JP2017185482A - 積層体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】２層以上からなる塗布層をダイコート法により支持基材上に塗布し、活性エネルギー線を照射し、乾燥、硬化することで、層間密着性を有し、それぞれ異なる機能を持つ２層以上からなる塗布層を、一回の塗布で形成する積層体の製造方法を提供することである【解決手段】２層以上からなる塗布層をダイコート法により支持基材の少なくとも片面に積層する積層体の製造方法であって、２種類以上の塗料組成物をダイコート法により支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）、前記塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）、前記塗膜を乾燥する工程（工程３）、前記塗膜を硬化する工程（工程４）をこの順に１回で行うことを特徴とする、積層体の製造方法。【選択図】なし

Description

本発明は、積層体の製造方法に関する。

近年、ウィンドウガラス代替用途やスマートフォン、テレビ、パソコンなどの各種ディスプレイ用途、その他家電製品用途や自動車内装部品用途において、耐傷付き性や耐擦過性、防汚性、防眩性、アンチブロッキング性などの複数の表面機能を表面層に設けたプラスチックフィルムの高機能化が要求されている。例えば、ウィンドウガラス代替用途では、ガラス並みの耐傷付き性と耐擦過性などの複数の表面機能が必要とされる。また、各種ディスプレイ用途や家電製品用途、自動車内装部品用途においては、耐傷付き性と防汚性や耐指紋性、反射防止性などの複数の表面機能が必要とされる。さらに、その他用途に応じて、耐薬品性、耐油性、成形性、離軽性、帯電防止性、アンチブロッキング性、バリア性など様々な機能も要求される。

そして、各種ディスプレイ用途、その他家電製品用途や自動車内装部品用途では、複数の塗布層を積層し、機能分離することによる高機能化や塗布層の薄膜化の要求が高まっており、支持基材上に塗布される塗布層の多層化が必要となってきている。

２層以上からなる塗布層を形成する方法として、特許文献１では、一層目の塗料組成物を塗布、乾燥、硬化させた後、更に一層からなる塗布層上に２層目の塗料組成物を塗布、乾燥、硬化させ２層からなる塗布層を形成することが提案されている。また、特許文献２では、１層目の塗料組成物を塗布、乾燥を行い、次いで２層目の塗料組成物を塗布、乾燥を実施し、最後に硬化を行うことで２層からなる塗布層を形成することが提案されている。

また、上述の各機能を有する塗料組成物の多くは、樹脂バインダーに種々の添加剤を添加し、有機溶剤等により希釈された低粘度の塗料組成物である。塗布層を多層化するためには、これらの低粘度の塗料組成物を均一に塗布、乾燥、硬化することが必要である。塗料組成物を均一に塗布するためには、一般的には、小径グラビアコーターや、ワイヤーバーコーターなどの後計量方式の塗布が用いられる。

一方、表面層に反射防止性やバリア性など、その用途から極めて高い次元での品位（キズ、ムラ）、品質（膜厚の幅方向、長手方向の安定性）の管理が求められている表面機能を有する場合、本質的には上述の小径グラビアコーターやワイヤーバーコーターのような後計量方式による塗布よりも、基材に対し非接触で、前計量方式での塗布が可能なダイコート法が用いられる。

特許文献３では、２層同時塗布可能なダイコート法を用い、塗布、乾燥、硬化することで２層からなる塗布層を形成することが提案されている。

特開２０１２−３０５９７号公報 特開２００８−１２９２６号公報 特開平１１−１００６０号公報

しかしながら、特許文献１、２では、２層からなる塗布層を形成するために、一層毎に塗布、乾燥、硬化を行い、その工程を二回繰り返す製造方法を用いている。これについて本発明者らが確認したところ、塗布、乾燥、硬化の工程を層の数だけ繰り返す必要することで、一定の機能を有する２層からなる塗布層を形成することはできたが、層間密着性に欠けるという課題があった。

また、特許文献３においては、２層同時塗布可能なダイヘッドを用いて２層を同時塗布し、次いで乾燥、硬化することで２層からなる塗布層を形成している。これについても本発明者らが検証したところ、それぞれの層が持つ機能を得ることができないという課題があった。

そこで、本発明は、層間密着性を有し、それぞれ異なる機能を持つ２層以上からなる塗布層を、一回の塗布で形成することができる積層体の製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明者らは、鋭意研究を重ね、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
１）２層以上からなる塗布層をダイコート法により支持基材の少なくとも片面に積層する積層体の製造方法であって、２種類以上の塗料組成物をダイコート法により支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）、前記塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）、前記塗膜を乾燥する工程（工程３）、前記塗膜を硬化する工程（工程４）をこの順に１回で行うことを特徴とする、積層体の製造方法。
２）前記２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類が吸収波長域の異なる光重合開始剤を２種類以上含むことを特徴とする前記１）に記載の積層体の製造方法。
３）前記２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類が波長３５０ｎｍ以上に吸収極大波長を有する光重合開始剤を少なくとも１種類含むことを特徴とする前記１）または２）に記載の積層体の製造方法。
４）前記工程４が活性エネルギー線照射により前記塗膜を硬化する工程であり、前記工程２における活性エネルギー線の積算光量（Ｉ_２）と、前記工程４における活性エネルギー線の積算光量（Ｉ_４）が以下の関係にあることを特徴とする、１）から３）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
０．０５≦Ｉ_２/Ｉ_４≦１．０
５）前記工程２にて照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値（ｗ_２）と前記工程４にて照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値（ｗ_４）との差（ｗ_２−ｗ_４）が、２０ｎｍ以上であることを特徴とする、４）に記載の積層体の製造方法。
６）前記工程２において、照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値が３５０ｎｍ以上であることを特徴とする前記１）から５）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
７）前記工程２おいて、照射する活性エネルギー線の分光分布の半値全幅が、２０ｎｍ以下であることを特徴とする前記１）から６）のいずれかに記載の積層体の製造方法。

本発明によれば、層間密着性を有し、それぞれ異なる機能を持つ２層以上からなる塗布層を、一回の塗布で形成することができる積層体の製造方法を提供することができる。

本発明に用いられるダイコート法の一例（多層スライドダイコート）を示す断面図 本発明に用いられるダイコート法の一例（多層スロットダイコート）を示す断面図 本発明に用いられるダイコート法の一例（ウェット−オン−ウェットコート）を示す断面図 本発明の製造方法に係る積層体の構成の一例を示す断面図 本発明の実施例の製造工程 本発明の比較例の製造工程 本発明の製造方法に係る積層体の構成と、塗布層内の断面構造観察位置

発明の実施の形態について述べる前に、上記課題の発生原因について、本発明者の視点で述べる。

まず、特許文献１、２に記載の方法における塗布層の層間密着性の問題については、２層からなる塗布層を形成するために、一層毎に塗布、乾燥、硬化を行い、その工程を二回繰り返す製造方法を用いているため、２層間に界面ができ、２層目の塗膜形成時の硬化収縮による内部応力により、１層目と２層目の界面にひずみが発生し、結果、層間密着性が低下したと考えられる。

また、特許文献３に記載の方法では、複数層の塗膜を塗布後、すぐに乾燥工程に入る場合、乾燥工程において、隣り合う層の塗膜間で、濃度勾配により、均一層になろうと層間拡散が発生すると考えられる。その結果、それぞれの層に求められる機能が発現しなくなったと推測した。

そこで、本発明者らは、上記課題を解決するために、以下の方法を見出した。まず、２種類以上の塗料組成物をダイコート法により支持基材上に塗布することで２層以上からなる塗膜を形成する。次いで、塗膜を乾燥させる前に活性エネルギー線を照射することで塗布された塗膜をゲル化させ、層間拡散を抑制する。最後に、塗膜を乾燥、硬化するという工程で２層以上からなる塗布層を形成する。上記方法を用いることで、塗膜間の層間拡散を抑制し、各層それぞれの機能を維持することが可能となり、さらには、２層以上からなる塗布層を１回の塗布、乾燥、硬化により形成することで、層間にはっきりした界面を作らないため、層間の密着性も付与することが可能となる。

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。

本発明の積層体の製造方法は、２層以上からなる塗布層をダイコート法により支持基材の少なくとも片面に積層する積層体の製造方法であって、２種類以上の塗料組成物をダイコート法により支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（以下、工程１）、前記塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（以下、工程２）、前記塗膜を乾燥する工程（以下、工程３）、前記塗膜を硬化する工程（以下、工程４）をこの順に１回で行う。なお、本発明において、１回で行うとは、前記工程１〜工程４を１回行うことにより、２層以上からなる塗布層を形成することをいう。前記工程１〜工程４をこの順で行うことではじめて上記課題を解決し、２層以上からなる塗布層の層間拡散を抑制し、それぞれ異なる機能を持つ２層以上からなる塗布層を、一回の塗布で形成し、層間密着性を有した積層体の製造することが出来る。本発明の製造方法が、この順に行われなかった場合、上記目的を達成することは困難となる。

本発明の製造方法において、工程１は、２層以上からなる塗膜を形成する工程であり、２種類以上の塗料組成物をダイコート法により、支持基材上に塗布し塗膜を形成する。ダイコート法は塗布前の状態で液膜を順に積層後塗布する「多層スライドダイコート」（図１）や、基材上に塗布と同時に積層する「多層スロットダイコート」（図２）、支持基材上に１層の液膜を形成後、未乾燥の状態でもう１層を積層させる「ウェット−オン−ウェットコート」（図３）等のいずれでもよい。なお、上記「塗膜」は、工程１により、２種類以上の塗料組成物をダイコート法により支持基材上に塗布し形成される乾燥前の状態のことであり、「塗布層」は、２種類以上の塗料組成物を塗布後、乾燥、硬化させた状態のことを意味する。さらに、２層以上の複数の層から形成された「塗布層」は、例えば２層の場合、表面側の層からＡ層、Ｂ層と呼ぶ（図４）。

以下、各種ダイコート法および塗布層の例について、図面を用いて説明する。

図１は、多層スライドダイコートの一例を示す断面図である。この例では、多層スライドダイ１の最も上流側のスロット２、上流側から２番目のスロット３、上流側から３番目のスロット４、最も下流側のスロット５に、それぞれ異なる塗料組成物を用いる。これらの塗料組成物は、互いに層状に重なった状態となって支持基材へと送られ、支持基材の搬送方向の上流側６から支持基材の搬送方向の下流側７に向かって搬送される支持基材上に塗布され、塗膜を形成する。

図２は、多層スロットダイコートの一例を示す断面図である。この例では、多層スロットダイ８の最も上流側のスロット９、上流側から２番目のスロット１０に、それぞれ異なる塗料組成物を用いる。これらの塗料組成物は、スロットから吐出された後、スロット外部で合流し、支持基材の搬送方向の上流側１１から支持基材の搬送方向の下流側１２に向かって搬送される支持基材上に塗布され、塗膜を形成する。

図３は、ウェット−オン−ウェットコートの一例を示す断面図である。この例では、単層スロットダイ１３、１４にそれぞれ異なる塗料組成物を用いる。まず、単層スロットダイ１３より吐出された塗料組成物を支持基材の搬送方向の上流側１５から支持基材の搬送方向の下流側１６に向かって搬送される支持基材上に塗布し、次いで単層スロットダイ１４より吐出された塗料組成物を上記単層スロットダイ１３より塗布された液膜上に塗布して、塗膜を形成する。

図４は、本発明の製造方法に係る積層体の構成の一例を示す断面図である。この例は、本発明の製造方法により、２種類の塗料組成物をダイコート法により支持基材１７上に塗布し、表層側よりＡ層１９、Ｂ層２０からなる２層の塗布層１８を形成する。

本発明の製造方法において、工程２は、塗布された２層以上からなる塗膜に活性エネルギー線を照射する工程である。前記工程２は、乾燥工程前に行う。前記活性エネルギー線の照射は、照射により塗布された塗膜をゲル化させ、層間拡散を抑制できれば、設定条件は適宜調整してよい。塗膜を完全に硬化させず、ゲル化させることにより、例えば、塗布層が２層の場合、塗布された２種類の塗料組成物の上下層への濃度勾配による層間拡散を抑えられ、２層それぞれの機能を維持することが可能となる。また、ゲル化により、上下層の層間拡散抑制が可能となるため、機能を維持した状態で塗布層を薄膜化することも出来る。なお、本発明においてゲル化とは塗布された塗膜の硬化反応が一部進行し、塗膜の少なくとも一部が本発明の製造方法の２種類以上の塗料組成物に用いられる溶剤に対して不溶になった状態を意味する。

前記工程２を行わない場合、複数層の塗膜が塗布された後、すぐに乾燥工程に入ることとなる。そのため、乾燥工程において、隣り合う層の塗膜間で、濃度勾配により、均一層になろうと層間拡散が発生し、それぞれの層に求められる機能が発現しなくなる可能性がある。

前記工程２で照射する活性エネルギー線の光源としては、例えばＵＶ−ＬＥＤランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアークランプ、キセノンランプ等を光源とするものが挙げられ、これらを２種類以上用いてもよい。

前記工程２において、照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値は、３５０ｎｍ以上であることが好ましい。前記中央値は、より好ましくは３５０〜４５０ｎｍであり、さらに好ましくは３５０〜４００ｎｍである。積算分光分布の中央値が３５０ｎｍ以上である活性エネルギーを照射することにより、３５０ｎｍ以上に吸収極大波長を有する光重合開始剤を２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類に含む場合に、ゲル化が十分に起こり易くなり、乾燥工程で層間拡散が発生しにくくなり、それぞれの層に求められる機能が発現しやすくなる。

前記工程２において、照射する活性エネルギー線の分光分布は、単波長、輝線スペクトル、連続スペクトルのいずれでもよいが、ＵＶ-ＬＥＤなど単波長の分光分布を有することが好ましい。さらに、前記工程２において、照射する活性エネルギー線の分光分布の半値全幅が、２０ｎｍ以下であることが好ましい。半値全幅が２０ｎｍ以下の分光分布である活性エネルギー線を照射することにより、効率的に塗膜をゲル化しやすくなり、それぞれの層が求める機能が発現しやすくなる。なお、ここで、「積算分光分布の中央値」とは、分光分布を積分曲線で表し、丁度面積が半分となるときの波長の値のことを意味する。また、「半値全幅」とは、単波長の分光分布において、相対放射強度がその極大値の１／２強度の２点間の間隔を意味する。

また、前記活性エネルギー線の照射量は、塗料組成物の種類、塗布層の厚み等により異なるため、適宜好ましい条件を選択するものであるが、塗膜をゲル化できれば、特に限定はなく、照射強度1〜３０００ｍＷ/ｃｍ^２で、積算光量５〜５００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましい。照射強度、積算光量を１ｍＷ／ｃｍ^２以上、５ｍＪ／ｃｍ^２以上とすることにより、塗膜のゲル化不足となりにくくなり、塗布された２種類の塗料組成物の上下層への濃度勾配による層間拡散を抑えやすくなる。そのため、層間拡散が発生しにくくなり、塗布層それぞれの機能が分離しやすくなり、層本来の機能が発現しやすくなる。また、照射強度、積算光量を３０００ｍＷ／ｃｍ^２以下、５００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることにより、工程２で、塗膜中の架橋反応が進み過ぎてしまいにくくなり、工程３の乾燥工程で完全に溶媒を除去しやすくなる。そのため、溶媒が残った状態の積層フィルムとなりにくくなり、求められる機能を発現しやすくなる。

本発明の製造方法において、工程３は、前記塗膜を乾燥する工程である。前記工程３では、完全に溶媒を除去することに加え、塗布層の支持基材への密着性を向上させるため、塗膜の加熱を行うことが好ましい。乾燥方法については、伝熱乾燥（高熱物体への密着）、対流伝熱（熱風）、輻射伝熱（赤外線）、その他（マイクロ波、誘導加熱）などが挙げられる。この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向でも乾燥速度を均一にする方が好ましいため、対流伝熱、または輻射伝熱を使用した方式が好ましい。さらに、乾燥温度は、室温から２００℃であることが好ましく、より好ましくは６０℃以上２００℃以下、さらに好ましくは８０℃以上１８０℃以下である。

工程３は一般的に（Ａ）恒率乾燥区間、（Ｂ）減率乾燥区間に分けられ、前者は、塗膜表面において溶媒分子の大気中への拡散が乾燥の律速になっているため、乾燥速度は、この区間において一定で、乾燥速度は大気中の被蒸発溶媒分圧、風速、温度により支配され、膜面温度は熱風温度と大気中の被蒸発溶媒分圧により決まる値で一定になる。後者は、塗膜中での溶媒の拡散が律速となっているため、乾燥速度はこの区間において一定値を示さず低下し続け、塗膜中の溶媒の拡散係数により支配され、膜面温度は上昇する。ここで乾燥速度とは、単位時間、単位面積当たりの溶媒蒸発量を表わしたもので、ｇ・ｍ^−２・ｓ^−１の次元からなる。

前記乾燥速度は、０．１ｇ・ｍ^−２・ｓ^−１以上１０ｇ・ｍ^−２・ｓ^−１以下であることが好ましく、０．１ｇ・ｍ^−２・ｓ^−１以上５ｇ・ｍ^−２・ｓ^−１以下であることがより好ましい。恒率乾燥区間における乾燥速度をこの範囲にすることにより、乾燥速度の不均一さに起因するムラを防ぐことができる。

０．１ｇ・ｍ^−２・ｓ^−１以上１０ｇ・ｍ^−２・ｓ^−１以下の範囲の乾燥速度が得られるならば、特に特定の風速、温度に限定されない。

本発明の製造方法において、工程４は、前記塗膜を硬化する工程である。前記工程４では、熱または活性エネルギー線を照射することにより塗膜を硬化させることが好ましい。より好ましくは活性エネルギー線を照射する方法である。
硬化工程において、熱で硬化する場合には、室温から２００℃であることが好ましく、硬化反応の活性化エネルギーの観点から、より好ましくは６０℃以上２００℃以下、さらに好ましくは８０℃以上１８０℃以下である。活性エネルギー線により硬化する場合には、汎用性の点から電子線（ＥＢ線）および／または紫外線（ＵＶ線）であることが好ましい。また、紫外線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低いことが好ましく、窒素雰囲気下（窒素パージ）で硬化することがより好ましい。酸素濃度を低くすることにより、最表面の硬化が阻害されにくくなり、十分に硬化しやすくなり、耐擦傷性、耐アルカリ性が低下しにくくなる。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。

放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が１００〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２となる条件で紫外線照射を行うことがより好ましい。

ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計及び被照射物との光源距離によって変化する。しかし、光源下を通過する被照射物の搬送速度によって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する被照射物の搬送速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。

また、前述の好ましい紫外線の積算光量は、測定波長範囲３００ｎｍから３９０ｎｍの範囲に感度分布を持ち、３６５ｎｍに最大分光感度を有する紫外線照度計（岩崎電気株式会社製 アイ紫外線積算照度計 ＰＤ−３６５）により測定されたものを指す。

前述の工程２と工程４の、活性エネルギー線の積算光量の関係には好ましい範囲がある。具体的には、前記工程２における活性エネルギー線の積算光量（Ｉ_２）と、前記工程４における活性エネルギー線の積算光量（Ｉ_４）が以下の式１の関係にあることが好ましく、式２の関係にあることがより好ましい。
式１ ０．０５≦Ｉ_２/Ｉ_４≦１．０
式２ ０．１≦Ｉ_２/Ｉ_４≦０．６。

紫外線の積算光量の関係が前述の範囲よりも小さくなると、ゲル化が不十分になり必要な機能が得られない場合がある。また、大きくなると、ゲル化が過剰になるため、溶媒の揮発が進みにくくなり、残存溶媒量が増えたり、または塗膜に亀裂が入ったりする場合がある。

また、前述の工程２と工程４に用いる活性エネルギー線の積算分光分布の関係には、好ましい範囲がある。具体的には、記工程２にて照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値（ｗ_２）と前記工程４にて照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値（ｗ_４）の差（ｗ_２−ｗ_４）が、２０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。

２０ｎｍ未満であると、工程２で行う塗膜のゲル化と、工程４で行う塗膜の硬化を分離することが不十分になる場合があり、ゲル化過剰による塗膜品位の低下、ゲル化不足による層界面の形成不良による塗膜の機能不十分が生じる場合がある。

本発明において、２層以上からなる塗布層の層間拡散が抑制されているか否かの判断は、塗布層の断面構造を確認し、塗布層に変化がないこと、および塗布層の各層の物性に変化がないことを確認することで判断出来る。

塗布層に変化がないことは、例えば、後述の［塗布層の積層構成］に記載のとおり、２層の場合、Ａ層となる塗料組成物に粒子を添加し、Ｂ層となる塗料組成物には粒子を添加しない構成にて、塗布して形成した塗布層の断面構造を確認し、粒子の有無（塗布層のＢ層への粒子の偏析度合い）を確認することで判断できる。

また、塗布層の各層の物性に変化がないことは、例えば、後述の［ハードコート性］、［耐擦傷性］、［帯電防止性］、［アンチブロッキング性］に記載された各機能の測定を行うことにより、積層体が各層それぞれの機能を維持していることを確認することで判断できる。

［塗料組成物］
本発明の積層体の製造方法に用いられる塗料組成物は、支持基材上に２種類以上の塗料組成物を吐出可能なダイを用いて塗布し塗膜を形成する工程（工程１）、前記塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）、前記塗膜を乾燥する工程（工程３）、前記塗膜を硬化する工程（工程４）をこの順に行うことにより、支持基材上に前述の塗布層を形成することができる液体であれば特に限定されるものではない。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、溶媒、バインダー原料、光重合開始剤、粒子分散物、その他添加剤等を含むことが好ましく、それぞれの材料種、物性、添加量により制御することで機能を達成することが可能になる。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、溶媒を含むことが好ましい。より好ましくは、前記２種類以上の塗料組成物のすべてが溶媒を含む。前記溶媒は、特に限定されるものではないが、通常、常圧での沸点が２５０℃以下の溶媒が好ましい。具体的には、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類、含フッ素化合物類等が用いられる。これらは、１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。

アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェニチルアルコール等を挙げることができる。

ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。

エーテル類としては、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。

エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等を挙げることができる。

炭化水素類のうち、芳香族類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。

アミド類としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、バインダー原料を含むことが好ましい。より好ましくは、前記２種類上の塗料組成物のすべてがバインダー原料を含む。前記バインダー原料は、特に限定されるものではないが、一種類であってもよいし、二種類以上を混合して用いてもよい。また、生産性の観点より、熱および／または活性エネルギー線などにより、硬化可能であることが好ましい。多官能アクリレートモノマー、オリゴマー、アルコキシシラン、アルコキシシラン加水分解物、アルコキシシランオリゴマー、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー等が用いられる。

多官能アクリレートモノマーの例としては、１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマー、具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサンメチレンジイソシアネートウレタンポリマーなどを用いることができる。これらの単量体は、１種または２種以上を混合して使用することができる。

また、市販されている多官能アクリル系組成物としては三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”（登録商標）シリーズなど）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”（登録商標）シリーズなど）、新中村化学株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”（登録商標）など）、東亞合成株式会社；（“アロニックス”（登録商標）シリーズなど）、日油株式会社；（“ブレンマー”（登録商標）シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標）シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズなど）などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。

アクリル系ポリマーとしては、多官能アクリレートモノマー（例、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート）の重合反応により合成することが好ましい。ウレタン系ポリマーの例には、メラミンポリウレタンが含まれる。シリコーン系ポリマーとしては、シラン化合物（例、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン）と反応性基（例、エポキシ、メタクリル）を有するシランカップリング剤との共加水分解物が好ましく用いられる。また、各種ポリマーは、不飽和基を含有せず、重量平均分子量が５，０００〜２００，０００で、ガラス転移温度が２０〜２００℃のものを用いることができる。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、光重合開始剤を含むことが好ましい。より好ましくは、２種類以上の塗料組成物のすべてが、光重合開始剤を含む。前記光重合開始剤により、無機粒子間、バインダー原料間、無機粒子とバインダー原料間の反応が促進されやすくなる。前記光重合開始剤としては、種々のものを使用できるが、塗料組成物をラジカル反応等による重合および／またはシラノール縮合および／または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。かかる光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのうち、高い硬化性を有する点から、アルキルフェノン系化合物が好ましい。アルキルフェノン系化合物の具体例としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モリフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルフォリニル）フェニル］−１−ブタン、α−ヒドロキシケトン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−エトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）]、アシルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、吸収波長域の異なる光重合開始剤を２種類以上含むことが好ましい。より好ましくは、２種類以上の塗料組成物のすべてが、吸収波長域の異なる光重合開始剤を２種以上含む。
なお、本発明において、「吸収波長域の異なる」とは、光重合開始剤の吸収極大波長が５ｎｍ以上異なることを表す。この「吸収極大波長」とは、光重合開始剤の０．２質量％メタノール溶液について、ＪＩＳ０１１５−２００４に基づく液体の吸光度測定に基づいて測定された吸収スペクトルを測定し、最も長波長側に現れる吸収極大に対応する波長を指す。
前記吸収極大波長は、１０ｎｍ以上異なることが好ましく、５０ｎｍ以上異なることがより好ましい。前記塗料組成物に、吸収波長領域の異なる光重合開始剤を２種類以上含むことで、前記活性エネルギー線の照射する工程（工程２）において、塗膜を完全に硬化させず、ゲル化させやすくし、さらに、硬化工程４でエネルギー線を照射することにより２層の塗膜を硬化させやすくなり、２層からなる塗布層の層間拡散を抑制しやすくなる。活性エネルギー線を照射する工程（工程２）は、乾燥工程（工程３）前に行う。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、波長３５０ｎｍ以上に吸収極大波長を有する光重合開始剤を少なくとも１種類含むことが好ましい。より好ましくは、２種類以上の塗料組成物のすべてが、波長３５０ｎｍ以上に吸収極大波長を有する光重合開始剤を少なくとも１種類含む。光重合開始剤の少なくとも１種を波長３５０ｎｍ以上に吸収極大波長を有する光重合開始剤とすることで、工程２において、積算分光分布の中央値が３５０ｎｍ以上である活性エネルギーを照射することにより、ゲル化が十分に起こり易くなり、乾燥工程で層間拡散が発生しにくくなるため、それぞれの層に求められる機能が発現しやすくなる。

前記波長３５０ｎｍ以上に吸収極大波長を有する光重合開始剤の例として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ベンゾフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モリフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、１，２−オクタンジオン，１−[４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）]、α−ヒドロキシケトン、アシルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、前記光重合開始剤と併用して、硬化剤、触媒を添加してもよい。前記硬化剤、触媒を併用することにより、無機粒子間やバインダー原料間、無機粒子とバインダー原料間の反応が、より促進されやすくなる場合がある。前記硬化剤、触媒の例として、酸性触媒や、熱重合開始剤が挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、粒子分散物を含むことが好ましい。前記粒子分散物に含まれる粒子は特に限定されないが、金属元素、半金属元素、および半金属元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物、炭酸塩、および硫酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一つであることが好ましく、Ｓｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｇａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、およびＣｅからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であることがより好ましい。

具体的には、シリカ（ＳｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_３）、およびインジウムスズ酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一つ、あるいはこれらの間の固溶体、および一部元素を置換、または一部元素が格子間に侵入、一部元素が欠損した固溶体、または種類の異なる無機粒子が接合した無機粒子である。該粒子は、特に好ましくはリン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）や酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）である。

本発明の製造方法に用いられる２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類は、その他添加剤として、本発明の効果を阻害しない範囲において、レベリング剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を含んでもよい。これにより、前記塗料組成物から得られる塗布層は、レベリング剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を含有することができる。

前記レベリング剤の例としては、アクリル共重合体またはシリコーン系、フッ素系のレベリング剤が挙げられる。

前記紫外線吸収剤の具体例としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シュウ酸アニリド系、トリアジン系およびヒンダードアミン系の紫外線吸収剤が挙げられる。

前記帯電防止剤の例としてはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、セシウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などの金属塩が挙げられる。

［支持基材］
本発明の積層体の製造方法で製造される積層体は、前記塗布層を設けるため支持基材を必要とする。支持基材に特に限定はなく、プラスチックフィルム、プラスチックシート、プラスチックレンズ、金属シート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

プラスチックフィルム、プラスチックシートを支持基材に使用する場合の例としては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンなどが挙げられる。これらの中でも特にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。

支持基材の表面には、前記塗布層を形成する前に各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例としては、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が挙げられる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がより好ましい。

［用途例］
本発明の積層体の製造方法によれば、塗布層の層間拡散を抑制し、それぞれ異なる機能を持つ２層以上からなる塗布層を、一回の塗布で形成し、層間密着性を有した様々な高機能プラスチックフィルムを得ることができる。

例えば、耐擦傷層、反射防止層、帯電防止層、アンチブロッキング層、防汚層、防眩層、バリア層、自己修復層、アンカー層等の各種機能層とハードコート層と組み合わせることで、ハードコートフィルムへの耐擦傷性、反射防止性、帯電防止性、アンチブロッキング性、防汚性、防眩性、バリア性、自己修復性、密着性等の各種機能を塗布層に有する積層体を好適に製造することができる。

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。

＜塗料組成物＞
［耐擦傷層に用いる塗料組成物Ａ１］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ａ１を得た。塗料組成物Ａ１は、耐擦傷性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー ２５質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＰＥＴ−３０ 日本化薬株式会社製）
・シリカ粒子分散液 ５０質量部
（ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ 日産化学工業株式会社製 固形物濃度４６質量％）
・アルミナ粒子分散液 ５質量部
（ＮＡＮＯＢＹＫ−３６０１ ビックケミー・ジャパン株式会社製 固形物濃度９７質量％）
・光ラジカル重合開始剤 １．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６ Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［耐擦傷層に用いる塗料組成物Ａ２］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ａ２を得た。塗料組成物Ａ２は、耐擦傷性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー ２５質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＰＥＴ−３０ 日本化薬株式会社製）
・シリカ粒子分散液 ５０質量部
（ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ 日産化学工業株式会社製 固形物濃度４６質量％）
・アルミナ粒子分散液 ５質量部
（ＮＡＮＯＢＹＫ−３６０１ ビックケミー・ジャパン株式会社製 固形物濃度９７質量％）
・光ラジカル重合開始剤 １．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（“ルシリン”（登録商標）ＴＯＰ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［耐擦傷層に用いる塗料組成物Ａ３］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ａ３を得た。塗料組成物Ａ３は、耐擦傷性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー ２５質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＰＥＴ−３０ 日本化薬株式会社製）
・シリカ粒子分散液 ５０質量部
（ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ 日産化学工業株式会社製 固形物濃度４６質量％）
・アルミナ粒子分散液 ５質量部
（ＮＡＮＯＢＹＫ−３６０１ ビックケミー・ジャパン株式会社製 固形物濃度９７質量％）
・光ラジカル重合開始剤 １．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）。

［耐擦傷層に用いる塗料組成物Ａ４］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ａ４を得た。塗料組成物Ａ４は、耐擦傷性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー ２５質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＰＥＴ−３０ 日本化薬株式会社製）
・シリカ粒子分散液 ５０質量部
（ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ 日産化学工業株式会社製 固形物濃度４６質量％）
・アルミナ粒子分散液 ５質量部
（ＮＡＮＯＢＹＫ−３６０１ ビックケミー・ジャパン株式会社製 固形物濃度９７質量％）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６ Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［耐擦傷層に用いる塗料組成物Ａ５］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ａ５を得た。塗料組成物Ａ５は、耐擦傷性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー ２５質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＰＥＴ−３０ 日本化薬株式会社製）
・シリカ粒子分散液 ５０質量部
（ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ 日産化学工業株式会社製 固形物濃度４６質量％）
・アルミナ粒子分散液 ５質量部
（ＮＡＮＯＢＹＫ−３６０１ ビックケミー・ジャパン株式会社製 固形物濃度９７質量％）
・光ラジカル重合開始剤 １．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（“イルガキュア”（登録商標）６５１ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３４０ｎｍ）。

［帯電防止層に用いる塗料組成物Ａ６］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度３０質量％の塗料組成物Ａ６を得た。塗料組成物Ａ６は、帯電防止性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー １００質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＤＰＨＡ 日本化薬株式会社製）
・帯電防止剤 １．０質量部
（ＵＶ−ＡＳＨＣ−０１ 日本化成株式会社製 固形物濃度７０質量％）
・光ラジカル重合開始剤 １．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６ Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［アンチブロッキング層に用いる塗料組成物Ａ７］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度３０質量％の塗料組成物Ａ７を得た。塗料組成物Ａ７は、アンチブロッキング性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー １００質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＤＰＨＡ 日本化薬株式会社製）
・シリカ粒子分散液 ５．０質量部
（ＭＥＫ−ＡＢ−５０５ 日産化学工業株式会社製 固形物濃度３０質量％）
・光ラジカル重合開始剤 １．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６ Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［Ｂ層に用いる塗料組成物Ｂ１］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ｂ１を得た。塗料組成物Ｂ１は、ハードコート性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー １００質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＤＰＨＡ 日本化薬株式会社製）
・光ラジカル重合開始剤 ３．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６ Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［Ｂ層に用いる塗料組成物Ｂ２］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ｂ２を得た。塗料組成物Ｂ２は、ハードコート性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー １００質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＤＰＨＡ 日本化薬株式会社製）
・光ラジカル重合開始剤 ３．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（“ルシリン”（登録商標）ＴＯＰ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［Ｂ層に用いる塗料組成物Ｂ３］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ｂ３を得た。塗料組成物Ｂ３は、ハードコート性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー １００質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＤＰＨＡ 日本化薬株式会社製）
・光ラジカル重合開始剤 ３．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）。

［Ｂ層に用いる塗料組成物Ｂ４］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ｂ４を得た。塗料組成物Ｂ４は、ハードコート性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー １００質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＤＰＨＡ 日本化薬株式会社製）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６ Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
（吸収極大波長： ３８０ｎｍ）。

［Ｂ層に用いる塗料組成物Ｂ５］
下記材料を混合し、メチルエチルケトンを用いて希釈し固形分濃度５０質量％の塗料組成物Ｂ５を得た。塗料組成物Ｂ５は、ハードコート性を付与した塗布層を形成するために用いた。
・多官能アクリレートモノマー １００質量部
（“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標） ＤＰＨＡ 日本化薬株式会社製）
・光ラジカル重合開始剤 ３．０質量部
（“イルガキュア”（登録商標）１８４ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３３０ｎｍ）
・光ラジカル重合開始剤 ０．５質量部
（“イルガキュア”（登録商標）６５１ ＢＡＳＦジャパン株式会社製）
（吸収極大波長： ３４０ｎｍ）。

＜積層体の製造方法＞
［積層体の製造方法１］
図５に示す製造工程によって、支持基材に厚み１２５μｍのＰＥＴ樹脂フィルム“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８（東レ株式会社製）、ダイ２１に図２に示す多層スロットダイ８を用い、積層体を製造した。まず、支持基材を搬送方向２９に搬送し、支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）２５にて、多層スロットダイの搬送方向の上流側のスロットから塗料組成物Ｂを、搬送方向の下流側のスロットから塗料組成物Ａを、指定された膜厚比率になるように吐出流量を調整して塗布した。次いで、塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）２６にて、活性エネルギー線照射装置２２を用いて、活性エネルギー線照射した。続いて、塗膜を乾燥する工程（工程３）２７にて、乾燥炉２３を用いて、塗膜を乾燥した。最後に、塗膜を硬化する工程（工程４）２８にて、紫外線硬化装置２４を用いて、塗膜を硬化し、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。また、工程２、工程３、工程４は、下記条件を用いた。

［工程２］
活性エネルギー線照射装置 ： ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３８５）
（積分分光分布の中央値：３８５ｎｍ、半値全幅：１５ｎｍ）
照射強度 ： ５０ｍＷ／ｃｍ^２
照射時間 ： ２秒間
積算光量 ： １００ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法２］
工程２、工程３、工程４を下記条件とした以外は、積層体の製造方法１と同様の製造方法にて、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。

［工程２］
活性エネルギー線照射装置 ： ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３８５）
（積分分光分布の中央値：３８５ｎｍ、半値全幅：１５ｎｍ）
照射強度 ： １０ｍＷ／ｃｍ^２
照射時間 ： ２秒間
積算光量 ： ２０ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法３］
工程２、工程３、工程４を下記条件とした以外は、積層体の製造方法１と同様の製造方法にて、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。

［工程２］
活性エネルギー線照射装置 ： ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３６５）
（積分分光分布の中央値：３６５ｎｍ、半値全幅：１０ｎｍ）
照射強度 ： ５０ｍＷ／ｃｍ^２
照射時間 ： ２秒間
積算光量 ： １００ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法４］
工程２、工程３、工程４を下記条件とした以外は、積層体の製造方法１と同様の製造方法にて、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。

［工程２］
活性エネルギー線は、下記２種の光源を用いた。
活性エネルギー線照射装置 ： １ ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３８５）
活性エネルギー線照射装置 ： ２ ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３６５）
（積分分光分布の中央値：３７５ｎｍ、半値全幅：２０ｎｍ）
照射強度 ： 活性エネルギー線１ ２０ｍＷ／ｃｍ^２
活性エネルギー線２ ２０ｍＷ／ｃｍ^２
照射時間 ： ２秒間
積算光量 ： ８０ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法５］
工程２、工程３、工程４を下記条件とした以外は、積層体の製造方法１と同様の製造方法にて、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。

［工程２］
活性エネルギー線照射装置 ： 高圧水銀灯（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ、半値全幅：＞２０ｎｍ）
照射強度 ： １００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ５０ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法６］
図６に示す製造工程によって、支持基材に厚み１２５μｍのＰＥＴ樹脂フィルム“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８（東レ株式会社製）、ダイ２１に図２に示す多層スロットダイ８を用い、積層体を製造した。まず、支持基材を搬送方向２９に搬送し、支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）２５にて、多層スロットダイの搬送方向の上流側のスロットから塗料組成物Ｂを、搬送方向の下流側のスロットから塗料組成物Ａを、指定された膜厚比率になるように吐出流量を調整して塗布した。次いで、塗膜を乾燥する工程（工程３）２７にて、乾燥炉２３を用いて、塗膜を乾燥した。最後に、塗膜を硬化する工程（工程４）２８にて、紫外線硬化装置２４を用いて、塗膜を硬化し、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。また、工程３、工程４は、下記条件を用いた。

［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：８０℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法７］
図６に示す製造工程によって、支持基材に厚み１２５μｍのＰＥＴ樹脂フィルム“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８（東レ株式会社製）、ダイ２１に図３に示す単層スロットダイ１３を用い、積層体を製造した。まず、支持基材を搬送方向２９に搬送し、支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）２５にて、単層スロットダイから塗料組成物Ｂを、指定された膜厚になるように吐出流量を調整して塗布した。次いで、塗膜を乾燥する工程（工程３）２７にて、乾燥炉２３を用いて、塗膜を乾燥後、塗膜を硬化する工程（工程４）２８にて、紫外線硬化装置２４を用いて、塗膜を硬化し、Ｂ層を作製した。続いて、得られたＢ層上に、Ｂ層を作製した上記工程と同様にして、塗料組成物Ａを、指定された膜厚比率になるように吐出流量を調整して塗布した（工程１）。次いで、Ｂ層を作製した上記工程と同様にして、乾燥（工程３）、硬化（工程４）を行って、Ａ層を積層し、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。また、工程３、工程４は、下記条件を用いた。

［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法８］
図５に示す製造工程によって、支持基材に厚み１２５μｍのＰＥＴ樹脂フィルム“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８（東レ株式会社製）、ダイ２１に図２に示す多層スロットダイ８を用い、積層体を製造した。まず、支持基材を搬送方向２９に搬送し、支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）２５にて、多層スロットダイの搬送方向の上流側のスロットから塗料組成物Ｂを、搬送方向の下流側のスロットから塗料組成物Ａを、指定された膜厚比率になるように吐出流量を調整して塗布した。次いで、塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）２６にて、活性エネルギー線照射装置２２を用いて、活性エネルギー線照射した。続いて、塗膜を乾燥する工程（工程３）２７にて、乾燥炉２３を用いて、塗膜を乾燥した。最後に、塗膜を硬化する工程（工程４）２８にて、紫外線硬化装置２４を用いて、塗膜を硬化し、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。また、工程２、工程３、工程４は、下記条件を用いた。

［工程２］
活性エネルギー線照射装置 ： ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３８５）
（積分分光分布の中央値：３８５ｎｍ、半値全幅：１５ｎｍ）
照射強度 ： ５ｍＷ／ｃｍ^２
照射時間 ： ２秒間
積算光量 ： １０ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。
［積層体の製造方法９］
図５に示す製造工程によって、支持基材に厚み１２５μｍのＰＥＴ樹脂フィルム“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８（東レ株式会社製）、ダイ２１に図２に示す多層スロットダイ８を用い、積層体を製造した。まず、支持基材を搬送方向２９に搬送し、支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）２５にて、多層スロットダイの搬送方向の上流側のスロットから塗料組成物Ｂを、搬送方向の下流側のスロットから塗料組成物Ａを、指定された膜厚比率になるように吐出流量を調整して塗布した。次いで、塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）２６にて、活性エネルギー線照射装置２２を用いて、活性エネルギー線照射した。続いて、塗膜を乾燥する工程（工程３）２７にて、乾燥炉２３を用いて、塗膜を乾燥した。最後に、塗膜を硬化する工程（工程４）２８にて、紫外線硬化装置２４を用いて、塗膜を硬化し、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。また、工程２、工程３、工程４は、下記条件を用いた。

［工程２］
活性エネルギー線照射装置 ： ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３８５）
（積分分光分布の中央値：３８５ｎｍ、半値全幅：１５ｎｍ）
照射強度 ： ５０ｍＷ／ｃｍ^２
照射時間 ： ２秒間
積算光量 ： １００ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： ＵＶ−ＬＥＤ（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３６５）
（積分分光分布の中央値：３６５ｎｍ）
照射強度 ： ７５ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： １５０ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

［積層体の製造方法８］
図５に示す製造工程によって、支持基材に厚み１２５μｍのＰＥＴ樹脂フィルム“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８（東レ株式会社製）、ダイ２１に図２に示す多層スロットダイ８を用い、積層体を製造した。まず、支持基材を搬送方向２９に搬送し、支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）２５にて、多層スロットダイの搬送方向の上流側のスロットから塗料組成物Ｂを、搬送方向の下流側のスロットから塗料組成物Ａを、指定された膜厚比率になるように吐出流量を調整して塗布した。次いで、塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）２６にて、活性エネルギー線照射装置２２を用いて、活性エネルギー線照射した。続いて、塗膜を乾燥する工程（工程３）２７にて、乾燥炉２３を用いて、塗膜を乾燥した。最後に、塗膜を硬化する工程（工程４）２８にて、紫外線硬化装置２４を用いて、塗膜を硬化し、Ａ層／Ｂ層を有する積層体を作製した。また、工程２、工程３、工程４は、下記条件を用いた。

［工程２］
活性エネルギー線照射装置 ： ＵＶ−ＬＥＤ
（ＣＣＳ社製 型式：ＨＬＵＶ−１２６ＵＶ３８５）
（積分分光分布の中央値：３８５ｎｍ、半値全幅：１５ｎｍ）
照射強度 ： ２．５ｍＷ／ｃｍ^２
照射時間 ： ２秒間
積算光量 ： ５ｍＪ／ｃｍ^２
［工程３］
乾燥炉： 対流伝熱（熱風）
送風温湿度 ： 温度：１００℃
風速 ： 塗布面側：５ｍ／秒、反塗布面側：５ｍ／秒
風向 ： 塗布面側：基材の面に対して平行、反塗布面側：基材の面に対して垂直
滞留時間 ： １分間
［工程４］
紫外線硬化装置： 高圧水銀灯ランプ（アイグラフィックス社製 型式：Ｈ０４−Ｌ４１）
（積分分光分布の中央値：３１０ｎｍ）
照射強度 ： ３００ｍＷ／ｃｍ^２
積算光量 ： ２００ｍＪ／ｃｍ^２
酸素濃度 ： ２００ｐｐｍ以下。

以上の方法により、表１に示す塗料組成物、積層体の製造方法の組み合わせで、実施例１〜１３、比較例１〜４の積層体を作製した。

＜積層フィルムの評価＞
実施例１〜１３、比較例１〜４で作製した積層体について、次に示す機能、性能評価を実施し、得られた結果を表１に示す。

［塗布層の膜厚測定］
実施例１〜１３、比較例１〜４で作製した積層体の塗布層の膜厚を接触式の膜厚計（株式会社Ｎｉｋｏｎ製 デジマイクロ ＭＨ−１５Ｍ）を用い、測定した。

また、塗布層のＡ層、Ｂ層それぞれの膜厚については、図２に示す製造工程により、単層のスロットダイを用いて、Ａ層に用いる塗料組成物ＡおよびＢ層に用いる塗料組成物Ｂで指定されたＡ層およびＢ層の膜厚になるように吐出流量を調整し、塗布し、乾燥（工程３）、硬化（工程４）を行い、Ａ層およびＢ層単膜の積層体を作製し、作製した積層体のＡ層およびＢ層単膜の膜厚を、塗布層の膜厚を測定する場合と同様、接触式の膜厚計（株式会社Ｎｉｋｏｎ製 デジマイクロ ＭＨ−１５Ｍ）を用い、測定した。

［塗布層の積層構成］
実施例１〜１３、比較例１〜４で作製した積層体の断面を凍結ミクロトーム法により切り出した。その断面を電界放射走査電子顕微鏡（ＪＳＭ−６７００Ｆ型 日本電子（株）製）を用いて、塗布層のＢ層への粒子の偏析度合いを確認した。偏析度合いを確認する塗布層の各位置を図７に示す。

支持基材１７上に積層した塗布層１８のＢ層２０のＡ層１９側から１０％の位置（位置Ａ）３０、塗布層１８のＢ層２０のＡ層１９側から３０％の位置（位置Ｂ）３１、塗布層１８のＢ層２０のＡ層１９側から５０％の位置（位置Ｃ）３２、塗布層１８のＢ層２０のＡ層１９側から９０％の位置（位置Ｄ）３３のそれぞれの断面を観察し、粒子の有無により確認した。Ｂ層側に粒子が存在しなければ、層間拡散が抑制され、機能が良好である。

５点： 位置Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ全ての位置で粒子が存在しない
４点： 位置Ａのみ粒子が存在する
３点： 位置Ａ、Ｂで粒子が存在する
２点： 位置Ａ、Ｂ、Ｃで粒子が存在する
１点： 位置Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ全ての位置で粒子が存在する。

［密着性］
実施例１〜１３、比較例１〜４で作製した積層体を温度２３℃、相対湿度６５％で２４時間放置した後、同環境にて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６（１９９９）に記載の付着性（クロスカット法）に従い、密着性を評価した。表面層に設けた格子の残存個数により、評価を行い、「○」であれば、密着性合格とする。

○： 表面層の残存個数が９０以上
×： 表面層の残存個数が９０未満。

［ハードコート性］
実施例１〜１３、比較例１〜４で作製した積層体を温度２０℃で１２時間放置した後、同環境にてＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４（１９９９）に記載の引っかき硬度（鉛筆法）に従い、表面層の表面硬度を測定した。表面硬度が２Ｈ以上を合格とする。

５点： 表面硬度４Ｈ以上
４点： 表面硬度３Ｈ
３点： 表面硬度２Ｈ
２点： 表面硬度Ｈ
１点： 表面硬度Ｆ以下
［耐擦傷性］
実施例１〜８、１１〜１３および比較例１、２で作製した積層体について、＃００００のスチールウールを用い、平面摩耗試験機（株式会社大栄科学精器製作所製 ＰＡ−３００Ａ）を用いて、荷重１ｋｇ／ｃｍ^２にて、塗布層の表面を１００往復摩擦し、傷の発生の有無を目視により観察し、以下の判定基準に従い、評価した。
５点： ０本
４点： １本以上 ５本未満
３点： ５本以上 １０本未満
２点： １０本以上 ２０本未満
１点： ２０本以上。

［帯電防止性］
実施例９、比較例３で作製した塗布層のＡ層が帯電防止層である積層体について、高抵抗率計（株式会社三菱化学アナリテック製の商品名ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０）にて印加電圧１０００Ｖで表面抵抗値を測定した。測定した表面比抵抗が１×１０^１１Ω／□未満であれば、帯電防止性が良好である。なお、表面比抵抗の単位Ω／□とは、Ω／ｓｑ．（単位面積あたりの抵抗）の意味である。

［アンチブロッキング性］
実施例１０、比較例４で作製した積層体について、積層体を切断して２枚のシート片（５ｃｍ×５ｃｍ）を作製した。作製した２枚のシート片を塗布層面が向かい合うようにして重ね合わせる。次に、２枚のシート片を重ね合わせた試料をガラス版で挟み込み、１２．２ｋｇ／ｃｍ^２の荷重をかけ、８０℃のオーブンで２４時間放置する。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離し、以下の基準で評価した。「○」であれば、アンチブロッキング性が良好である。

○： 剥離前のニュートンリングの発生がなく、剥離時、剥離音なく軽く剥離される
×： 剥離前全面にニュートンリングが発生する、または剥離時、剥離音を立てて剥離される。

表１から明らかなように、実施例１〜実施例８及び実施例１１〜１３で作製した積層体は、密着性に優れ、２層間の層間拡散が少なく、２層それぞれの機能の維持し、ハードコート性と耐擦傷性に優れたバランスのよい積層体であった。さらに、実施例９、１０で作製した積層体についても、密着性に優れ、２層間の層間拡散が少なく、２層それぞれの機能を維持し、帯電防止性とハードコート性、アンチブロッキング性とハードコート性に優れたバランスのよい積層体であった。

また、工程２を実施しなかった比較例１、３、４で作製した積層体は、密着性には優れるものの、２層間の層間拡散が見られ、ハードコート性と耐擦傷性、帯電防止性、およびアンチブロッキング性に欠ける積層体であった。一層毎に塗布、乾燥、硬化を行い、その工程を２回繰り返した比較例２で作製した積層体は、層間拡散がなくハードコート性と耐傷性は良好なものの、層間密着性に欠ける積層体であった。

１： 多層スライドダイ
２、９ ： 最も上流側のスロット
３、１０： 上流側から２番目のスロット
４： 上流側から３番目のスロット
５： 最も下流側のスロット
６、１１、１５： 支持基材の搬送方向の上流側
７、１２、１６： 支持基材の搬送方向の下流側
８： 多層スロットダイ
１３、１４： 単層スロットダイ
１７： 支持基材
１８： 塗布層
１９： Ａ層
２０： Ｂ層
２１： ダイ
２２： 活性エネルギー線照射装置
２３： 乾燥炉
２４： 紫外線照射装置
２５： 支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）
２６： 塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）
２７： 塗膜を乾燥する工程（工程３）
２８： 塗膜を硬化する工程（工程４）
２９： 搬送方向
３０： 塗布層のＢ層のＡ層側から１０％の位置（位置Ａ）
３１： 塗布層のＢ層のＡ層側から３０％の位置（位置Ｂ）
３２： 塗布層のＢ層のＡ層側から５０％の位置（位置Ｃ）
３３： 塗布層のＢ層のＡ層側から９０％の位置（位置Ｄ）

本発明に係る積層体は、プラスチック成型品、家電製品、建築物や車両内装品および種々の印刷物のそれぞれの表面に同様の機能を付与するためにも用いることができる。

Claims (7)

1. ２層以上からなる塗布層をダイコート法により支持基材の少なくとも片面に積層する積層体の製造方法であって、２種類以上の塗料組成物をダイコート法により支持基材上に塗布し塗膜を形成する工程（工程１）、前記塗膜に活性エネルギー線を照射する工程（工程２）、前記塗膜を乾燥する工程（工程３）、前記塗膜を硬化する工程（工程４）をこの順に１回で行う、積層体の製造方法。
2. 前記２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類が吸収波長域の異なる光重合開始剤を２種類以上含む、請求項１に記載の積層体の製造方法。
3. 前記２種類以上の塗料組成物のうち、少なくとも１種類が、波長３５０ｎｍ以上に吸収極大波長を有する光重合開始剤を少なくとも１種類含む、請求項１または２に記載の積層体の製造方法。
4. 前記工程４が活性エネルギー線照射により前記塗膜を硬化する工程であり、前記工程２における活性エネルギー線の積算光量（Ｉ_２）と、前記工程４における活性エネルギー線の積算光量（Ｉ_４）が以下の関係にあることを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の積層体の製造方法。
   ０．０５≦Ｉ_２/Ｉ_４≦１．０
5. 前記工程２にて照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値（ｗ_２）と前記工程４にて照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値（ｗ_４）との差（ｗ_２−ｗ_４）が、２０ｎｍ以上であることを特徴とする、請求項４に記載の積層体の製造方法。
6. 前記工程２において、照射する活性エネルギー線の積算分光分布の中央値が３５０ｎｍ以上である、請求項１から５のいずれかに記載の積層体の製造方法。
7. 前記工程２おいて、照射する活性エネルギー線の分光分布の半値全幅が、２０ｎｍ以下である、請求項１から６のいずれかに記載の積層体の製造方法。