JP2008247741A - 光ファイバ母材の製造方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光ファイバ母材中の水酸基を十分なレベルまで低減でき、しかも特別の装置や操作条件を必要とすることのない光ファイバ母材の製造方法とその装置の提供。
【解決手段】気相合成法により得られた多孔質ガラス母材に脱水剤による脱水処理を施す際に、この脱水処理を、４０℃における透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管を通して供給される脱水剤によって行い、前記脱水剤を通す透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管の外側が空隙を隔てて外部配管で囲繞され、前記空隙に露点−８０℃以下のガスを流すことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、波長１２８０〜１６００ｎｍの領域での水酸基に起因する伝送損失を低減した光ファイバを得ることができる光ファイバ母材の製造方法及びその装置に関するものである。

光ファイバを構成するガラス中に水酸基が存在すると、この水酸基に起因して波長１３８５ｎｍ付近に吸収が現れ、これが光ファイバの伝送損失の一因となっている。
このため、従来より、光ファイバ母材を製造する過程において、脱水工程を設けて光ファイバ母材中に含まれる水酸基を低減することが行われている。

この脱水方法は、ＶＡＤ法などの気相合成法により得られた多孔質ガラス母材を脱水装置に収め、この脱水装置内にＣｌ_２、ＳＯＣｌ_２、ＣＣｌ_４などの塩素系化合物ガスを含む脱水剤を供給し、光ファイバ母材を１０００〜１３００℃程度の加熱し、多孔質ガラス中に吸着している水分を除去するものである。

しかしながら、この従来の脱水方法では、脱水効果が不十分な場合があり、その改善が求められていた。
このためのものとして、特開平１１−１７１５７５号公報、特開２００２−１８７７３３号公報に開示の方法などがある。
しかし、これらの方法は、特別の設備、例えばプラズマエッチング装置を必要としたり、大型の光ファイバ母材を製造することが困難で、操作条件が複雑であったりして、実用性に乏しい欠点があった。
また、このような光ファイバ母材の脱水処理に関する先行特許としては、上述のもの以外に、米国特許第６１３１４５号、米国特許公開第２００２−００７３７４１号など、多数のものがある。
特開昭５７−１７４３３号公報 特開平１１−１７１５７５号公報 特開２００２−１８７７３３号公報 米国特許第６１３１４５号 米国特許公開第２００２−００７３７４１号

よって、本発明における課題は、光ファイバ母材中の水酸基を十分なレベルまで低減でき、しかも特別の装置や操作条件を必要とすることのない光ファイバ母材の製造方法とその装置を得ることにある。

かかる課題を解決するため、本発明は、気相合成法により得られた多孔質ガラス母材に脱水剤による脱水処理を施す際に、
この脱水処理を、４０℃における透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管を通して供給される脱水剤によって行い、前記脱水剤を通す透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管の外側が空隙を隔てて外部配管で囲繞され、前記空隙に露点−８０℃以下のガスを流すことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法を提供する。

本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記空隙に流す露点−８０℃以下のガスは、空気、窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウムの少なくとの１種類のガスを含むガスであることが好ましい。

本発明の光ファイバ母材の製造方法において、前記脱水剤は、露点が−８５℃以下のキャリアガスと共に供給されることが好ましい。

本発明の光ファイバ母材の製造方法において、露点が−９０℃以下の不活性ガスをさらに追加して供給することが好ましい。

また本発明は、気相合成法により得られた多孔質ガラス母材を脱水剤により脱水する脱水装置を備えた光ファイバ母材の製造装置において、
前記脱水装置の脱水剤を供給するための配管の４０℃における透湿係数を１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下とし、前記透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管は、その外側が空隙を隔てて外部配管で囲繞されていることを特徴とする光ファイバ母材の製造装置を提供する。

本発明の光ファイバ母材の製造装置において、前記外部配管は、透湿係数１．０×１０^−１０ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管であることが好ましい。

本発明の光ファイバ母材の製造装置において、前記透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管は、透湿係数と配管の表面積との積が１．０×１０^−８ｇ・ｃｍ／ｓ・ｃｍＨｇ以下を保持するように配管されていることが好ましい。

本発明における透湿係数とは、水蒸気の配管材料に対する、拡散係数と溶解度係数の積で表される値として定義される。

本発明の光ファイバ母材の製造方法及びその装置によれば、脱水装置に脱水剤を供給する配管内に外部から侵入する水分が減少するので、脱水処理時の雰囲気中の水分が減少し、多孔質ガラス母材中の水分をよく除去でき、脱水効果が十分となり、水分量の少ない多孔質ガラス母材を得ることができる。また、装置構成として高価な装置を用いることがなく、簡単な装置の改良で済む。さらに、時間を要する複雑な操作管理をする必要もない。

その結果、シングルモード光ファイバの波長１３８５ｎｍの水酸基に起因する伝送損失ピークを低減せしめることが可能となり、例えば１２８０ｎｍ〜１６００ｎｍの波長領域で望ましい伝送特性を有する光ファイバを安定して、容易に製造することが可能となる。

以下、本発明を詳しく説明する。
脱水処理に用いられる脱水剤として、塩素（Ｃｌ_２）、フッ素（Ｆ_２）、塩化チオニール（ＳＯＣｌ_２）、四塩化炭素（ＣＣｌ_４）などから選択される化合物が用いられ、これら脱水剤は、ヘリウム（Ｈｅ）ガスやアルゴン（Ａｒ）ガスなどの不活性ガスからなるキャリアガスに同伴されて使用されている。これらの脱水剤は、金属に対して腐食性を有するため、これら脱水剤を供給するための配管として、合成樹脂を使用した配管を使用するのが一般的である。

しかしながら、これらの配管が合成樹脂製であることから、その透湿性が金属よりも高く、外部から微量の水分が配管内部に侵入して、配管内を流れる脱水剤に混入し、水分が微量に混入した脱水剤によって脱水処理が行われることになり、脱水効果が低下することがある。
本発明者はかかる事実に着目してこの発明を完成させたものである。

以下、本発明の光ファイバ母材の製造方法の実施形態を図面を参照して説明する。
図１は、光ファイバ母材の製造方法の一例を説明する工程系統図である。光ファイバ母材Ｚの作製に当たっては、先ずコアロッドＭｃを用意し、次いで該コアロッドＭｃの外周面にガラス微粒子を堆積し、脱水、焼結せしめて光ファイバ母材Ｚとするものであり、これを以下に説明する。

［Ｉ］コアロッドＭｃの作製
先ずＶＡＤ法によるコア母材作製装置１で、反応容器１１中で、回転かつ引き上げ可能な種棒１２の先端に、コアバーナー１３及びクラッドバーナー１４の酸水素火炎中で例えば四塩化珪素（ＳｉＣｌ_４）及び四塩化ゲルマニウム（ＧｅＣｌ_４）などのコアロッド用ガラス原料Ｍｏを反応させて、これらのガラス微粒子を堆積せしめて多孔質コア母材Ｍ１を作製する。

次いで、前記多孔質コア母材Ｍ１を脱水焼結装置２により脱水処理する。これは、およそ１２００℃の温度下で、０．１〜１０容量％の塩素、塩化チオニール、四塩化炭素などの脱水剤が含まれたアルゴンガス、ヘリウムガスなどのキャリアガス（なお、必要に応じて０．１〜１０容量％の酸素を添加してもよい）の雰囲気下で、多孔質コア母材Ｍ１を脱水剤と接触せしめて脱水し、多孔質コア母材Ｍ１の内部の水酸基を減少させるものである。

続いて、脱水焼結処理装置２で、前記脱水処理された多孔質コア母材Ｍ１を、ヘリウム雰囲気（必要に応じて塩素、フッ素等を添加しても良い）で、およそ１４００℃〜１６００℃の温度で加熱して焼結処理せしめて、透明ガラス化したコア母材Ｍを得る。そして、延伸装置３で、前記透明ガラス化したコア母材Ｍを不活性ガス雰囲気下で、約１８００℃〜２０００℃に加熱して延伸、縮径せしめて、所望するコアロッドＭｃを製作する。

［ＩＩ］光ファイバ母材Ｚの作製
引き続いて、上記工程を経て得られたコアロッドＭｃは、次いで、光ファイバ母材作製装置４により、水平（又は垂直）にして長手方向の軸を中心にして回動せしめて、例えば四塩化珪素（ＳｉＣｌ_４）などのガラス原料ガスを、コアロッドＭｃの長手方向に沿って移動するバーナ１５の酸水素火炎中で反応させて、ガラス微粒子Ｚｏとして、前記コアロッドＭｃの外周面に均一に堆積せしめて多孔質光ファイバ母材Ｚ１を作製する。

続いて、焼結処理装置５で、前記脱水処理された多孔質光ファイバ母材Ｚ１を、ヘリウム雰囲気（必要に応じて塩素、フッ素等を添加しても良い）で、およそ１４００℃〜１６００℃の温度で加熱して焼結処理せしめて、透明ガラス化した光ファイバ母材Ｚを得る。この時、必要に応じて、焼結処理の前にコアロッド作製の時と同様、脱水処理を行っても良い。

かくして、このようにして得られた光ファイバ母材Ｚは、線引き装置で、不活性ガス雰囲気下でその先端部を約１８００℃〜２２００℃に加熱し、線引き加工して、外径１２５μｍの光ファイバ裸線とする。さらに、この光ファイバ裸線上に樹脂被覆を施して、外径が２５０μｍ（必要に応じて変更可能）の光ファイバ素線とする。

そして、本発明では、上記各工程よりなる光ファイバ母材の製造方法において、前記多孔質コア母材Ｍ１及び多孔質光ファイバ母材Ｚ１を脱水処理する際、それぞれの焼結脱水装置２に脱水剤を供給する配管を、透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の材料からなる配管、より好ましくは３．０×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の材料でなる配管を使用するものである。これを図２に図示する脱水装置の説明概略図により説明する。

図２において、本発明の焼結脱水装置２は、電気ヒータ２１を設けた電気炉２０よりなり、この電気炉２０には、脱水剤を導入する供給配管Ｐ１が、弁Ｖ１を介して、ヘリウム等の不活性ガスが流れる配管Ｐ２と合流したうえ、主供給管Ｐに合流連結し、電気炉２０内に連通するように配設されている。そして、前記脱水剤供給配管Ｐ１及び主供給管Ｐ（これら脱水剤が流通する供給管路を便宜上まとめて「Ｐｄ」とも記す）を、透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下、より好ましくは３．０×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の材料からなる配管としたものである。

そしてこのような透湿係数を有する配管材料として、例えばポリテトラフルオロエチレン、高密度ポリエチレンなどが好適に用いられ、配管の肉厚を０．５〜１．５ｍｍ程度とすることが好ましい。また、配管材料として、ステンレス鋼などの金属パイプ内面に、フッ素樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル樹脂などの耐食性樹脂のコーティングを施したパイプも使用可能である。
また、図２において、管Ｐ５は、電気炉２０内から反応後の残余の脱水剤やキャリアガスを排出するための排出管である。

次いで、電気ヒーター２１を通電して炉２０内を約１２００℃の温度にするとともに、前記透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の材料からなる供給配管Ｐ１に脱水剤とヘリウムガスなどからなるキャリアガス（必要に応じて酸素を添加してもよい）との混合ガスを流し、これと同時に配管Ｐ２からヘリウムガスなどの不活性ガスを流し、主供給配管Ｐにおいてこれらを合流させて電気炉２０内に供給する。

そして、電気炉２０内に収容した多孔質コア母材Ｍ１（又は多孔質光ファイバ母材Ｚ１）は、高温の脱水剤に曝されて、内部の水酸基が除去されて減少する。

このように、焼結脱水装置での脱水剤の供給に透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の低い値の材料からなる供給配管を使用したので、周囲からの水分の供給配管内への侵入が低減され、多孔質コア母材Ｍ１（又は多孔質光ファイバ母材Ｚ１）からの水酸基の除去効果を著しく向上し、水酸基を著しく低減した光ファイバ母材が得られる。

その結果、この光ファイバ母材から得られたシングルモード光ファイバでは、波長１３８５ｎｍでの水酸基の存在に起因する伝送損失を低減させることが可能となり、しかも高価な設備を付加したり、複雑な製造条件をもって加工することなく、安価な装置をもって、安定した品質を保持した製品を容易に製造することが可能となる。

また、前記キャリアガスとして使用するガスは、その露点が−８５℃以下、より好ましくは−９０℃以下のヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスであることが好ましい。
その上、前記脱水剤を流して供給する各配管Ｐ１及びＰは、湿度が４０％以下、より好ましくは２５％以下の雰囲気下に配置されるとより一層、水酸基の除去効果を向上せしめることが出来る。
また、配管Ｐ２から供給する不活性ガスとして、その露点が−９０℃以下の不活性ガスを用いることも水酸基除去効果を高めることになる。

更に、前記脱水剤を供給する各配管Ｐ１及びＰの他の態様として、図３に図示するように、透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の材料からなる内部管Ｐｘの外側に空隙２２を隔てて外部管Ｐｏで囲繞した、いわゆる二重管とし、前記空隙２２に露点−８０℃以下、より好ましくは−８５℃以下のガスを流すようにしてもよい。この場合、前記空隙２２に流す露点−８０℃以下のガスとしては例えば、空気、窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム等から選ばれた１種又はそれ以上の混合ガスを用いることができる。

本発明の実施例として、本発明の作用効果を検証するため、以下の実験を試みた。
配管Ｐ１及びＰ（便宜上これらをまとめて「脱水剤供給配管Ｐｄ」と記す）の(1)材質、(2)配設される周囲環境の湿度、(3)これに流すキャリアガス及び不活性ガスの露点、(4)一重管と二重管との差異、等の条件を変えて光ファイバを製造し、この条件の違いによって製造された光ファイバについて、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失（ｄＢ／ｋｍ）を測定して、効果を確認した。なお、上記製造した各光ファイバは、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失以外の光学特性は、所定の範囲内に保たれるようにした。

＜実施例１＞
脱水剤の供給配管Ｐｄとして、透湿係数の異なる材料からなる配管を使用して脱水剤を焼結脱水装置２に供給して、光ファイバ母材Ｚを得、これを線引きして得た光ファイバ（外径１２５μｍ）の波長１３８５ｎｍにおける伝送損失（ｄＢ／ｋｍ）を測定した。なお、用いた脱水剤の供給配管Ｐｄは、長さ５ｍ、外径６．３ｍｍとした。
その結果、得られたデータを表１に表示する。

表１から明らかなように、透湿係数が１０×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以上の配管では、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失が０．３０ｄＢ／ｋｍ以上に急激に上昇する。そして、透湿係数が１０×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管では、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失は０．３０ｄＢ／ｋｍ以下の低い値に留まっており、特に透湿係数が３．０×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管にあっては、伝送損失は０．２８ｄＢ／ｋｍと極めて低い値を保持することが判明した。

かかる結果から、焼結脱水装置２に脱水剤を供給するには、透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管、より好ましくは透湿係数が３．０×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管とすることが、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失を低減せしめるのに効果的であることが確認された。

＜実施例２＞
脱水剤の供給配管Ｐｄとして、透湿係数と脱水剤が接触する管の表面積（長さと、外径に関係）を考慮して、透湿係数×表面積を変化せしめ（長さや、外径を変えて）、それぞれこの値が異なる配管を使用して脱水剤を焼結脱水装置２に供給して、光ファイバ母材Ｚを得、これを線引きして得た光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失を測定した。
その結果、得られたデータを表２に表示する。

表２から明らかなように、透湿係数×表面積が１０×１０^−９ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以上の配管では、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失が０．３０ｄＢ／ｋｍ以上に急激に上昇する。そして、透湿係数×表面積が１０×１０^−９ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管では、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失は０．３ｄＢ／ｋｍ以下の低い値を保持することが判明した。

かかる結果から、焼結脱水装置２に脱水剤を供給するには、透湿係数×表面積が１．０×１０^−８ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の値になるような配管にして供給することが、波長１３８５ｎｍにおける伝送損失を低減せしめるのに効果的であることが確認された。

＜実施例３＞
焼結脱水装置２に供給する脱水剤の供給配管Ｐｄが配置される周囲環境、特に環境の湿度の差異で、製造される光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失にどのように影響するかを検証した。脱水剤の供給配管Ｐｄとして、透湿係数が２．５×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇで、長さ５ｍ、外径６．３ｍｍの配管を使用し、この脱水剤の供給配管Ｐｄを配置した室内の湿度を変化せしめて、それぞれの湿度の環境下に配置された供給配管Ｐｄを有する焼結脱水装置２を用いて製造された光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失を測定した。
その結果、得られたデータを表３に表示する。

表３から明らかなように、周囲の湿度が４０％以上になると、製造された光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失が０．２９ｄＢ／ｋｍ以上の値となり、そして湿度４０％以下の環境下での配管Ｐｄの配置で、製造された光ファイバの伝送損失は０．２９ｄＢ／ｋｍ以下の値となり、特に２５％以下の湿度では、その伝送損失は０．２８ｄＢ／ｋｍ以下の値となることが判明した。

かかる結果から、焼結脱水装置２に脱水剤を供給するには、湿度４０％以下の環境下に配設せしめた供給配管Ｐｄで行うことが、製造される光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失を低減せしめるのに効果的であり、更に湿度２５％以下に保持すればより一層効果的であることが確認された。

＜実施例４＞
焼結脱水装置２に脱水剤を供給するためのキャリアガスの露点が、製造される光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失にどのように影響するかを検証した。脱水剤の供給配管Ｐｄとして、透湿係数が３．１×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇで、長さ５ｍ、外径６．３ｍｍの配管を使用し、この配管Ｐｄを通して脱水剤を、ヘリウムガスからなるキャリアガスに同伴させて、脱水装置２及び脱水装置６に供給し、そのキャリアガスの露点を変化せしめて、光ファイバを製造した。そしてそれぞれの露点の異なるキャリアガスで脱水剤を送給した時に、それぞれ製造された光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失を測定した。
その結果、得られたデータを表４に表示する。

表４から明らかなように、キャリアガスの露点が−８５℃以上になると、製造された光ファイバの伝送損失が０．３０ｄＢ／ｋｍ以上の値となり、そして露点を−８５℃以下にすると、製造された光ファイバの伝送損失が０．３０ｄＢ／ｋｍ以下の値となり、更に露点を−９０℃以下にすると、伝送損失は０．２８ｄＢ／ｋｍ以下の値となることが判明した。

かかる結果から、焼結脱水装置２に脱水剤を供給するのに使用されるキャリアガスの露点を−８５℃以下、より好ましくは−９０℃以下に保持せしめることが、製造される光ファイバの伝送損失を低減せしめるのに効果的であることが確認された。

＜実施例５＞
焼結脱水装置２に供給されるガスの大部分を占める配管Ｐ２からの不活性ガスの露点が、製造される光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失にどのように影響するかを検証した。

脱水剤の供給配管は、透湿係数が３．１×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇで、長さ５ｍ、外径６．３ｍｍの配管を使用し、キャリアガスとして露点−９７℃のヘリウムを使用した。配管Ｐ２から供給されるヘリウムガスの露点を変化させて、光ファイバを製造した。
そして、それぞれの露点の異なるヘリウムガスを供給したときに、それぞれ製造された光ファイバの波長１３８５ｎｍにおける伝送損失を測定した。
結果を表５に示す。

表５から明らかなように、キャリアガスのヘリウムガスの露点が−９０℃以上となると、製造された光ファイバの伝送損失が０．３０ｄＢ／ｋｍ以上となり、そして露点を−８５℃以下にすると製造された光ファイバの伝送損失が０．３０ｄＢ／ｋｍ以下の値となり、さらに露点を−９５℃以下にすると伝送損失は０．２８ｄＢ／ｋｍ以下の値となることが判明した。

かかる結果から、焼結脱水装置２に供給されるキャリアガスとなる不活性ガスは、その露点を−９０℃以下、好ましくは−９５℃以下に保持せしめることが、製造される光ファイバの伝送損失を低減させるのに効果的であることが確認された。

＜実施例６＞
焼結脱水装置２に脱水剤を供給するための供給配管Ｐｄを、透湿係数が１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の材料でなる内部管Ｐｘの外側に空隙２２を隔てて外部管Ｐｏで囲繞した、いわゆる二重管とすること、そして、前記空隙２２に露点−８０℃以下のガスを流すようにした場合の効果について検証した、

検証は、透湿係数が３．１×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇである、長さ５ｍ、外径６．３ｍｍの管を内部管Ｐｘとして、その外側に空隙を保って塩化ビニル樹脂製の外部管Ｐｏを囲繞した二重管とし（図３参照）、前記空隙２２に露点−８８℃の窒素ガスを流した配管を使用して、前記内部管Ｐｘ内に脱水剤を流通せしめて、これを焼結脱水装置２に供給して、その時に製造された光ファイバの伝送損失を測定した。

そして、前記外部管Ｐｏを配置しない、透湿係数が同様の３．１×１０^−１２ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇである、長さ５ｍ、外径６．３ｍｍを内部管Ｐｘのみの単管で、脱水剤を焼結脱水装置２に供給して、その時に製造された光ファイバの伝送損失と比較した。
その結果、得られたデータを表６に表示する。

表６から明らかなように、内部管Ｐｘとして、その外側に空隙を保って外部管Ｐｏを囲繞し、空隙に露点−８８℃の窒素ガスを流した二重管で脱水剤を焼結脱水装置２に供給した場合に製造された光ファイバの伝送損失は、約０．２７３ｄＢ／ｋｍであり、これは外部管Ｐｏを配置しない、内部管Ｐｘのみの単管で、脱水剤を焼結脱水装置２に供給した場合での伝送損失約０．２７８ｄＢ／ｋｍより小さく、伝送損失の低減に効果があることが確認された。

この発明によれば、水酸基含有量の極めて少ない光ファイバ母材を得ることができ、したがって水酸基に起因する波長１３８５ｎｍ付近での伝送損失の極めて少ない光ファイバを製造することができる。

光ファイバ母材の製造方法の一例を説明する工程系統図である。 本発明の焼結脱水装置の一例を示す説明概略図である。 脱水剤の供給配管の別の一例を説明する部分外観図である。

符号の説明

１…ＶＡＤ法による多孔質コア母材作製装置、 ２…焼結脱水装置、４…多孔質光ファイバ母材作製装置、 Ｐ１、Ｐｄ…脱水剤供給配管、 Ｐ…主供給管、Ｐｘ…内部管、Ｐｏ…外部管。

Claims (7)

1. 気相合成法により得られた多孔質ガラス母材に脱水剤による脱水処理を施す際に、
   この脱水処理を、４０℃における透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管を通して供給される脱水剤によって行い、前記脱水剤を通す透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管の外側が空隙を隔てて外部配管で囲繞され、前記空隙に露点−８０℃以下のガスを流すことを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
2. 前記空隙に流す露点−８０℃以下のガスは、空気、窒素、酸素、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウムの少なくとの１種類のガスを含むガスであることを特徴とする請求項１記載の光ファイバ母材の製造方法。
3. 前記脱水剤は、露点が−８５℃以下のキャリアガスと共に供給されることを特徴とする請求項１または２記載の光ファイバ母材の製造方法。
4. 露点が−９０℃以下の不活性ガスをさらに追加して供給することを特徴とする請求項３記載の光ファイバ母材の製造方法。
5. 気相合成法により得られた多孔質ガラス母材を脱水剤により脱水する脱水装置を備えた光ファイバ母材の製造装置において、
   前記脱水装置の脱水剤を供給するための配管の４０℃における透湿係数を１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下とし、前記透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管は、その外側が空隙を隔てて外部配管で囲繞されていることを特徴とする光ファイバ母材の製造装置。
6. 前記外部配管は、透湿係数１．０×１０^−１０ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管であることを特徴とする請求項５記載の光ファイバ母材の製造装置。
7. 前記透湿係数１．０×１０^−１１ｇ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下の配管は、透湿係数と配管の表面積との積が１．０×１０^−８ｇ・ｃｍ／ｓ・ｃｍＨｇ以下を保持するように配管されていることを特徴とする請求項５または６記載の光ファイバ母材の製造装置。

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