JP2008205376A - 多層膜反射鏡、露光装置、デバイス製造方法、多層膜反射鏡の製造方法 - Google Patents
多層膜反射鏡、露光装置、デバイス製造方法、多層膜反射鏡の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】多層膜反射鏡は、基材と、基材上に所定の周期長で交互に積層された第1層及び第2層を含み、表面が凹凸状に形成され、極端紫外光を反射可能な多層膜と、多層膜の表面を覆うように配置され、極端紫外光に対する屈折率が真空の屈折率とほぼ等しい物質で形成された第3層と、第3層の表面を覆うように配置された保護層とを備えている。
【選択図】図1
Description
第1実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係る多層膜反射鏡10の一例を示す模式図である。図1において、多層膜反射鏡10は、基材5と、基材5上に所定の周期長dで交互に積層された第1層1及び第2層2を含み、表面4Sが凹凸状に形成され、極端紫外光を反射可能な多層膜4と、多層膜4の表面4Sを覆うように配置され、極端紫外光に対する屈折率が真空の屈折率とほぼ等しい物質で形成された第3層3と、第3層3の表面3Sを覆うように配置された保護層6とを備えている。
FE=WFE/2/√N(RMS) …(1)
で与えられる。ここで、Nは、光学系を構成する反射鏡の枚数であり、更に2で割るのは、反射光学系では入射光と反射光との両方がそれぞれ形状誤差の影響を受けるので、波面収差には形状誤差の2倍の誤差が乗るからである。
FE=λ/28/√N(RMS) …(2)
で与えられる。この値は、波長13.5nmでは6枚の反射鏡で構成された光学系の場合、0.2nmRMSとなる。
OP=n1d1+n2d2 …(3)
となる。なお、d=d1+d2である。
OP’=nd …(4)
となる。
Δ=OP’−OP …(5)
で与えられる。EUV光の波長領域では、物質の屈折率が1に近いので、Δは小さい値となる。したがって、本実施形態のように、多層膜の一部を除去することによって、実質的に精密な面形状の補正(調整)を実行できる。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
次に、第5実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
Claims (14)
- 基材と、
前記基材上に所定の周期長で交互に積層された第1層及び第2層を含み、表面が凹凸状に形成され、極端紫外光を反射可能な多層膜と、
前記多層膜の表面を覆うように配置され、極端紫外光に対する屈折率が真空の屈折率とほぼ等しい物質で形成された第3層と、
前記第3層の表面を覆うように配置された保護層と、を備えた多層膜反射鏡。 - 波面収差を制御するために、前記多層膜の表面が凹凸状に形成されている請求項1記載の多層膜反射鏡。
- 前記多層膜の表面は、前記第1層及び前記第2層の少なくとも一方で形成されている請求項1又は2記載の多層膜反射鏡。
- 前記第1層は、極端紫外光に対する屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質で形成され、前記第2層は、前記差が小さい物質で形成されている請求項1〜3のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 前記第3層と前記保護層との界面は、前記第1層の前記基材側の表面から前記周期長の整数倍の位置に配置されている請求項1〜4のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 前記第3層と前記保護層との界面は、前記第1層の前記基材側の表面から前記周期長の整数倍の位置に対して前記基材側に0.8nmの位置に配置されている請求項1〜4のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 前記第3層は、前記第2層を形成する物質と同じ物質で形成されている請求項1〜6のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 前記第1層は、モリブデンを含む請求項1〜7のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 前記第2層は、シリコンを含む請求項1〜8のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 前記第3層は、シリコン、ベリリウム、炭化シリコン、二酸化シリコンまたはこれらの組合せからなるグループから選ばれる材料を含む請求項1〜9のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 前記保護層は、ルテニウム、ルテニウム合金、ロジウム、ロジウム合金、ニオブ、ニオブ合金、白金、白金合金、モリブデン、モリブデン合金、二酸化チタン、二酸化シリコン、二酸化ジルコニウム、二珪化モリブデン、炭化シリコン又はこれらの組合せからなるグループから選ばれる材料を含む請求項1〜10のいずれか一項記載の多層膜反射鏡。
- 露光光で基板を露光する露光装置であって、
請求項1〜請求項11のいずれか一項記載の多層膜反射鏡を備えた露光装置。 - 請求項12記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - 基材上に所定の周期長で第1層及び第2層を交互に積層して極端紫外光を反射可能な多層膜を形成することと、
前記多層膜の表面を凹凸状に加工することと、
前記多層膜の表面を覆うように、極端紫外光に対する屈折率が真空の屈折率とほぼ等しい物質で第3層を形成することと、
前記第3層の表面を覆うように保護層を形成することと、を含む多層膜反射鏡の製造方法。
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Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
JP2011222958A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-11-04 | Komatsu Ltd | ミラーおよび極端紫外光生成装置 |
JP2012156506A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置用の反射型光コンポーネントおよびデバイス製造方法 |
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001059901A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-03-06 | Asm Lithography Bv | 極端紫外光学素子用のキャッピング層 |
JP2002134385A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-10 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡および露光装置 |
JP2002311198A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡の製造方法 |
JP2003084095A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡、その製造方法、x線露光装置、半導体デバイスの製造方法及びx線光学系 |
JP2004080021A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-03-11 | Canon Inc | 光学系の調整方法及び装置、露光装置 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001059901A (ja) * | 1999-07-02 | 2001-03-06 | Asm Lithography Bv | 極端紫外光学素子用のキャッピング層 |
JP2002134385A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-10 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡および露光装置 |
JP2002311198A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡の製造方法 |
JP2003084095A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡、その製造方法、x線露光装置、半導体デバイスの製造方法及びx線光学系 |
JP2004080021A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-03-11 | Canon Inc | 光学系の調整方法及び装置、露光装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011222958A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-11-04 | Komatsu Ltd | ミラーおよび極端紫外光生成装置 |
JP2012156506A (ja) * | 2011-01-26 | 2012-08-16 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置用の反射型光コンポーネントおよびデバイス製造方法 |
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JP2021071543A (ja) * | 2019-10-29 | 2021-05-06 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光集光ミラー、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 |
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