JPS6137214B2 - - Google Patents
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- JPS6137214B2 JPS6137214B2 JP17211380A JP17211380A JPS6137214B2 JP S6137214 B2 JPS6137214 B2 JP S6137214B2 JP 17211380 A JP17211380 A JP 17211380A JP 17211380 A JP17211380 A JP 17211380A JP S6137214 B2 JPS6137214 B2 JP S6137214B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
Landscapes
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
従来の光フアイバ母材の製造方法を第１図に示
す。これは火炎加水分解バーナ１でガラス微粒子
を含んだ火炎５を発生させ、これを矢印８方向に
回転しながら矢印７方向へ移動するターゲツト４
に吹付けてロツド状の多孔質ガラス母材２を成長
させる。その後加熱源３で焼結して透明な光フア
イバ母材９にする方法である。そしてバーナ１の
排気ガス（矢印１１でガスの流れ方向を示す。）
は排気管１０を通して排気装置１５により排気さ
れる。
す。これは火炎加水分解バーナ１でガラス微粒子
を含んだ火炎５を発生させ、これを矢印８方向に
回転しながら矢印７方向へ移動するターゲツト４
に吹付けてロツド状の多孔質ガラス母材２を成長
させる。その後加熱源３で焼結して透明な光フア
イバ母材９にする方法である。そしてバーナ１の
排気ガス（矢印１１でガスの流れ方向を示す。）
は排気管１０を通して排気装置１５により排気さ
れる。
なお、図中、１２は圧力検出装置、１３は制御
回路、１４は流量制御器、１５は排気装置、２４
はロツドの回転用モータである。この排気ガスに
はCl，Cl2，HClなどの腐蝕性ガス、O2，Arなど
のガス、ターゲツトへ付着し損じて多孔質ガラス
母材の一部になり得なかつたガラス微粒子、など
が含まれている。本発明はこの方法について種々
実験的検討を行なつた結果、次のような問題があ
ることがわかつた。
回路、１４は流量制御器、１５は排気装置、２４
はロツドの回転用モータである。この排気ガスに
はCl，Cl2，HClなどの腐蝕性ガス、O2，Arなど
のガス、ターゲツトへ付着し損じて多孔質ガラス
母材の一部になり得なかつたガラス微粒子、など
が含まれている。本発明はこの方法について種々
実験的検討を行なつた結果、次のような問題があ
ることがわかつた。
(1) オプテイカルスキヤナー１７を走査すること
により火炎５の横断面内の温度分布を赤外線温
度計１６で測定し、その温度分布が一定となる
ように多孔質ガラス母材の堆積を行なつている
が、反応容器６内の圧力によつてその温度分
布、および温度のゆらぎ量が変化することがわ
かつた（第２図参照、これは、第１図におい
て、ノズル出口部からｙB＝40mmの位置におけ
る火炎断面の径方向温度分布を圧力を変えて測
定したものである。大気圧との差圧ΔＰを−
0.5，−１，−２，−３mmH2Oに設定した場合につ
いてそれぞれ測定してある。）特に反応容器内
の圧力（大気圧との差圧、この場合、負圧）が
大きいほど温度分布およびゆらぎ量の変化が大
きいことがわかつた。その結果、このようにし
て作つた光フアイバの軸方向の屈折率分布の変
動は大きく、帯域特性のバラツキが大きいこと
がわかつた。
により火炎５の横断面内の温度分布を赤外線温
度計１６で測定し、その温度分布が一定となる
ように多孔質ガラス母材の堆積を行なつている
が、反応容器６内の圧力によつてその温度分
布、および温度のゆらぎ量が変化することがわ
かつた（第２図参照、これは、第１図におい
て、ノズル出口部からｙB＝40mmの位置におけ
る火炎断面の径方向温度分布を圧力を変えて測
定したものである。大気圧との差圧ΔＰを−
0.5，−１，−２，−３mmH2Oに設定した場合につ
いてそれぞれ測定してある。）特に反応容器内
の圧力（大気圧との差圧、この場合、負圧）が
大きいほど温度分布およびゆらぎ量の変化が大
きいことがわかつた。その結果、このようにし
て作つた光フアイバの軸方向の屈折率分布の変
動は大きく、帯域特性のバラツキが大きいこと
がわかつた。
(2) 火炎の温度分布およびそのゆらぎ量の変動を
抑えるために反応容器内の圧力（負圧値）を小
さくすると、反応容器内でガスの対流が生じ、
特に反応容器形状が球状の場合には著しく生
じ、長時間の堆積中に火炎温度分布およびその
ゆらぎ量を徐々に変動させた。その結果、光フ
アイバ母材の堆積始め時と終り時の屈折率分布
を変動させ、このようにして作成した光フアイ
バの帯域特性が、光フアイバの入口側から測定
した場合と出口側から測定した場合とで異なつ
た値を示すという問題点が生じた。また上記対
流によりガラス微粒子が反応容器の内壁面に付
着し、母材の堆積状態が徐々に観察できなくな
つてしまう問題点も発生した。
抑えるために反応容器内の圧力（負圧値）を小
さくすると、反応容器内でガスの対流が生じ、
特に反応容器形状が球状の場合には著しく生
じ、長時間の堆積中に火炎温度分布およびその
ゆらぎ量を徐々に変動させた。その結果、光フ
アイバ母材の堆積始め時と終り時の屈折率分布
を変動させ、このようにして作成した光フアイ
バの帯域特性が、光フアイバの入口側から測定
した場合と出口側から測定した場合とで異なつ
た値を示すという問題点が生じた。また上記対
流によりガラス微粒子が反応容器の内壁面に付
着し、母材の堆積状態が徐々に観察できなくな
つてしまう問題点も発生した。
(3) 反応容器の断面積がノズル吹出し気流の断面
積に比してあまり大きくないと、また反応容器
の上方部から排気する所までの反応容器の断面
が不均一であると、ノズルから吹出した気流が
反応容器形状に影響され易く、しかも５時間以
上10時間程度のガラス母材の堆積に際しては反
応容器内壁面へのガラス微粒子の付着により状
態が変化して安定なガラス母材の堆積を行なえ
なかつた。
積に比してあまり大きくないと、また反応容器
の上方部から排気する所までの反応容器の断面
が不均一であると、ノズルから吹出した気流が
反応容器形状に影響され易く、しかも５時間以
上10時間程度のガラス母材の堆積に際しては反
応容器内壁面へのガラス微粒子の付着により状
態が変化して安定なガラス母材の堆積を行なえ
なかつた。
したがつて、光フアイバ母材の屈折率分布の
変動を抑制させ、かつ５時間以上の母材堆積に
際して安定な製造方法が必要である。
変動を抑制させ、かつ５時間以上の母材堆積に
際して安定な製造方法が必要である。
本発明の光フアイバ母材の製造方法は従来の問
題点を解決する方法を提供するものである。まず
バーナの火炎の温度分布およびそのゆらぎ量を反
応容器内の圧力の大きさにかかわらずできる限り
変動させないように抑制する方法として、反応容
器の断面積（直径Ｄh）がバーナノズルの吹出気
流（直径Ｄo）の断面積の25倍以上でガラス母材
の断面積の４倍以上を有する容器を用い、そして
ノズル吹出口から気流の流れ方向に15Do以上離
れたところ（ｙA）の反応容器の側面から排気す
るようにする方法を見い出した。すなわち、バー
ナノズルからの気流の吹出速度Ｖpが0.3倍以下に
減速した吹出口からの距離Ｙ以上に離れたところ
の反応容器の側面から排気するようにする方法で
ある。このような位置から排気することによつ
て、バーナの火炎状態が反応容器内の圧力の大き
さにほとんど無関係になるということを見いだし
たものである。次に反応容器内でのガスの対流に
よる火炎温度分布およびそのゆらぎ量の変動抑制
法、さらに長時間でのガラス母材の安定堆積法と
して、バーナノズル外周にそのノズルの高さより
も高い同心状の多重管を配置させて火炎の保護と
対流防止の役目をさせ、さらにはノズルと管の
間、管と管の間、管と反応容器内壁との間のいず
れか１ケ所以上に、あるいはすべてにガスを流し
て火炎を保護する。このようにガスを流すことは
火炎の保護、対流防止効果以外に、排気装置の排
気速度の変動による火炎のゆらぎ誘因を低減させ
る効果ももつている。
題点を解決する方法を提供するものである。まず
バーナの火炎の温度分布およびそのゆらぎ量を反
応容器内の圧力の大きさにかかわらずできる限り
変動させないように抑制する方法として、反応容
器の断面積（直径Ｄh）がバーナノズルの吹出気
流（直径Ｄo）の断面積の25倍以上でガラス母材
の断面積の４倍以上を有する容器を用い、そして
ノズル吹出口から気流の流れ方向に15Do以上離
れたところ（ｙA）の反応容器の側面から排気す
るようにする方法を見い出した。すなわち、バー
ナノズルからの気流の吹出速度Ｖpが0.3倍以下に
減速した吹出口からの距離Ｙ以上に離れたところ
の反応容器の側面から排気するようにする方法で
ある。このような位置から排気することによつ
て、バーナの火炎状態が反応容器内の圧力の大き
さにほとんど無関係になるということを見いだし
たものである。次に反応容器内でのガスの対流に
よる火炎温度分布およびそのゆらぎ量の変動抑制
法、さらに長時間でのガラス母材の安定堆積法と
して、バーナノズル外周にそのノズルの高さより
も高い同心状の多重管を配置させて火炎の保護と
対流防止の役目をさせ、さらにはノズルと管の
間、管と管の間、管と反応容器内壁との間のいず
れか１ケ所以上に、あるいはすべてにガスを流し
て火炎を保護する。このようにガスを流すことは
火炎の保護、対流防止効果以外に、排気装置の排
気速度の変動による火炎のゆらぎ誘因を低減させ
る効果ももつている。
以下に本発明の方法を実施例を用いて説明す
る。
る。
第３図に本発明の一実施例を示す。反応容器６
には外径178mm、内径Ｄh＝168mmの円筒状バイレ
ツクスガラス管を用いた。バーナ１には同心状の
４重管外径17mmを用い、SiCl4，GeCl4，POCl3，
Ar，H2，O2などのガスを噴射させるようにして
あり、ノズル吹出気流の直径Ｄpは約15mmのもの
を用いた。まず、この装置において、反応容器内
にターゲツト４を設けず、排気管１０のＡ―
A′部分を開放にして（すなわち、排気装置１５
で強制的に排気しない状態）、ノズル１からの吹
出気流の速度Ｖpとノズル吹出気流の軸上にＹだ
け離れたところの気流の速度Ｖyを熱線風速計を
用いて測定した結果を第４図に示す。横軸はＹ／
Ｄo、縦軸はＶy／Ｖpである。次に反応容器に排
気装置を接続（Ａ―A′部を接続）し、ノズル出
口部と多孔質ガラス母材２の成長端面との間隔ｙ
sを80mmとし、反応容器の側面からの排気装置の
接続位置ｙAを変えて、（ｙA＝90mm，150mm，300
mm，450mm）多孔質ガラス母材（外径Ｄs68mm）
の堆積を行なつた。そして、火炎の状態が反応容
器内の圧力によつてどの程度影響を受けるかを実
験的に検討した。火炎の状態は第１図と同様の方
法（ｙB＝40mmの位置の火炎断面内径方向温度分
布）で測定し、反応容器内の圧力は差圧計１２を
ガラス母材堆積底面近傍の反応容器側面に設置
し、大気圧との差圧（この場合、負圧値）を測定
した。その結果、ｙAが90mm，150mmの場合、すな
わち6Do，100Doの場合には、火炎の温度分布お
よびそのゆらぎ量は差圧ΔＰによつて第２図で示
したとほぼ同様に変化することがわかつた。とこ
ろがｙAが300mmの場合には第５図に示すように火
炎のゆらぎ量が大幅に低減した。ｙAが450mmの場
合にはさらにゆらぎ量が低減した。すなわち、排
気管の接続位置ｙAが20Do，30Doの場合には反応
容器内の圧力によつて火炎状態がほとんど変わら
ない結果であつた。これは第４図の結果からわか
るように、ＶyがＶpに比し十分に減衰していない
ところで排気するようにすると火炎状態に影響を
与え易く、逆に十分に減衰したところ（３以下）
で排気すれば火炎状態にほとんど影響を与えない
ことによるものと考えられる。ｙAを300mmに保
ち、反応容器内の圧力（ΔＰ＝−1.0mmH2O）を
一定になるように制御しながら８時間かけて集束
型光フアイバ母材（外径21mm、長さ23cm）を作成
した。この場合のノズルから噴射させるガスは、
H2＝３／mm，O2＝６／mm、Ar＝１／mm，
SiCl4＝0.5／mm，GeCl4＝0.2／mm，POCl3＝
0.1／mmとした。この母材を延伸後、右英管内
に入れて管と母材を溶着し、線引きにより光フア
イバ（長さ2.4Km，2.3Km，1.8Km，1.7Kmの４本の
光フアイバ）を得た。そしてそれぞれの光フアイ
バの帯域特性（6dB低下帯域幅）を測定した結
果、最低値680MHz・Km最大値970MHz・Kmであ
り、従来法に比し、その変動幅は約20％改善され
た。ただし、第３図における内圧制御は次のよう
にして行なつた。差圧計１２の出力電圧（これは
差圧−10mmH2Oに対して1Vの出力が生じる。）を
制御部１３に入力し、制御部で基準の設定電圧
（−0.1V）と比較、増幅後、その出力電圧をガス
流量調節装置１４にフイードバツクさせ、矢印２
１から矢印２１′方向へ流すガス流量（この場
合、N2ガスを用いた。）を調節して圧力を制御す
る方法である。管２２は大気中の空気を矢印２３
のように排気管内に吸入させるためのもので、排
気ガスのバイアス用ガスとして用いたものであ
る。矢印２５方向から送り込んだガスは加熱炉３
の雰囲気制御用ガスであり、矢印２４から送り込
んだガスは加熱炉３内への空気吸入防止用および
光フアイバ母材の冷却用ガスである。
には外径178mm、内径Ｄh＝168mmの円筒状バイレ
ツクスガラス管を用いた。バーナ１には同心状の
４重管外径17mmを用い、SiCl4，GeCl4，POCl3，
Ar，H2，O2などのガスを噴射させるようにして
あり、ノズル吹出気流の直径Ｄpは約15mmのもの
を用いた。まず、この装置において、反応容器内
にターゲツト４を設けず、排気管１０のＡ―
A′部分を開放にして（すなわち、排気装置１５
で強制的に排気しない状態）、ノズル１からの吹
出気流の速度Ｖpとノズル吹出気流の軸上にＹだ
け離れたところの気流の速度Ｖyを熱線風速計を
用いて測定した結果を第４図に示す。横軸はＹ／
Ｄo、縦軸はＶy／Ｖpである。次に反応容器に排
気装置を接続（Ａ―A′部を接続）し、ノズル出
口部と多孔質ガラス母材２の成長端面との間隔ｙ
sを80mmとし、反応容器の側面からの排気装置の
接続位置ｙAを変えて、（ｙA＝90mm，150mm，300
mm，450mm）多孔質ガラス母材（外径Ｄs68mm）
の堆積を行なつた。そして、火炎の状態が反応容
器内の圧力によつてどの程度影響を受けるかを実
験的に検討した。火炎の状態は第１図と同様の方
法（ｙB＝40mmの位置の火炎断面内径方向温度分
布）で測定し、反応容器内の圧力は差圧計１２を
ガラス母材堆積底面近傍の反応容器側面に設置
し、大気圧との差圧（この場合、負圧値）を測定
した。その結果、ｙAが90mm，150mmの場合、すな
わち6Do，100Doの場合には、火炎の温度分布お
よびそのゆらぎ量は差圧ΔＰによつて第２図で示
したとほぼ同様に変化することがわかつた。とこ
ろがｙAが300mmの場合には第５図に示すように火
炎のゆらぎ量が大幅に低減した。ｙAが450mmの場
合にはさらにゆらぎ量が低減した。すなわち、排
気管の接続位置ｙAが20Do，30Doの場合には反応
容器内の圧力によつて火炎状態がほとんど変わら
ない結果であつた。これは第４図の結果からわか
るように、ＶyがＶpに比し十分に減衰していない
ところで排気するようにすると火炎状態に影響を
与え易く、逆に十分に減衰したところ（３以下）
で排気すれば火炎状態にほとんど影響を与えない
ことによるものと考えられる。ｙAを300mmに保
ち、反応容器内の圧力（ΔＰ＝−1.0mmH2O）を
一定になるように制御しながら８時間かけて集束
型光フアイバ母材（外径21mm、長さ23cm）を作成
した。この場合のノズルから噴射させるガスは、
H2＝３／mm，O2＝６／mm、Ar＝１／mm，
SiCl4＝0.5／mm，GeCl4＝0.2／mm，POCl3＝
0.1／mmとした。この母材を延伸後、右英管内
に入れて管と母材を溶着し、線引きにより光フア
イバ（長さ2.4Km，2.3Km，1.8Km，1.7Kmの４本の
光フアイバ）を得た。そしてそれぞれの光フアイ
バの帯域特性（6dB低下帯域幅）を測定した結
果、最低値680MHz・Km最大値970MHz・Kmであ
り、従来法に比し、その変動幅は約20％改善され
た。ただし、第３図における内圧制御は次のよう
にして行なつた。差圧計１２の出力電圧（これは
差圧−10mmH2Oに対して1Vの出力が生じる。）を
制御部１３に入力し、制御部で基準の設定電圧
（−0.1V）と比較、増幅後、その出力電圧をガス
流量調節装置１４にフイードバツクさせ、矢印２
１から矢印２１′方向へ流すガス流量（この場
合、N2ガスを用いた。）を調節して圧力を制御す
る方法である。管２２は大気中の空気を矢印２３
のように排気管内に吸入させるためのもので、排
気ガスのバイアス用ガスとして用いたものであ
る。矢印２５方向から送り込んだガスは加熱炉３
の雰囲気制御用ガスであり、矢印２４から送り込
んだガスは加熱炉３内への空気吸入防止用および
光フアイバ母材の冷却用ガスである。
第６図は反応容器内の圧力によつて火炎の温度
分布およびそのゆらぎ量がほとんど変わらないよ
うに構成した方法の一例である。すなわち、ノズ
ル外周にノズルの高さよりも高い同心状の多重管
２６，２６′，２６″を配置させたもので、必要に
よつてノズルと管の間、管と管の間、管と反応容
器内壁との間のいずれか１ケ所以上に、あるいは
すべてにガスを流すようにしたものである。同図
において、Ｄo，ｙB，ｙs，Ｄh，ｙAは第３図の
場合と同様にし、同心多重管を設け、矢印２７
方向からN2＝15／min、矢印２７″方向からN2
＝８／min、矢印２７′方向からO2＝５／
min、矢印２７方向からO2＝２／minのガスを
それぞれ流して反応容器内の圧力と火炎状態の関
係を検討した。その結果、第７図に示すように火
炎の温度分布およびそのゆらぎ量が差圧によつて
ほとんど変わらないという結果になつた。これは
反応容器内の差圧が矢印２７，２７″，２７′，
２７方向から流すガス流量によつて大部分支配さ
れ、しかも火炎が同心多重管および上記ガスによ
つて保護されているためと考えられる。次にこの
方法で前述と同様に光フアイバを作成し、帯域特
性を測定した。その結果、最低値820MHz・Km、
最大値1020MHz・Kmであり、前述の場合よりも改
善された結果であつた。また、７時間の堆積時間
を経た後の反応容器の内壁面はガラス微粒子がほ
とんど付着しておらず、特に図中のｐで示した部
分の内壁面へのガラス微粒子の付着はほとんどな
く、母材堆積底面がよく観察できた。そして、バ
ーナの火炎状態、ガラス母材の形状、ガラス母材
の堆積面の位置などの検知、測定が安定にできる
ようになつた。
分布およびそのゆらぎ量がほとんど変わらないよ
うに構成した方法の一例である。すなわち、ノズ
ル外周にノズルの高さよりも高い同心状の多重管
２６，２６′，２６″を配置させたもので、必要に
よつてノズルと管の間、管と管の間、管と反応容
器内壁との間のいずれか１ケ所以上に、あるいは
すべてにガスを流すようにしたものである。同図
において、Ｄo，ｙB，ｙs，Ｄh，ｙAは第３図の
場合と同様にし、同心多重管を設け、矢印２７
方向からN2＝15／min、矢印２７″方向からN2
＝８／min、矢印２７′方向からO2＝５／
min、矢印２７方向からO2＝２／minのガスを
それぞれ流して反応容器内の圧力と火炎状態の関
係を検討した。その結果、第７図に示すように火
炎の温度分布およびそのゆらぎ量が差圧によつて
ほとんど変わらないという結果になつた。これは
反応容器内の差圧が矢印２７，２７″，２７′，
２７方向から流すガス流量によつて大部分支配さ
れ、しかも火炎が同心多重管および上記ガスによ
つて保護されているためと考えられる。次にこの
方法で前述と同様に光フアイバを作成し、帯域特
性を測定した。その結果、最低値820MHz・Km、
最大値1020MHz・Kmであり、前述の場合よりも改
善された結果であつた。また、７時間の堆積時間
を経た後の反応容器の内壁面はガラス微粒子がほ
とんど付着しておらず、特に図中のｐで示した部
分の内壁面へのガラス微粒子の付着はほとんどな
く、母材堆積底面がよく観察できた。そして、バ
ーナの火炎状態、ガラス母材の形状、ガラス母材
の堆積面の位置などの検知、測定が安定にできる
ようになつた。
本発明の方法は上記実施例に限定されるもので
はない。反応容器の形状は上記条件を満足してお
れば、第８図のａ，ｂ，ｃに示すような断面形状
のものでもよい。またノズルからのガスの流れ方
向に対して均一断面形状でもよく、さらには不均
一断面形状（たとえば、球形状、ひようたん形
状、ビールビン形状、上記形状の組合せ形状な
ど）でもよい。また反応容器側面に種々の検知
窓、バーナへの点火窓などを設けてあつてもよ
い。排気管１０の反応容器側面への取付け個所は
反応容器横断面が均一な部分の反応容器側面、あ
るいは反応容器横断面が不均一な部分の反応容器
側面（たとえばビールビン上方部の横断面が小さ
くなつている部分の側面）でもよい。バーナとガ
ラス母材の相対位置についても、たとえばその間
隔は任意でもよく、バーナの中心軸とガラス母材
の中心軸とを一致させてもあるいはずらせて配置
させてもよく、さらにはガラス母材の中心軸に対
してバーナの中心軸を角度をもたせて配置させて
もよい。また第３図，第６図の装置において、矢
印７方向は天井方向、あるいは地下方向でもよい
ことは言うまでもない。排気管１０はｙAが上記
条件を満足しておれば一個所だけでなく数カ所設
けてもよく、あるいは反応容器外周部から一様に
排気するような装置構成でもよい。バーナ外周に
設ける保護管２６，２６′，２６″の寸法は上記値
に限定されず、また管の数も上記のように３つに
限らず、１つ，２つ，４つ以上でもよい。
はない。反応容器の形状は上記条件を満足してお
れば、第８図のａ，ｂ，ｃに示すような断面形状
のものでもよい。またノズルからのガスの流れ方
向に対して均一断面形状でもよく、さらには不均
一断面形状（たとえば、球形状、ひようたん形
状、ビールビン形状、上記形状の組合せ形状な
ど）でもよい。また反応容器側面に種々の検知
窓、バーナへの点火窓などを設けてあつてもよ
い。排気管１０の反応容器側面への取付け個所は
反応容器横断面が均一な部分の反応容器側面、あ
るいは反応容器横断面が不均一な部分の反応容器
側面（たとえばビールビン上方部の横断面が小さ
くなつている部分の側面）でもよい。バーナとガ
ラス母材の相対位置についても、たとえばその間
隔は任意でもよく、バーナの中心軸とガラス母材
の中心軸とを一致させてもあるいはずらせて配置
させてもよく、さらにはガラス母材の中心軸に対
してバーナの中心軸を角度をもたせて配置させて
もよい。また第３図，第６図の装置において、矢
印７方向は天井方向、あるいは地下方向でもよい
ことは言うまでもない。排気管１０はｙAが上記
条件を満足しておれば一個所だけでなく数カ所設
けてもよく、あるいは反応容器外周部から一様に
排気するような装置構成でもよい。バーナ外周に
設ける保護管２６，２６′，２６″の寸法は上記値
に限定されず、また管の数も上記のように３つに
限らず、１つ，２つ，４つ以上でもよい。
第１図は従来から用いられている光フアイバ用
母材の製造装置の説明図、第２図は従来装置を用
いた場合の火炎断面の径方向位置における火炎の
ゆらぎを示す図、第３図，第６図は本発明の光フ
アイバ用母材の製造方法を説明する図、第４図は
Ｙ／ＤoとＶy／Ｖpとの関係を示す図、第５図，
第７図は本発明を用いた場合の火炎断面の径方向
位置における火炎のゆらぎを示す図、第８図は反
応容器の断面形状を例示する図である。 １…バーナ、２…多孔質ガラス母材、３…加熱
装置、４…透明ガラス母材、５…火炎、６…反応
容器、１０…排気口、１５…排気装置。
母材の製造装置の説明図、第２図は従来装置を用
いた場合の火炎断面の径方向位置における火炎の
ゆらぎを示す図、第３図，第６図は本発明の光フ
アイバ用母材の製造方法を説明する図、第４図は
Ｙ／ＤoとＶy／Ｖpとの関係を示す図、第５図，
第７図は本発明を用いた場合の火炎断面の径方向
位置における火炎のゆらぎを示す図、第８図は反
応容器の断面形状を例示する図である。 １…バーナ、２…多孔質ガラス母材、３…加熱
装置、４…透明ガラス母材、５…火炎、６…反応
容器、１０…排気口、１５…排気装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 反応容器内の下部にノズルを、上部にターゲ
ツトを配置し、ノズルから発生させたガラス微粒
子をターゲツト上に吹付けてガラス母材を軸方向
に成長させる際に、ノズル吹出口から気流（ノズ
ル吹出気流の直径Ｄo）の流れ方向に15Do以上離
れたところの反応容器の側面から排気するように
したことを特徴とする光フアイバ母材の製造方
法。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の方法において、
前記反応容器の断面積がノズル吹出気流の断面積
の25倍以上を有することを特徴とする光フアイバ
母材の製造方法。 ３ 特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方法
において、前記ノズル外周にノズルの高さよりも
高い同心状の多重管を配置させたことを特徴とす
る光フアイバ母材の製造方法。 ４ 特許請求の範囲第３項記載の方法において、
前記ノズルと多重管の間、前記多重管の管と管の
間、前記多重管と反応容器内壁との間の少なくと
も１カ所にガスを流したことを特徴とする光フア
イバ母材の製造方法。 ５ 特許請求の範囲第１項から第４項記載のいず
れかの方法において、前記反応容器内の圧力を検
出し、該検出信号を排気速度調節装置にフイード
バツクするようにしたことを特徴とする光フアイ
バ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17211380A JPS5795839A (en) | 1980-12-08 | 1980-12-08 | Manufacture of base material for optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17211380A JPS5795839A (en) | 1980-12-08 | 1980-12-08 | Manufacture of base material for optical fiber |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5795839A JPS5795839A (en) | 1982-06-14 |
| JPS6137214B2 true JPS6137214B2 (ja) | 1986-08-22 |
Family
ID=15935788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17211380A Granted JPS5795839A (en) | 1980-12-08 | 1980-12-08 | Manufacture of base material for optical fiber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5795839A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20230053117A1 (en) * | 2019-12-11 | 2023-02-16 | Sidel Participations | Device and method for the thermal conditioning of preforms |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009132549A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Covalent Materials Tokuyama Corp | 合成石英ガラスの製造装置 |
| JP5102591B2 (ja) * | 2007-11-29 | 2012-12-19 | コバレントマテリアル株式会社 | 合成シリカガラスの製造装置 |
| JP5615314B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2014-10-29 | コバレントマテリアル株式会社 | 合成シリカガラスの製造装置及び合成石英ガラスの製造方法 |
-
1980
- 1980-12-08 JP JP17211380A patent/JPS5795839A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20230053117A1 (en) * | 2019-12-11 | 2023-02-16 | Sidel Participations | Device and method for the thermal conditioning of preforms |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5795839A (en) | 1982-06-14 |
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