JP2008224558A - 半導体試験装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】機械式リレーの交換時期の明確化を図りつつ、被試験対象の破壊を防止することができる半導体試験装置を提供する。
【解決手段】所定電圧を発生する電源モジュール2と、電圧源ユニット10の出力電圧を有接点の機械式リレー20を介して被試験対象30に印加する印加ライン11と、被試験対象に印加された電圧を半導体リレー32を介してユニットに帰還する検出ライン31と、機械式リレー接点の動作によって生ずる機械式リレーの両端電圧と印加ラインを流れる電流に基づき機械式リレーの劣化を判定する劣化判定手段を有するCPU16とを具備する。
【選択図】図1

Description

本発明は、ICデバイスやメモリデバイス等の半導体デバイスを試験する半導体試験装置に関するものである。
この種の試験装置は被試験対象(DUT)である半導体デバイスの製造ラインに配置されており、DUTの直流特性を検査する(特許文献1参照)。
また、従来の試験装置は電源モジュール(DPS)を有し、このDPSは、DUTにプログラマブルな電圧を出力する電圧源機能と、DUTで消費された電流を測定する消費電流測定機能とを有している。
詳しくは、図5に示されるように、DPS90は、例えばDUT300に電圧を印加してDUT300の消費電流を測定しており、プログラマブルな電圧を出力可能な電圧源ユニット(DAC)100を備え、DAC100の出力側にはDUT300に電圧を印加する印加ライン110が設けられている。印加ライン110には、DAC100からの電圧を規定電圧まで増幅するパワーアンプ120、電流値を検出する抵抗130、この電流値を電圧値に変換するアンプ140、そして、この電圧値を読み取るADC150が配設されており、DAC100の出力はCPU160からの駆動信号に基づいて機械式リレー200でオン/オフ制御されている。
一方、DUT300に印加される電圧は検出ライン310を介してDPS90に帰還されている。検出ライン310には、センス信号をCPU160からの駆動信号に基づいてオン/オフ制御する半導体リレー320、このセンス信号を所定電圧に増幅するアンプ330が配設されている。そして、検出ライン310はDAC100の出力側に接続されており、センス信号とDAC100の出力とを加算する加算器340が設けられている。このように、フォース出力と検出ラインとでフィードバックループが構成されているので、これら印加ライン110と検出ライン310との接続点(モニタ点)Mでは安定した電圧値を得ることができる。なお、モニタ点MがDUT300の電源端子Vccに近い位置にて形成されており、DUT300には安定した電圧が供給可能となる。
さらに、このDPS90では、印加ライン110と検出ライン310との間が抵抗220を介して接続され、機械式リレー200及び半導体リレー320のオフ時にも印加ライン110、検出ライン310のa点、b点を同電圧にしている。センス信号を帰還させた場合に、機械式リレー200や半導体リレー320がオフからオンに切り替わると、ループが安定するまでに過渡電圧がDUT300に出力され得るからである。なお、この抵抗220には数百kΩの大きさのものが実装されている。機械式リレー200や半導体リレー320のオン時に、抵抗220を経由したセンス信号の帰還を避けるためである。
特開平09−017304号公報
ところで、検出ライン310には大電流を流す必要がないことから、半導体リレー(例えばフォトモスリレー)320が採用されている。これに対し、印加ライン110には約5A程度の大電流を流す必要があるため、電流容量の大きな機械式リレー200が採用されている。
しかしながら、半導体リレー320は無接点で長寿命であるのに対し、機械式リレー200は接点を有しており、動作回数が増えるに連れて摩耗等によって劣化し、その接点の接触抵抗が次第に大きくなって動作不良を生ずるとの問題がある。なお、上記従来の技術では、被測定リレーの接触抵抗が大きくなった場合にはこのリレーを交換する点が示されているが、上述した機械式リレーを交換する点については必ずしも明確ではない。
また、この問題の解決にあたり、機械式リレー200と半導体リレー320とを同じタイミングでオンさせる点にも留意しなければならない。機械式リレー200を長時間動作させた時の故障モードのひとつとして、機械式リレー200に動作遅延が生じ、万一、半導体リレー320がオンした後に機械式リレー200がオンすると、DUT300が破壊されるとの問題が別途生ずるからである。
具体的には、図6に示されるように、まず、半導体リレー320がオンすると、図5のa点をセンス点とした電圧がDUT300に向かう。つまり、b点の電圧は抵抗220の分だけa点の電圧よりも高くなっている。続いて、機械式リレー200がオンすると、このb点の電圧が瞬間的にDUT300に印加され、規定電圧Vrや破壊電圧Vdを超えてDUT300の破壊を招き得るからである。
そこで、本発明の目的は、上記課題を解消し、機械式リレーの交換時期の明確化を図りつつ、被試験対象の破壊を防止することができる半導体試験装置を提供することである。
上記目的を達成するための第1の発明は、所定電圧を発生する電圧源ユニットと、ユニットの出力電圧を有接点の機械式リレーを介して被試験対象に印加する印加ラインと、被試験対象に印加された電圧を半導体リレーを介してユニットに帰還する検出ラインと、機械式リレー接点の動作によって生ずる機械式リレーの両端電圧と印加ラインを流れる電流に基づき機械式リレーの劣化を判定する劣化判定手段とを具備する。
第1の発明によれば、被試験対象には印加ラインを介して電圧が印加されるとともに、印加電圧を検出ラインを介して帰還するように構成されている。
ここで、印加ラインには機械式リレーが設けられており、劣化判定手段では、この機械式リレーの両端電圧と印加ラインを流れる電流とに基づいて接点の接触抵抗を求め、機械式リレーの劣化を判定している。これにより、機械式リレーの交換時期が明確になる。
第2の発明は、第1の発明の構成において、劣化判定手段は、警告表示手段に機械式リレーの交換を要する旨の信号を出力していることを特徴とする。
第2の発明によれば、第1の発明の作用に加えてさらに、劣化判定手段は機械式リレーの劣化状態をモニタし、警告表示手段に交換の必要性を出力するので、機械式リレーが破壊する前の段階にてユーザに機械式リレーの交換を促すことができる。
第3の発明は、第1や第2の発明の構成において、電圧源ユニット、印加ライン、機械式リレー、検出ライン及び半導体リレーで1つの電源モジュールを構成し、モジュールが並列用リレーを介して複数並設されており、一のモジュールにおける印加ライン及び検出ラインは所定の接続点で接続され、他のモジュールにおける各印加ラインのみが接続点に接続されていることを特徴とする。
第3の発明によれば、第1や第2の発明の作用に加えてさらに、複数の電源モジュールが並列に配置され、複数チャネルを構成する場合には、被試験対象には大きな電流が供給可能となる。そして、この場合にも、機械式リレーの交換時期が明確にされているので、この電流の安定供給が図られる。
第4の発明は、所定電圧を発生する電圧源ユニットと、ユニットの出力電圧を有接点の機械式リレーを介して被試験対象に印加する印加ラインと、被試験対象に印加された電圧を半導体リレーを介してユニットに帰還する検出ラインと、これら印加ラインと検出ラインの間に接続された抵抗と、機械式リレー接点の動作によって生ずる機械式リレーの両端電圧を検出する検出手段と、検出手段の出力に基づき半導体リレーを駆動する駆動制御手段とを具備する。
第4の発明によれば、被試験対象には印加ラインを介して電圧が印加されるとともに、印加電圧を検出ラインを介して帰還され、さらに、印加ラインと検出ラインとは抵抗で接続されている。
これにより、検出手段は機械式リレー接点の動作によって機械式リレーの両端に生ずる電圧を検出し、駆動制御手段は、この検出手段の出力を用いて半導体リレーをオンさせる。つまり、この半導体リレーは、機械式リレーがオンしない限り、オフのままである。よって、仮に、機械式リレーの劣化に伴って動作遅延が発生したとしても、半導体リレーが機械式リレーよりも先にオンしない。この結果、被試験対象では過渡電圧が発生せず、被試験対象の破壊が防止される。
第5の発明は、第4の発明の構成において、検出手段の出力と印加ラインを流れる電流に基づき機械式リレーの劣化を判定する劣化判定手段を有することを特徴とする。
第5の発明によれば、第4の発明の作用に加えてさらに、劣化判定手段では、機械式リレーの両端電圧と印加ラインを流れる電流とに基づいて機械式リレーの劣化を判定しており、機械式リレーの交換時期も明確になる。
本発明によれば、機械式リレーの劣化をモニタし、被試験対象の破壊を防止する半導体試験装置を提供することができる。
以下、本発明の一実施形態について図面を用いて詳細に説明する。
図1は本実施例における半導体試験装置の回路図であり、この装置は被試験対象(DUT)であるIC(Integrated Circuit)デバイスの製造ラインに配置されている。
当該装置のテストヘッド側にはDPS(電源モジュール)2が備えられている。このDPS2は、DUT30にプログラマブルな電圧を出力する電圧源機能と、DUT30で消費された電流を測定する消費電流測定機能とを有しており、本実施例では、DUT30に電圧を印加してDUT30の消費電流を測定し、このDUT30の直流特性を検査している(DCテストの電源電流テスト)。
より詳しくは、このDPS2は、プログラマブルな電圧を出力可能な電圧源ユニット(DAC)10を備え、このDAC10の出力側にはDUT30に電源電圧を印加する印加ライン11が設けられている。印加ライン11にはパワーアンプ12、抵抗13、アンプ14、ADC15がそれぞれ配設されており、パワーアンプ12ではDAC10からの電圧を規定電圧まで増幅している。
また、抵抗13では印加ライン11を流れる電流値を検出し、アンプ14ではこの電流値を電圧値に変換している。さらに、ADC15ではこの電圧値を読み取り、この結果はCPU16に出力される。印加ライン11には有接点の機械式リレー20が設けられており、DAC10からDUT30への出力はCPU16からの駆動信号に基づいてオン/オフ制御される。
一方、DPS2にはDUT30への印加電圧が検出ライン31を介して帰還されている。検出ライン31の一端はDUT30の電源端子Vccの近傍に形成されたモニタ点Mにて印加ライン11に接続される。また、検出ライン31には無接点の半導体リレー32が設けられており、後述する如く、センス信号はCPU16からの駆動信号に基づいてオン/オフ制御される。
さらに、検出ライン31にはアンプ33が配設され、センス信号を所定電圧に増幅している。そして、検出ライン31の他端はDAC10の出力側に接続されており、センス信号を帰還させる当該接続部分にはセンス信号とDAC10の出力とを加算する加算器34が設けられている。
印加ライン11と検出ライン31とは抵抗22を介して接続され、機械式リレー20や半導体リレー32のオフ時にも印加ライン11及び検出ライン31のa点、b点を同電圧にしている。なお、この抵抗22には数百kΩの大きさのものが実装される。
ここで、本実施例のDPS2では、DUT30の直流特性の検査の他、機械式リレー20の劣化をもモニタしている。
具体的には、機械式リレー20の両端側はアンプ(検出手段)23に接続されており、機械式リレー20の接点の動作によって生ずる両端電圧が検出されている。この検出された機械式リレー20の両端電圧はADC24で読み取られ、この結果はCPU16に出力されている。
このCPU16は、図2に示されるように、劣化判定部(劣化判定手段)17を有している。劣化判定部17では、ADC24で読み取られた機械式リレー20の両端電圧と抵抗13で検出された印加ライン11を流れるDUT30で消費される電流とに基づいて機械式リレー20の接点の接触抵抗を算出しており、機械式リレー20の劣化を判別する。
詳しくは、この接点の接触抵抗の算出値が接触抵抗の規格値(例えば約50mΩ以下)を超えている場合には、劣化判定部17は機械式リレー20の劣化を判定し、警告表示部(警告表示手段)19に機械式リレー20の交換を要する旨の信号を出力する。
また、このCPU16はリレー制御部18を有している。リレー制御部18では、DUT30に所要電圧を印加する場合には機械式リレー20をオンさせ、アンドゲート(駆動制御手段)26を経由して半導体リレー32をオンさせる。
より具体的には、再び図1に戻り、機械式リレー20のオンによって生じた両端電圧を検出するアンプ23はコンパレータ25に接続され、この両端電圧の差分と基準電圧Vとが比較されている。そして、このコンパレータ25はアンドゲート26に接続されており、アンドゲート26には上述したCPU16からの駆動信号も入力されている。つまり、アンドゲート26は、コンパレータ25からの信号及びCPU16からの駆動信号の双方が入力された場合にのみ、半導体リレー32をオンさせ、これら信号のうちいずれかの信号だけが入力された場合には、半導体リレー32をオフさせる。
以上のように、本実施例によれば、DUT30には印加ライン11を介して電圧が印加されるとともに、DUT30への印加電圧は検出ライン31を介してDPS2に帰還され、DUT30で消費された電流をDPS2で測定するように構成されている。
ここで、印加ライン11には機械式リレー20が設けられており、劣化判定部17では、機械式リレー20の両端電圧と印加ライン11を流れるDUT30の消費電流とに基づいて機械式リレー20の接点の接触抵抗を求め、この求められた抵抗値と規格値とを比較して機械式リレーの劣化を判定している。これにより、機械式リレー20の交換時期が明確になる。
また、劣化判定部17は機械式リレー20の劣化状態をモニタし、警告表示部19に交換の必要性を出力するので、機械式リレー20が破壊する前の段階にてユーザに機械式リレーの交換を促すことが可能となる。
さらに、検出ライン31は印加ライン11の出力電圧をDAC10の出力側に帰還させる。また、アンプ23が機械式リレー20の両端電圧を検出し、アンドゲート26はアンプ23の出力を持って半導体リレー32をオンさせている。
換言すれば、半導体リレー32は、機械式リレー20がオンしない限り、オフのままである。よって、仮に、機械式リレー20の劣化に伴って動作遅延が発生したとしても、半導体リレー32は機械式リレー20がオンした後にオンされる。この結果、DUT30には過渡電圧が印加されず、このDUT30の破壊が防止される。
この点につき詳しく述べると、従来の構成ではリレー制御の逆転が生じてしまうが、本実施例では、図3に示されるように、まず、機械式リレー20がオンすると、印加ライン11の線路抵抗分だけ低くなってDUT30に向かう。続いて、半導体リレー32がオンになり、センス信号は加算器34を経て検出ライン31によるフィードバックが生じるので、破壊電圧Vdに達することなく規定電圧Vrに向けて収束し、この規定電圧VrがDUT30に出力されることが分かる。
本発明は、上記実施例に限定されず、特許請求の範囲を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことができる。
例えば、上記実施例では、1系統のDPSを有する半導体試験装置について説明されているが、必ずしもこの形態に限定されるものではない。つまり、この試験装置は複数系統(例えば4系統)のDPSを有し、各系統ずつ使用して4つのDUTを同時に検査しても良いし、また、4系統のDPSで1つのDUTを検査しても良い。
後者の構成については、図4に示されるように、4つのDPS2,2A,2B,2Cがパワーアンプ12とリレー29との間に設けられた並列用リレー28を介して接続されている。なお、この並列接続を明確にするための説明の都合上、抵抗13,22、アンプ23やゲート26等は省略されているが、これら各DPSは上記実施例と同様に構成されている。
ここで、DPS(一のモジュール)2における印加ライン11及び検出ライン31はモニタ点Mで接続され、DPS(他のモジュール)2A,2B,2Cにおける各印加ライン11A,11B,11Cをモニタ点Mに接続し、各機械式リレー20と、DPS2のリレー29をオンすると、DPS2をマスター側とし、DPS2A,2B,2Cをスレーブ側としてそれぞれ動作させることができる。
この構成は、近年のICデバイスには、その検査時に大電流電源が必要になる点を鑑みたものであり、複数のDPSを並列接続し、複数チャネルを構成させると、DUT30には、仮に1系統のDPSで約5Aの電流が供給可能であるとすれば、並列接続の4系統によってDUT30には約20Aの非常に大きな電流が供給可能となる。
そして、この構成の場合にも、CPU16にて機械式リレー20の交換時期が明確にされていることから、チャネル間のバランスが崩れることなく、電流の安定供給が図られるとの効果を奏する。
また、上記実施例のDPSはテストヘッド側に設けられているが、テスタ本体側に設けられていても良く、さらに、上記実施例ではICデバイスをDUTの例として挙げ、このデバイスを試験するICテスタについて説明されているが、メモリデバイスを試験するメモリテスタであっても良い。
本実施例における半導体試験装置の回路図である。 図1のCPUのブロック図である。 図1の装置における出力電圧を説明する図である。 他の実施例における半導体試験装置の回路図である。 従来の半導体試験装置の回路図である。 図5の装置における出力電圧を説明する図である。
符号の説明
2 DPS(電源モジュール)
10 DAC(電圧源ユニット)
11 印加ライン
16 CPU
17 劣化判定部(劣化判定手段)
19 警告表示部(警告表示手段)
20 機械式リレー
22 抵抗
23 アンプ(検出手段)
26 アンドゲート(駆動制御手段)
30 ICデバイス(DUT)
31 検出ライン
32 半導体リレー

Claims (5)

  1. 所定電圧を発生する電圧源ユニットと、
    該ユニットの出力電圧を有接点の機械式リレーを介して被試験対象に印加する印加ラインと、
    被試験対象に印加された電圧を半導体リレーを介して前記ユニットに帰還する検出ラインと、
    前記機械式リレー接点の動作によって生ずる前記機械式リレーの両端電圧と前記印加ラインを流れる電流に基づき前記機械式リレーの劣化を判定する劣化判定手段と
    を具備することを特徴とする半導体試験装置。
  2. 請求項1に記載の半導体試験装置において、
    前記劣化判定手段は、警告表示手段に前記機械式リレーの交換を要する旨の信号を出力していることを特徴とする半導体試験装置。
  3. 請求項1又は2に記載の半導体試験装置において、
    前記電圧源ユニット、前記印加ライン、前記機械式リレー、前記検出ライン及び前記半導体リレーで1つの電源モジュールを構成し、該モジュールが並列用リレーを介して複数並設されており、
    一のモジュールにおける前記印加ライン及び前記検出ラインは所定の接続点で接続され、
    他のモジュールにおける前記印加ラインのみが前記接続点に接続されていることを特徴とする半導体試験装置。
  4. 所定電圧を発生する電圧源ユニットと、
    該ユニットの出力電圧を有接点の機械式リレーを介して被試験対象に印加する印加ラインと、
    被試験対象に印加された電圧を半導体リレーを介して前記ユニットに帰還する検出ラインと、
    これら印加ラインと検出ラインの間に接続された抵抗と、
    前記機械式リレー接点の動作によって生ずる前記機械式リレーの両端電圧を検出する検出手段と、
    該検出手段の出力に基づき前記半導体リレーを駆動する駆動制御手段と
    を具備することを特徴とする半導体試験装置。
  5. 請求項4に記載の半導体試験装置において、
    前記検出手段の出力と前記印加ラインを流れる電流に基づき前記機械式リレーの劣化を判定する劣化判定手段を有することを特徴とする半導体試験装置。
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