JP2001072431A - 光ファイバ用母材の製造方法及び製造装置 - Google Patents

光ファイバ用母材の製造方法及び製造装置

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Takeshi Ogino
剛 荻野
Hiroyuki Koide
弘行 小出
Tadakatsu Shimada
忠克 島田
Hideo Hirasawa
秀夫 平沢
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    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 配管内ガスの温度、特にMFC流入直前のガ
ス温度を一定に制御して、MFCでの流量制御精度を大
幅に向上させることにより、ロット内及びロット間の多
孔質母材やプリフォームの特性変動を最小限に抑制した
光ファイバ用母材の製造方法及び製造装置を提供する。 【解決手段】 光ファイバ用母材4の製造工程におい
て、ガス供給系に設けられた質量流量制御器12に供給
されるガスの温度を一定に制御することを特徴としてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス原料ガスを
火炎加水分解反応させて形成されるガラス微粒子(スー
ト)をターゲット部材に堆積させて光ファイバ用多孔質
母材とし、これを焼結してプリフォームとする光ファイ
バ用母材の製造方法及び製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】光ファイバ用母材は、例えば、以下のよ
うにして製造される。図1に示すように、ガラス微粒子
堆積用バーナー1,2に、O2などの助燃性ガス、H2
どの燃焼ガス、Ar,N2などの不活性ガスとSiC
4、GeCl4などのガラス原料ガスを供給し、火炎中
でこれらのガスを加水分解反応させてガラス微粒子を形
成し、回転する棒状のターゲット部材3に付着堆積させ
て、多孔質母材4を製造している。その後、この多孔質
母材4は、図2に示すように、反応容器5内に図示を省
略した把持装置で吊り下げられ、例えば、Heなどの不
活性ガス、Cl2などのハロゲンガスおよびO2ガスを含
む雰囲気中で加熱炉6により加熱して、焼結される。
【0003】上記の工程において、所定の特性を持った
光ファイバ用母材を安定して得るには、バーナーや加熱
炉に供給されるガスの流量を常に所定の値に制御しなけ
ればならない。そこで従来から、ガスの流量を制御する
ために質量流量制御器(MFC;マスフローコントロー
ラ)が使用されている。このMFCをガス発生設備から
バーナーや加熱炉にいたるガス供給系に設置して、供給
するガス量を制御してきた。このMFCは雰囲気温度の
影響により、ゼロ点及びスパンが変化して実際に流れる
流量が変化する。このためMFCは、空調がなされてい
る室内または温度変化の少ないガスボックスの中に設置
されてきた。また、ガス発生設備も屋内に設置されてい
たり、屋外ガス設備から屋内に供給される場合にも使用
量が少なかった為、屋内配管を通過しガスボックスに到
達する頃には、ガス温度はほぼ一定となっていた。
【0004】ところが、近年、光ファイバ用母材の大型
化に伴ってガスの使用量が大幅に増加してきた。このた
めガス発生設備も極めて大型のものとなり、敷地や保安
上の制約から、製造設備と離れた場所に設置されてき
た。この結果、光ファイバ用母材の製造装置まで遠隔地
に設置されたガス発生設備から屋外配管を経てガスが導
かれることとなり、MFCに供給されるガスの温度が屋
外の昼夜温度変化の影響を受けて大幅に変化し、所望の
流量と実際の流量が異なるようになってしまった。さら
に、この影響は、母材の大型化による製造時間の増加に
より、ますます無視できないものとなってきた。
【0005】屋外の昼夜温度差は、例えば、配管付近で
は、春先と秋が比較的激しく変動している。また、夏で
も台風などの低気圧が通過して雨が急にふった場合には
温度差が大きい。1日の昼夜温度変化幅は、年間で1.
3〜19.3[℃]、平均で8.75[℃]となった。
さらに、前後の日を含めた3日間の昼夜温度変化幅は、
年間で5.4〜23.3[℃]、平均で12.88
[℃]である。母材の大型化にともない製造時間が増加
するとこの傾向はさらに顕著になる。MFCの温度変化
による影響は、新品で0.1〜0.2[%/℃]、1〜
2年使用したMFCでは、内部のフローセンサ、コント
ロールパネルなどの劣化により0.5[%/℃]に達す
ることもある。屋外で測定した気温とMFC流入直前の
ガス温度を比較したところ、殆ど同じであった。従っ
て、MFCの流量誤差は、製造時間が3日間に及ぶ場
合、新品の場合でも最大で4.66%、経年品では1
1.65%にも達する可能性があることになる。
【0006】ガス流量がこのような状態で母材を製造す
ると、VAD法の場合には、母材の長手方向における特
性変動が大きくなる。OVDやMCVD法などでは、堆
積途中で割れてしまうことがある。当然、ロット間にお
いても安定した製造は望めず、ロット間特性の変動は大
きくなり不良品が増加する。また、多孔質母材の焼結工
程においても同様であり、加熱炉に供給されるガスの流
量が経時的に変化すると、多孔質母材の長手方向に、あ
るいは径方向に焼結の程度が異なることとなり、所定の
特性を持った光ファイバ用プリフォームを安定して得る
ことができない。上記したように、MFCはガスの温度
変化の影響を受け、その制御性を低下させているが、M
FCに対するこの温度変化の影響を、MFCを高機能品
に変更することにより小さくすることができるが、この
高機能品は、高価な上に、サイズや操作仕様が異なるた
めに、高機能品への交換に際しては、配管関係や計器装
置関係も大幅に変更せねばならず、交換には多大な費用
を必要とするので問題であった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたもので、配管内ガスの温度、特にMF
C流入直前のガス温度を一定に制御して、MFCでの流
量制御精度を大幅に向上させることにより、ロット内及
びロット間の多孔質母材やプリフォームの特性変動を最
小限に抑制した光ファイバ用母材の製造方法及び製造装
置を提供する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、当初、母
材の大型化にともなうロット内及びロット間の特性変動
が、これまでの知見からバーナー火炎と堆積面の位置関
係の変動やチャンバー(反応容器)内の気流変動などに
よる堆積状況の変化がその原因だと考えて、反応容器の
形状やバーナー形状、ガス条件及び装置部品の配置等を
検討してきたが、この問題を解決できないでいた。MF
Cの故障も当然疑い、MFCスタンダートで検討を行っ
たが、特に問題はなかった。
【0009】そこで、特性変動の状況を詳細に検討した
ところ、比較的に、春先や秋などに特性変動が大きく、
また夏でも台風などの低気圧を伴った降雨があったとき
には変動が大きい事を見い出した。これらのことから屋
外の昼夜間温度差が原因ではないかと考えて、さらに調
査した。その結果、昼夜の温度変化が屋外配管内のガス
温度を変化させ、このガスの温度変化の影響を殆ど残し
た状態で、ガスはMFCに到達し、ガスの温度変化によ
りMFCの温度変化が起きたことが判明した。即ち、本
来設定通り流れるはずのガスが、MFCの温度変化によ
って設定値とは異なる流量のガスがバーナーに供給され
てしまい、母材の特性変化を引き起こしていることが判
明した。また、多孔質母材を焼結してプリフォームとす
る際、加熱炉に供給されるガスについても同様であり、
設定値と異なる流量のガスが加熱炉に供給されること
で、プリフォームの特性変化を引き起こしていることが
判明した。本発明者等は、この屋外の温度変化の影響が
配管内のガス温度に及ばないように検討を行い、本発明
を完成させた。
【0010】すなわち、本発明の光ファイバ用母材の製
造方法は、光ファイバ用母材の製造工程において、ガス
供給系に設けられたMFCに供給されるガスの温度を一
定に制御することを特徴としている。このガスの温度を
一定に制御するには、配管内を流れるガスの温度を一定
に制御することが好ましく、この一手段として、配管の
温度を一定に制御する方法が挙げられる。
【0011】本発明の光ファイバ用母材の製造装置は、
光ファイバ用母材の製造工程において、ガス供給系に設
けられたMFCに供給されるガスの温度を一定に制御す
る制御系を具備していることを特徴としている。この制
御系は、加熱装置及び/又は冷却装置と温度調節計から
なる温度制御装置を備えたものとすることができ、ガス
供給系の配管を加熱及び/又は冷却することによって配
管内のガスの温度をほぼ一定に制御することができる。
また、MFCにガスの温度を一定に制御して供給するに
は、外部温度変化を完全に遮断した断熱材でガス供給系
の配管を被覆することも有効である。なお、光ファイバ
用母材の製造工程には、多孔質母材を形成するガラス微
粒子堆積工程及び多孔質母材の焼結工程が含まれる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。図3は、光ファイバ用母材製造装置へのガス供給
系を示すモデル図である。ガス発生設備7は、通常、敷
地の形状や他の建屋との関係、さらには保安上の理由な
どから、光ファイバ用母材製造設備8の設けられた製造
工場から離れて設置され、ガスは、ガス発生設備7から
屋外配管9及び屋内配管10を経て製造設備8に供給さ
れる。ガスの温度はガス温度測定装置11で測定され、
ガス流量はMFC12で制御される。なお、MFCは、
ガス温度、ガス圧力及び周囲の温度の影響を受けるた
め、箱内に設置し、さらにこの箱を空調の設けられた室
内に設置した。
【0013】当然、屋外配管9の部分は、昼夜温度変化
を直接受けるために、気温の高い時には屋外配管9の温
度は上昇し、低い時には下降する。この影響を受けて内
部を流れるガスの温度も変化する。このとき、屋内の空
調によって、MFC直前でのガス温度の変化は多少緩和
されているが、せいぜい0.5℃で最大でも1.0℃程
度の改善であったにすぎない。従って、MFCは屋外の
気温変化をもろに受けていることになる。
【0014】この対策として、例えば、図3に示すよう
に屋外配管9の部分は二重管とされ、二重管の外側管が
わに液体が流され、この液体の温度は循環液温度制御装
置13で調節される。なお、ガス発生設備7から製造設
備8にいたるガスラインには、バルブやラインフィルタ
などの配管部品(図示を省略)が適宜取りつけられてい
る。また、MFCの数や仕様は、ガスの種類やバーナー
の本数、容器の数によって適宜変えられる。
【0015】さらに、ガス温度を一定に制御する具体的
な方法について説明する。 1)配管の屋外部分と屋内部分のうち、少なくとも屋外
部分の配管を二重配管とし、内側管にMFCに供給する
ガスを流し、外側管には液体を流す。配管内のガス温度
または配管の温度を、少なくとも一個所以上で測定し、
この情報に基づいて外側管内の液体を加熱または冷却し
て、ガス温度を一定に制御する。制御温度が高温となる
場合には、制御温度より高沸点で、制御温度で粘度の低
い液体などを流す。 2)配管の屋外部分と屋内部分のうち、少なくとも屋外
部分の配管の一部分または全体をヒーターで加熱する。
配管内のガス温度または配管の温度を、少なくとも一個
所以上で測定し、この情報に基づいてヒーターの温度を
制御する。 3)前記2手法のいずれかに加えて、さらに配管の外側
を断熱材で被覆すると制御性がさらに向上する。
【0016】ガス温度の調節に際して、配管全体を1シ
ステムとしてもよいが、複数のブロックに分けて複数の
システムで制御する方が、ガス温度の制御性は向上し、
また1つのシステムが故障しても、他の部分のシステム
でガス温度を一定に制御することができる。温度の測定
は、MFCの直前の配管内ガス温度を測定して、一定と
なるように温度制御することが望ましく、基本的には、
屋内配管部分に設けるとよい。また、屋外であっても、
配管内のガスが測定点以降で大きな温度影響を受けなけ
れば屋外でもよい。さらに、何ケ所かで測定して、総合
的に配管内ガス温度を制御してもよい。要するに、本発
明の光ファイバ用母材の製造方法は、MFCに対する温
度変化の影響を極力低減すればよく、温度を一定に制御
するガス供給系の構成には、上記以外に様々な態様が可
能である。
【0017】
【実施例】図3に示したガス供給系を設け、屋内のVA
D法による光ファイバ用多孔質母材製造装置にガスを供
給した。屋外の配管は二重管とし、循環液温度制御装置
で加熱または冷却して、ガスの温度を制御した。コアを
形成する堆積用バーナーには、H2ガス、O2ガス、Ar
ガス及びSiCl4、さらに屈折率分布を形成するため
にGeCl4を供給し、クラッドを形成する堆積用バー
ナーには、H2ガス、O2ガス、Arガス及びSiCl4
を供給して、火炎加水分解反応により生じたガラス微粒
子を回転上昇するターゲット部材に堆積させて多孔質母
材を形成した。このとき、多孔質母材の回転数は30
[rpm]で、母材引上速度は、0.8[mm/mi
n]である。この装置を用いて長さ2,000mm、外
径200mmφの多孔質母材を製造した。その後、この
多孔質母材を加熱炉で、例えば、Heなどの不活性ガ
ス、Cl2などのハロゲンガス及びO2ガスを含む雰囲気
中で加熱し、焼結して光ファイバ用プリフォームを得
た。各ガスの温度は、設定した測定点で20℃となるよ
うに制御した。製造開始から次の製造開始までの時間
は、約2日間であった。この製造設備を1ケ月間運転
し、1台で約15本製造した。
【0018】この間の昼夜温度差は、図4に示すように
1ケ月間で最大で19.3℃になっているのに対し、配
管内のガス温度の変動幅は、図5に示すように1ケ月間
で最大でも0.18℃にすぎず、非常に小さい変動幅で
制御することができた。この結果、製造された光ファイ
バ用母材はその長手方向の特性だけでなく、ロット間の
特性も極めて安定していた。
【0019】(比較例)屋外配管に何も施していないガ
ス供給系を用いたことを除いては、実施例と同様にして
光ファイバ用母材を製造した。この間の昼夜温度差は、
図6に示すように1ケ月間で最大で16.6℃、配管内
のガス温度の変動幅は、図7に示すように1ケ月間で最
大で14.7℃となっていた。
【0020】この間に製造されたロットの特性は、長手
方向で変動が大きく、1本全てが不良品となっているこ
ともあった。また、外気温が急激に変化したときには、
製造中の母材にクラックが発生することが多く、16本
製造したうち、3本でクラック、2本が特性上不良品と
なり、合格品は11本であった。さらにこの合格品のな
かにも、途中の気温変動で不良部分を含み、平均合格重
量は7,296[g/本]となり、重量歩留まりで7
8.5%であった。
【0021】他の実施例として、屋外配管の十数か所に
ヒーターを取り付けて、配管内のガス温度を制御した
が、結果は上記実施例と同様に良好であった。
【0022】
【発明の効果】上記したように、ガス発生設備と屋内に
設置されているMFCとの間の配管、特に屋外の配管に
対する昼夜温度変化の影響を減少させることができたた
め、配管内のガス即ちMFCに供給されるガスの温度変
化を大幅に低減することができた。この結果、MFCの
流量制御精度が向上し、ロット内及びロット間での特性
の安定した光ファイバ用母材を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 多孔質母材の製造を説明する概略説明図であ
る。
【図2】 反応容器内で多孔質母材を焼結する様子を示
す概略説明図である。
【図3】 ガス供給系の概略を示すモデル図である。
【図4】 本発明の実施例の昼夜温度差を示すグラフで
ある。
【図5】 本発明の実施例の配管内ガス温度差を示すグ
ラフである。
【図6】 比較例の昼夜温度差を示すグラフである。
【図7】 比較例の配管内ガス温度差を示すグラフであ
る。
【符号の説明】
1,2 ガラス微粒子堆積用バーナー 3 ターゲット部材 4 多孔質母材 5 反応容器 6 加熱炉 7 ガス発生設備 8 製造設備 9 屋外配管 10 屋内配管 11 ガス温度測定装置 12 MFC 13 循環液温度制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島田 忠克 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 平沢 秀夫 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 Fターム(参考) 4G021 EA01 EB06 EB13 EB26

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ用母材の製造工程において、
    ガス供給系に設けられた質量流量制御器に供給されるガ
    スの温度を一定に制御することを特徴とする光ファイバ
    用母材の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記ガスの温度を一定に制御するに際
    し、配管内を流れるガスの温度を一定に制御する請求項
    1に記載の光ファイバ用母材の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記配管内を流れるガスの温度を一定に
    制御するに際し、配管の温度を一定に制御する請求項2
    に記載の光ファイバ用母材の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記光ファイバ用母材の製造工程が、多
    孔質母材を形成するガラス微粒子堆積工程である請求項
    1乃至3のいずれかに記載の光ファイバ用母材の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 前記光ファイバ用母材の製造工程が、多
    孔質母材の焼結工程である請求項1乃至3のいずれかに
    記載の光ファイバ用母材の製造方法。
  6. 【請求項6】 光ファイバ用母材の製造工程において、
    ガス供給系に設けられた質量流量制御器に供給されるガ
    スの温度を一定に制御する制御系を具備していることを
    特徴とする光ファイバ用母材の製造装置。
  7. 【請求項7】 前記制御系が、加熱装置及び/又は冷却
    装置と温度調節計からなる温度制御装置を備えている請
    求項6に記載の光ファイバ用母材の製造装置。
  8. 【請求項8】 前記ガス供給系の配管を、外部温度変化
    を完全に遮断した断熱材で被覆してなる請求項6又は7
    に記載の光ファイバ用母材の製造装置。
  9. 【請求項9】 前記光ファイバ用母材の製造工程が、多
    孔質母材を形成するガラス微粒子堆積工程である請求項
    6乃至8のいずれかに記載の光ファイバ用母材の製造装
    置。
  10. 【請求項10】 前記光ファイバ用母材の製造工程が、
    多孔質母材の焼結工程である請求項6乃至8のいずれか
    に記載の光ファイバ用母材の製造装置。
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