させ、ハードコート層形成用樹脂組成物を得た。
（Ａ）ハードコート層形成用樹脂組成物の調製
多官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製「ＵＶ１７００Ｂ」）１０質量部、ポリエステルアクリレート（東亞合成（株）製「Ｍ９０５０」、分子量４１８）１０質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）「イルガキュアー１２７」（商品名））０．４質量部、及び光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）「イルガキュアー１８４」（商品名））０．６質量部を溶媒であるメチルエチルケトン３０質量部に溶解させ、ハードコート層形成用樹脂組成物を得た。
（Ｂ）屈折率制御層（低屈折率層）形成用樹脂組成物の調製
中空シリカ微粒子分散液（中空シリカ メチルイソブチルケトン溶液分散ゾル、平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０質量％、触媒化成工業（株）製）１３．６質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＰＥＴ−３０」（商品名））１．８質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）「イルガキュアー１２７」（商品名））０．１質量部、及び両末端メタクリル変性シリコーン（信越化学工業（株）製「Ｘ−２２−１６４Ｅ」（商品名））０．２質量部を溶媒であるメチルイソブチルケトン８４．１質量部に溶解させ、低屈折率層形成用樹脂組成物を得た。
中空シリカ微粒子分散液（中空シリカ メチルイソブチルケトン溶液分散ゾル、平均粒子径５０ｎｍ、固形分２０質量％、触媒化成工業（株）製）１３．６質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＰＥＴ−３０」（商品名））１．８質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）「イルガキュアー１２７」（商品名））０．１質量部、及び両末端メタクリル変性シリコーン（信越化学工業（株）製「Ｘ−２２−１６４Ｅ」（商品名））０．２質量部を溶媒であるメチルイソブチルケトン８４．１質量部に溶解させ、低屈折率層形成用樹脂組成物を得た。
光学フィルムの製造
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、２スロットダイコーターを用い、（Ａ）ハードコート層形成用樹脂組成物が下層に、（Ｂ）低屈折率層形成用樹脂組成物が上層になるようにして、塗工速度５０ｍ／ｍｉｎにて、同時重層塗布を行った。
塗布直後に、塗布機に近接して設けた紫外線照射装置（ジャパン（株）製「フュージョンＵＶシステム」、光源Ｈバルブ）により照射線量約２０ｍＪ／ｃｍ2で１回目の紫外線照射を約１秒間行い、次いで、５０℃で１分間乾燥を行って溶媒を除去した。その後、同じ紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で２回目の紫外線照射を行った。得られた積層体はハードコート層の膜厚が１０μｍ、低屈折率層の膜厚が約１００ｎｍであった。上記方法にて評価した結果を第１表に示す。
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、２スロットダイコーターを用い、（Ａ）ハードコート層形成用樹脂組成物が下層に、（Ｂ）低屈折率層形成用樹脂組成物が上層になるようにして、塗工速度５０ｍ／ｍｉｎにて、同時重層塗布を行った。
塗布直後に、塗布機に近接して設けた紫外線照射装置（ジャパン（株）製「フュージョンＵＶシステム」、光源Ｈバルブ）により照射線量約２０ｍＪ／ｃｍ2で１回目の紫外線照射を約１秒間行い、次いで、５０℃で１分間乾燥を行って溶媒を除去した。その後、同じ紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で２回目の紫外線照射を行った。得られた積層体はハードコート層の膜厚が１０μｍ、低屈折率層の膜厚が約１００ｎｍであった。上記方法にて評価した結果を第１表に示す。
比較例１
実施例１において、１回目の紫外線照射を行わなかったこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。（Ａ）層形成用樹脂組成物と（Ｂ）層形成用樹脂組成物は混合した。得られた積層体について、上記方法にて評価した。結果を第１表に示す。比較例１で得られた積層体は反射防止性能を有さなかった。
実施例１において、１回目の紫外線照射を行わなかったこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。（Ａ）層形成用樹脂組成物と（Ｂ）層形成用樹脂組成物は混合した。得られた積層体について、上記方法にて評価した。結果を第１表に示す。比較例１で得られた積層体は反射防止性能を有さなかった。
比較例２
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、１スロットダイコーターを用い、塗工速度５０ｍ／ｍｉｎにて、実施例１で調製した（Ａ）ハードコート層形成用樹脂組成物を塗布し、５０℃、1分間乾燥を行い、溶媒を除去した。その後、実施例１と同様の紫外線照射装置を用いて、照射線量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。
次に、得られたフィルムに、１スロットダイコーターを用い、塗工速度５０ｍ／ｍｉｎにて、実施例１で調製した（Ｂ）低屈折率層形成用樹脂組成物を塗布し、５０℃、１分間乾燥を行い、溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成した。上記方法にて評価した結果を第１表に示す。（Ａ）層と（Ｂ）層は２層分離して機能するが、２層目の塗工速度が速くて、得られた塗膜の塗工面はスジが見られ、外観が悪かった。また、塗膜の平滑性も悪く、耐スチールウール性能が低下した。
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、１スロットダイコーターを用い、塗工速度５０ｍ／ｍｉｎにて、実施例１で調製した（Ａ）ハードコート層形成用樹脂組成物を塗布し、５０℃、1分間乾燥を行い、溶媒を除去した。その後、実施例１と同様の紫外線照射装置を用いて、照射線量５０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、膜厚１０μｍのハードコート層を形成した。
次に、得られたフィルムに、１スロットダイコーターを用い、塗工速度５０ｍ／ｍｉｎにて、実施例１で調製した（Ｂ）低屈折率層形成用樹脂組成物を塗布し、５０℃、１分間乾燥を行い、溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置を用いて、照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成した。上記方法にて評価した結果を第１表に示す。（Ａ）層と（Ｂ）層は２層分離して機能するが、２層目の塗工速度が速くて、得られた塗膜の塗工面はスジが見られ、外観が悪かった。また、塗膜の平滑性も悪く、耐スチールウール性能が低下した。
本発明によれば、２層以上の機能層を同時に重層塗布することができ、高い生産性を得ることができるとともに、層間の密着性が高く、かつ、各層間での機能分離に支障をきたすことのない光学フィルムの製造方法を提供することができる。本発明の方法で製造した光学フィルムは特に反射防止フィルム及び防眩フィルムとして好適に使用することができる。
１．透明基材
２．ダイコーターヘッド
３ａ．３ｂ．スリット
４．（Ａ）ハードコート層又は防眩層
５．（Ｂ）屈折率制御層
１０．反射防止フィルム
１１．透明基材
１２．ハードコート層
１３．低屈折率層
２０．反射防止フィルム
２１．透明基材
２２．ハードコート層
２３．低屈折率層
２４．中屈折率層
２５．高屈折率層
３０．防眩フィルム
３１．透明基材
３２．防眩層
３３．低屈折率層
３４．シリカ粒子
２．ダイコーターヘッド
３ａ．３ｂ．スリット
４．（Ａ）ハードコート層又は防眩層
５．（Ｂ）屈折率制御層
１０．反射防止フィルム
１１．透明基材
１２．ハードコート層
１３．低屈折率層
２０．反射防止フィルム
２１．透明基材
２２．ハードコート層
２３．低屈折率層
２４．中屈折率層
２５．高屈折率層
３０．防眩フィルム
３１．透明基材
３２．防眩層
３３．低屈折率層
３４．シリカ粒子
Claims (11)
- 透明基材上に（Ａ）ハードコート層又は防眩層と（Ｂ）屈折率制御層をこの順に積層する光学フィルムの製造方法であって、それぞれ電離放射線硬化性樹脂を含有する（Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物を同時重層塗布し、１回目の電離放射線照射を行い、次いで乾燥し、２回目の電離放射線照射を行って硬化させる光学フィルムの製造方法。
- 前記屈折率制御層が多層からなる請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
- 多層の屈折率制御層のうち基材から最も遠い層が低屈折率層である請求項２に記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記ハードコート層又は防眩層の厚さが１〜２５μｍであり、前記屈折率制御層の厚さが１層あたり５０〜１２０ｎｍである請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 電離放射線が紫外線である請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- （Ａ）層及び（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物をエクストルージョン型ダイコーターのスリットより吐出させて積層する請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- （Ａ）層を形成するための樹脂組成物の粘度が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の粘度よりも小さい請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- （Ａ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力が（Ｂ）層を形成するための樹脂組成物の表面張力よりも大きい請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- （Ａ）層及び（Ｂ）層形成用樹脂組成物を溶解するためのそれぞれの溶媒が互いに溶解性を有する請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 前記防眩層が無機及び／又は有機粒子を含む請求項１〜９のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
- 光学フィルムが反射防止フィルム又は防眩フィルムである請求項１〜１０のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007095177A JP4900001B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-03-30 | 光学フィルムの製造方法 |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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