JP2008205118A - 基板の処理方法、基板の処理システム及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【課題】RELACS技術を用いてレジストパターンの寸法を縮小する際に、レジストパターンの欠陥を低減する。
【解決手段】ウェハWのレジストパターン上にレジストパターン寸法縮小剤を塗布する。その後ウェハWを加熱し、レジストパターンの表面に接するレジストパターン寸法縮小剤の下層部分を純水に対する不溶性に変質させる。その後レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を除去液により除去する。この除去工程では、先ずウェハWを静止した状態でウェハW上に純水の液膜Dを形成して、純水の液膜Dによりレジストパターン寸法縮小剤Bの上層部分を溶解する。その後ウェハWを回転させた状態でウェハWに純水Eを供給して、レジストパターン寸法縮小剤の上層部分をウェハW上から除去する。その後純水Eが吐出された乾燥用ノズル182をウェハWの中心部から外周部に移動させ、ウェハWを回転させてウェハWを乾燥する。
【選択図】図14
【解決手段】ウェハWのレジストパターン上にレジストパターン寸法縮小剤を塗布する。その後ウェハWを加熱し、レジストパターンの表面に接するレジストパターン寸法縮小剤の下層部分を純水に対する不溶性に変質させる。その後レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を除去液により除去する。この除去工程では、先ずウェハWを静止した状態でウェハW上に純水の液膜Dを形成して、純水の液膜Dによりレジストパターン寸法縮小剤Bの上層部分を溶解する。その後ウェハWを回転させた状態でウェハWに純水Eを供給して、レジストパターン寸法縮小剤の上層部分をウェハW上から除去する。その後純水Eが吐出された乾燥用ノズル182をウェハWの中心部から外周部に移動させ、ウェハWを回転させてウェハWを乾燥する。
【選択図】図14
Description
本発明は、基板上に形成されたレジストパターンの寸法を縮小するための基板の処理方法と、基板の処理システムと、基板の処理方法をコンピュータに実現させるためのプログラムを記憶した記憶媒体に関する。
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、ウェハ上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜を露光し、現像して、ウェハ上にレジストパターンを形成する処理が行われている。
レジストパターンを形成するにあたり、半導体デバイスのさらなる高集積化を図るため、レジストパターンの微細化が求められており、これを受けて露光光源の短波長化が進められている。しかしながら、現状、露光光源の短波長化には技術的、コスト的な限界がある。そこで、レジストパターンのホールや溝の内壁面にレジストパターン寸法縮小剤の膜層を形成して、レジストパターンのホール径や線幅などの寸法を縮小する技術(RELACS(Resolution Enhancement Lithgraphy Assisted by Chemical Shrink)技術)が提案されている(特許文献1参照)。
このRELACS技術では、先ずウェハ表面のレジストパターン上に水溶性のレジストパターン寸法縮小剤(RELACS剤)が塗布される。その後レジストパターンのホールや溝の内壁面に接するレジストパターン寸法縮小剤の下層部分が例えば熱によって不溶性に変質される。その後水溶性のレジストパターン寸法縮小剤の上層部分が純水により除去されて、レジストパターンの寸法が縮小されている。
しかしながら、上述したようにRELACS技術において、最後に余分なレジストパターン寸法縮小剤の上層部分を除去する工程は、通常、ウェハを回転させ、その回転したウェハの表面に大流量の純水を供給することによって行われる。このように、回転したウェハに大量の純水を供給して余分なレジストパターン寸法縮小剤を除去した場合、最終的に形成されたレジストパターンの表面に多数の欠陥が生じることがあった。この一因として、純水供給時の純水のウェハに対する衝撃により、残留させる下層部分のレジストパターン寸法縮小剤が損傷することが挙げられている。レジストパターンの表面に多くの欠陥が生じると、最終的に適正な寸法の回路パターンが形成されなくなる。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、RELACS技術を用いてレジストパターンの寸法を縮小する際に、最終的なレジストパターンの表面に生じる欠陥を低減することをその目的とする。
上記目的を達成するための本発明は、基板に形成されたレジストパターンの寸法を縮小するための基板の処理方法であって、基板のレジストパターン上に除去液に対して可溶性のレジストパターン寸法縮小剤を塗布する塗布工程と、その後、レジストパターンの表面に接する前記レジストパターン寸法縮小剤の下層部分を除去液に対する不溶性に変質させる変質工程と、その後、前記レジストパターン寸法縮小剤の変質していない上層部分を除去液により除去する除去工程と、を有し、前記除去工程は、基板を静止した状態で、当該基板上に除去液の液膜を形成して、当該除去液の液膜により前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を溶解する第1の工程と、その後、基板を回転させた状態で、当該基板に除去液を供給して、前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を基板上から除去する第2の工程と、その後、基板を乾燥させる第3の工程と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、レジストパターン寸法縮小剤の上層部分の除去工程において、初めに基板を静止した状態で基板上の除去液の液膜を形成して、当該除去液の液膜によりレジストパターン寸法縮小剤の上層部分を溶解するので、除去液の供給時の除去液の基板に対する衝撃を小さくすることができる。この結果、レジストパターン寸法縮小剤の下層部分の損傷が低減され、最終的に形成されるレジストパターンの表面の欠陥を低減することができる。
前記第1の工程は、基板の径と同じかそれよりも長い吐出口を有する液膜形成用ノズルが、除去液を吐出しながら、基板の一端部上から他端部上まで移動することによって行われるようにしてもよい。こうすることにより、除去液の供給時の除去液の基板に対する衝撃をさらに小さくすることができる。
前記第2の工程は、回転する基板の中心部に洗浄用ノズルが除去液を吐出することによって行われるようにしてもよい。
前記第2の工程は、基板の直径と同じかそれよりも長い吐出口を有する洗浄用ノズルが、回転する基板の直径上に位置し、基板の直径上に除去液を吐出することによって行われるようにしてもよい。こうすることにより、第2の工程においても、除去液の基板に対する衝撃を小さくすことができるので、最終的に形成されるレジストパターンの表面の欠陥をさらに低減できる。
前記第3の工程は、基板を回転させた状態で、乾燥用ノズルが、除去液を吐出しながら、基板の中心部から外周部まで移動することによって行われるようにしてもよい。
前記第3の工程では、基板の周辺雰囲気の湿度が40%以下に維持されるようにしてもよい。
別の観点による本発明は、基板に形成されたレジストパターンの寸法を縮小するための基板の処理システムであって、基板のレジストパターン上に除去液に対して可溶性のレジストパターン寸法縮小剤を塗布する塗布装置と、レジストパターンの表面に接する前記レジストパターン寸法縮小剤の下層部分を除去液に対する不溶性に変質させる変質装置と、前記レジストパターン寸法縮小剤の変質していない上層部分を除去液により除去する除去装置と、を有し、前記除去装置は、基板を保持して回転可能な回転保持部材と、静止した基板上に除去液を供給し、基板上に除去液の液膜を形成して、当該除去液の液膜により前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を溶解させる液膜形成用ノズルと、回転した基板上に除去液を供給して、基板上の前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を基板上から除去する洗浄用ノズルと、を有することを特徴とする。
前記液膜形成用ノズルは、基板の径と同じかそれよりも長い吐出口を有し、除去液を吐出しながら基板の一端部上から他端部上まで移動可能であってもよい。
前記洗浄用ノズルは、基板の中心部に除去液を吐出可能であってもよい。
前記洗浄用ノズルは、基板の直径と同じかそれよりも長い吐出口を有し、基板の直径上に位置した状態で基板の直径上に除去液を吐出可能であってもよい。
基板を回転させて基板を乾燥させる際に基板に除去液を供給する乾燥用ノズルを有し、前記乾燥用ノズルは、除去液を吐出しながら基板の中心部から外周部まで移動可能であってもよい。
前記除去装置は、回転保持部材に保持された基板の周辺雰囲気の湿度を40%以下に調整する湿度調整装置を有するようにしてもよい。
別の観点による本発明によれば、上述の基板の処理方法を基板の処理システムによって実行させるために、当該基板の処理システムを制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体が提供される。
本発明によれば、RELACS技術を用いてレジストパターンの寸法を縮小する際のレジストパターンの欠陥を低減でき、歩留まりを向上できる。
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態にかかる基板の処理方法が実施される基板処理システム1の構成の概略を示す平面図であり、図2は、基板処理システム1の正面図であり、図3は、基板処理システム1の背面図である。
基板処理システム1は、図1に示すように例えば複数枚のウェハWをカセット単位で外部から基板処理システム1に対して搬入出したり、カセットCに対してウェハWを搬入出したりするカセットステーション2と、一連のウェハ処理中の各種処理を枚様式に行う複数の処理装置を多段に備えている処理ステーション3とを一体に接続した構成を有している。
カセットステーション2には、カセット載置台10が設けられ、当該カセット載置台10は、複数のカセットCをX方向(図1中の上下方向)に一列に載置自在になっている。カセットステーション2には、搬送路11上をX方向に向かって移動可能なウェハ搬送体12が設けられている。ウェハ搬送体12は、カセットCに収容されたウェハWの配列方向(上下方向)にも移動自在であり、X方向に配列された各カセットC内の各ウェハWに対して選択的にアクセスできる。
ウェハ搬送体12は、鉛直軸周りのθ方向に回転可能であり、後述する処理ステーション3側の第3の処理装置群G3に属するエクステンション装置32に対してもアクセスできる。
処理ステーション3には、その中心部に主搬送装置13が設けられており、この主搬送装置13の周辺には、各種処理装置が多段に配置されて処理装置群が構成されている。この基板処理システム1には、4つの処理装置群G1、G2、G3、G4が配置されており、第1及び第2の処理装置群G1、G2は、基板処理システム1の正面側に配置され、第3の処理装置群G3は、主搬送装置13のカセットステーション2側に配置され、第4の処理装置群G4は、第3の処理装置群G3の主搬送装置13を挟んだ反対側に配置されている。さらにオプションとして破線で示した第5の処理装置群G5を背面側に別途配置可能となっている。主搬送装置13は、これらの処理装置群G1〜G5内に配置されている後述する各種処理装置に対してウェハWを搬送できる。
第1の処理装置群G1には、例えば図2に示すようにウェハW上に所定のレジストパターン寸法縮小剤を塗布する塗布装置20と、余分なレジストパターン寸法縮小剤を除去する除去装置21とが下から順に2段に配置されている。第2の処理装置群G2も同様に、塗布装置22と、除去装置23とが下から順に2段に積み重ねられている。
第3の処理装置群G3には、例えば図3に示すようにウェハWを所定の温度に調節する温調装置30、31、ウェハWを一時的に待機させるエクステンション装置32、ウェハW上のレジストパターン寸法縮小剤を除去液に対する不溶性に変質させる変質装置としての加熱装置33、34等が下から順に例えば5段に重ねられている。
第4の処理装置群G4には、例えば温調装置40、41、エクステンション装置42、加熱装置43、44等が下から順に例えば5段に積み重ねられている。
次に、上述の塗布装置20、22の構成について詳しく説明する。図4は、塗布装置20の構成の概略を示す縦断面の説明図であり、図5は、塗布装置20の横断面の説明図である。
塗布処理装置20は、例えば内部を閉鎖可能なケーシング70を有している。ケーシング70内の中央部には、ウェハWを保持して回転させるスピンチャック71を備えている。スピンチャック71は、水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハWを吸引する吸引口(図示せず)が設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハWをスピンチャック71上に吸着保持できる。
スピンチャック71は、例えばモータなどを備えたチャック駆動機構72により、所定の速度に回転できる。また、チャック駆動機構72には、シリンダなどの昇降駆動源が設けられており、スピンチャック71は上下動可能である。
スピンチャック71の周囲には、ウェハWから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するカップ73が設けられている。カップ73の下面には、回収した液体を排出する排出管74と、カップ73内の雰囲気を排気する排気管75が接続されている。
図5に示すようにカップ73のX方向負方向(図5の下方向)側には、Y方向(図5の左右方向)に沿って延伸するレール80が形成されている。レール80は、例えばカップ73のY方向負方向(図5の左方向)側の外方からY方向正方向(図5の右方向)側の外方まで形成されている。レール80には、例えば二本のアーム81、82が取り付けられている。
第1のアーム81には、図4及び図5に示すようにレジストパターン寸法縮小剤を吐出する第1のノズル83が支持されている。第1のアーム81は、図5に示すノズル駆動部84により、レール80上を移動自在であり、第1のノズル83を、カップ73のY方向正方向側の外方に設置された待機部85からカップ73内のウェハWの中心部上方まで移動させることができる。また、第1のアーム81は、ノズル駆動部84によって昇降自在であり、第1のノズル83の高さを調整できる。
第1のノズル83には、図4に示すように縮小剤供給源86に連通する供給管87が接続されている。本実施の形態においては、例えば縮小剤供給源86には、水溶性であって、熱によりレジストと反応して除去液としての純水に対する不溶性に変質し、さらにその変質後にエッチング材に対する耐性を有するレジストパターン寸法縮小剤(RELACS剤)が貯留されている。具体的には、レジストパターン寸法縮小剤には、例えばRELACS R602(AZ エレクトロニック マテリアルズ社製)が用いられる。
第2のアーム82には、純水を吐出する第2のノズル90が支持されている。第2のアーム82は、例えば図5に示すノズル駆動部91によってレール80上を移動自在であり、第2のノズル90を、カップ73のY方向負方向側の外方に設けられた待機部92からカップ73内のウェハWの中心部上方まで移動させることができる。また、ノズル駆動部91によって、第2のアーム82は昇降自在であり、第2のノズル90の高さも調節できる。
第2のノズル90には、図4に示すように純水供給源93に連通する供給管94が接続されている。
例えばケーシング70の天井面の中央部には、給気管100が接続されている。給気管100には、温湿度調整装置101が接続されている。温湿度調整装置101により温度と湿度の調整された気体をケーシング70内に供給することにより、ケーシング70内を所定の温度と湿度の雰囲気に調整できる。
なお、塗布装置22の構成は、上述の塗布装置20と同様であるので、説明を省略する。
次に、除去装置21、23の構成について説明する。図6は、除去装置21の構成の概略を示す縦断面の説明図である。図7は、除去装置21の構成の概略を示す横断面の説明図である。
除去装置21は、例えば図6に示すように内部を閉鎖可能なケーシング110を有している。ケーシング110の中央部には、ウェハWを保持して回転させる回転保持部材としてのスピンチャック120を備えている。スピンチャック120は、水平な上面を有し、当該上面には、例えばウェハWを吸引する吸引口(図示せず)が設けられている。この吸引口からの吸引により、ウェハWをスピンチャック120上に吸着できる。
スピンチャック120には、例えばモータなどを備えたチャック駆動機構121により、所定の速度に回転できる。また、チャック駆動機構121には、シリンダなどの昇降駆動源が設けられており、スピンチャック120は上下動可能である。
スピンチャック120の周囲には、ウェハWから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するカップ122が設けられている。カップ122は、例えばスピンチャック120の周囲を囲む内カップ123と、当該内カップ123のさらに外周を囲む外カップ124と、内カップ123と外カップ124の下面を覆う下カップ125とを別個に備えている。内カップ123と外カップ124により、主にウェハWの外方に飛散する液体を受け止めることができ、下カップ125により、内カップ123と外カップ124の内壁やウェハWから落下する液体を回収することができる。
内カップ123は、例えば略円筒状に形成され、その上端部は内側上方に向けて傾斜している。内カップ123は、例えばシリンダなどの昇降駆動部126によって上下動できる。外カップ124は、例えば図7に示すように平面から見て四角形の略筒状に形成されている。外カップ124は、図6に示すように例えばシリンダなどの昇降駆動部127によって上下動できる。下カップ125には、回収した液体を排出する排出管128と、カップ122内の雰囲気を排気する排気管129が接続されている。
スピンチャック120の周囲には、例えば環状部材130が設けられている。環状部材130は、例えばウェハWの裏面に近接する頂上部を備えており、その頂上部でウェハWの裏面を伝わる液体を遮断できる。
図7に示すようにカップ122のX方向負方向(図7の下方向)側には、Y方向(図7の左右方向)に沿って延伸するレール140が形成されている。レール140は、例えばカップ122のY方向負方向(図7の左方向)側の外方からカップ122のY方向正方向(図7の右方向)側の外方まで形成されている。レール140には、例えば二本のアーム141、142が取り付けられている。
第1のアーム141には、図7に示すようにウェハW上に除去液を吐出して、除去液の液膜を形成するための液膜形成用ノズル143が支持されている。第1のアーム141は、ノズル駆動部144により、レール140上を移動自在であり、液膜形成用ノズル143を、カップ122のY方向負方向側の外方に設置された待機部145からカップ122内のウェハWの上方まで移動させ、ウェハWの表面上を移動させることができる。また、第1のアーム141は、ノズル駆動部144によって昇降自在であり、液膜形成用ノズル143の高さを調整できる。
液膜形成用ノズル143は、例えば図8に示すようにX方向に沿って長い細長形状を有している。液膜形成用ノズル143の上部には、除去液供給源150に連通する供給管151が接続されている。液膜形成用ノズル143の下部には、長手方向に沿ってウェハWの直径寸法と同じかそれよりも長いスリット状の吐出口143aが形成されている。液膜形成用ノズル143は、上部の供給管151から導入された除去液を液膜形成用ノズル143の内部を通過させ、下部の各吐出口143aから一様に吐出できる。なお、本実施の形態においては、例えば除去液供給源150に、除去液として純水が貯留されている。
第2のアーム142には、図7に示すようにウェハWの中心に除去液を吐出してウェハWを洗浄するための洗浄用ノズル160が支持されている。第2のアーム142は、ノズル駆動部161により、レール140上を移動自在であり、洗浄用ノズル160を、カップ122のY方向正方向側の外方に設置された待機部162からカップ122内のウェハWの中心部の上方まで移動させることができる。また、第2のアーム142は、ノズル駆動部161によって昇降自在であり、洗浄用ノズル160の高さを調整できる。
洗浄用ノズル160は、図6に示すように例えば略円筒状に形成され、下方に向けて除去液を吐出できる。洗浄用ノズル160には、除去液供給源170に連通する供給管171が接続されている。本実施の形態においては、例えば除去液供給源170には、純水が貯留されている。
図7に示すようにカップ122のX方向正方向(図7の上方向)側には、Y方向に沿って延伸するレール180が形成されている。レール180は、例えばカップ122のY方向正方向側の外方からカップ122のY方向負方向側の外方まで形成されている。レール180には、例えば第3のアーム181が取り付けられている。第3のアーム181には、ウェハWの乾燥時に除去液を吐出する乾燥用ノズル182が支持されている。第3のアーム181には、図7に示すノズル駆動部183により、レール180上を移動自在であり、乾燥用ノズル182を、カップ122のY方向正方向側の外方に設置された待機部184からカップ122内のウェハWの上方まで移動させ、ウェハWの表面上を移動させることができる。また、第3のアーム181は、ノズル駆動部183によって昇降自在であり、乾燥用ノズル182の高さを調整できる。
乾燥用ノズル182は、図6に示すように例えば略円筒状に形成され、下方に向けて除去液を吐出できる。乾燥用ノズル182には、除去液供給源190に連通する供給管191が接続されている。本実施の形態においては、例えば除去液供給源190には、純水が貯留されている。
例えばケーシング110の天井面には、温度と湿度の調整された気体をケーシング110内に供給する気体供給部200が設けられている。気体供給部200は、例えば気体流入室200aと、その下面に設けられた多数の気体供給孔200bを有し、下方に向けてケーシング110内の全体に気体を供給できる。気体供給部200には、気体の温度と湿度を調整して当該気体を気体供給部200に供給する温湿度調整部201が給気管202によって接続されている。本実施の形態においては、例えば気体供給部200、温湿度調整部201及び給気管202により、湿度調整装置が構成されている。
なお、除去装置23の構成は、上述の除去装置21と同様であるので、説明を省略する。
次に、上述の加熱装置33、34、43、44の構成について説明する。例えば加熱装置33は、図9に示すようにケーシング33a内に、上側に位置して上下動自在な蓋体210と、下側に位置して蓋体210と一体となって処理室Kを形成する熱板収容部211を有している。
蓋体210は、下面が開口した略円筒形状を有している。蓋体210の上面中央部には、排気部210aが設けられている。処理室K内の雰囲気は、排気部210aから均一に排気される。
熱板収容部211の中央部には、熱板220が設けられている。熱板220は、例えば略円盤状に形成されている。熱板220の内部には、給電により発熱するヒータ221が内蔵されており、熱板220を所定の温度に加熱できる。
例えば熱板220の下方には、ウェハWを下方から支持し昇降させるための昇降ピン230が設けられている。昇降ピン230は、昇降駆動機構231により上下動できる。熱板220の中央部付近には、熱板220を厚み方向に貫通する貫通孔232が形成されており、昇降ピン230は、熱板220の下方から上昇して貫通孔232を通過して、熱板220の上方に突出できる。
熱板収容部211は、例えば熱板220を収容して熱板220の外周部を支持する環状の支持部材240と、その支持部材240の外周を囲む略筒状のサポートリング241を備えている。
なお、加熱装置34、43、44の構成については、上記加熱装置33と同様であるので説明を省略する。
上記基板処理システム1で行われるウェハ処理は、例えば図1に示すようにカセットステーション2に設けられた制御部250によって制御されている。制御部250は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部を有している。そのプログラム格納部には、上述の各種処理装置やウェハ搬送装置などの動作を制御して、後述する所定のレシピのウェハ処理を実行するプログラムPが格納されている。このプログラムPは、例えばコンピュータに読み取り可能な記憶媒体Hに記憶されていたものであって、その記憶媒体から制御部250にインストールされたものが用いられる。
次に、以上のように構成された基板処理システム1で行われるウェハ処理について説明する。図10は、このウェハ処理の主な工程を示すフローチャートである。
この基板処理システム1では、フォトリソグラフィー工程により予めレジストパターンが形成されたウェハWが処理される。先ず、レジストパターンが形成された複数枚のウェハWが予めカセットCに収容されており、そのカセットCが、基板処理システム1のカセット載置台10上に載置される。カセットC内のウェハWは、ウェハ搬送体12によって取り出され、第3の処理装置群G3のエクステンション装置32に搬送される。その後ウェハWは、主搬送装置13によって例えば温調装置30に搬送され、所定温度に温度調節され、その後塗布装置20に搬送される。
塗布装置20に搬入後、ウェハWは、図4に示すようにスピンチャック71に吸着保持される。続いて第2のノズル90がウェハWの中心部の上方まで移動し、ウェハWの中心部に所定量の純水が供給される。その後、ウェハWが回転され、ウェハW上の純水が遠心力により広げられる。このとき、純水は、ウェハWの表面の全体に広げられず、ウェハWの中心部付近に円形の水溜り状に広げられる。次に、第1のノズル83がウェハWの中心部の上方まで移動し、ウェハWの中心部の純水上に所定量のレジストパターン寸法縮小剤が供給される。この後、ウェハWの回転速度が上昇され、レジストパターン寸法縮小剤がウェハWの表面の全体に広げられる。こうして図11に示すようにウェハW上のレジストパターンPの凹凸の表面上にレジストパターン寸法縮小剤Bが塗布される(図10に示す塗布工程S1)。
次に、ウェハWの回転速度が調整され、レジストパターン寸法縮小剤Bが所定の膜厚に調整される。その後、ウェハWの回転速度が上げられ、レジストパターン寸法縮小剤Bが乾燥される。こうして、一連の塗布処理が終了する。
塗布処理の終了後、ウェハWは、例えば主搬送装置13によって図9に示す加熱装置33に搬送される。加熱装置33に搬入後、ウェハWは、予め上昇して待機していた昇降ピン230に受け渡され、その昇降ピン230が下降して、ウェハWが熱板220上に載置される。こうして、ウェハWが熱板220によって加熱される。この加熱により、レジストパターン寸法縮小剤Bが硬化し、図12に示すようにレジストパターンPの凹凸表面に近いレジストパターン寸法縮小剤Bの下層部分B1が、レジストパターンPと化学的に反応して、その下層部分B1が除去液としての純水に対して不溶性に変質する(図10の変質工程S2)。なお、レジストパターン寸法縮小剤Bの上層部分B2は、水溶性を維持している。所定時間経過後、昇降ピン230が再び上昇され、ウェハWの加熱が終了する。
加熱処理の終了後、ウェハWは、主搬送装置13によって例えば冷却処理装置40に搬送され、例えば常温に戻された後、図6に示す除去装置21に搬入される。このとき、除去装置21内には、気体供給部200から、常温例えば23℃で湿度40%以下の気体である清浄エアが供給されており、ケーシング110内の全体の湿度が40%以下に維持されている。
図13は、除去装置21で行われる除去工程S3のフローチャートである。ウェハWは、除去装置21に搬入されると、スピンチャック120に保持される。次に、液膜形成用ノズル143がウェハWの一端部上の開始位置P1(図7に示す)まで移動する。その後、液膜形成用ノズル143から純水が吐出され始める。その後、図14(a)に示すようにウェハWが静止した状態で、液膜形成用ノズル143が吐出口143aから純水を吐出しながら、ウェハWの一端部上の開始位置P1からウェハWの表面上を通ってウェハWの他端部上の終了位置P2(図7に示す)まで移動する。こうして、図15に示すようにレジストパターン寸法縮小剤B上に純水の液膜Dが形成される。これにより、レジストパターン寸法縮小剤Bの変質していない上層部分B2が液膜D内に溶解する(図13の液膜形成工程S3a)。
その後、液膜形成用ノズル143が待機部145に戻され、次に洗浄用ノズル160がウェハWの中心部の上方に移動する。その後、図14(b)に示すようにウェハWが例えば800rpm程度の速度で回転され、洗浄用ノズル160からウェハWの中心部に純水Eが供給される。これにより、レジストパターン寸法縮小剤Bの上層部分B2がウェハW上から除去され、ウェハWが洗浄される(図13の洗浄工程S3b)。
所定時間ウェハWが洗浄された後、洗浄用ノズル160が待機部162に戻され、次に乾燥用ノズル182がウェハWの中心部の上方に移動する。その後、図14(c)に示すようにウェハWの回転速度が例えば2000rpm程度に上昇される。このとき、乾燥用ノズル182が純水Eを吐出しながら、ウェハWの中心部の上方から外周部の上方まで移動する。これにより、ウェハWの表面から水分が除去され、ウェハWが乾燥される(図13の乾燥工程S3c)。
こうして、図16に示すようにレジストパターンPの凹みの内壁面にレジストパターン寸法縮小剤Bの下層部分B1が残されて、レジストパターンPの寸法が縮小される。
除去処理の終了後、ウェハWは、例えば主搬送装置13とウェハ搬送体12によって処理ステーション3からカセットステーション2のカセットCに戻される。こうして、一連のウェハ処理が終了する。
以上の実施の形態によれば、レジストパターン寸法縮小剤Bの除去工程S3において、ウェハW上に純水の液膜Dを形成したので、純水供給時の純水のレジストパターン寸法縮小剤Bに対する衝撃が小さくなり、レジストパターン寸法縮小剤Bの下層部分B2の損傷を低減できる。これにより、最終的に形成されるレジストパターンPの欠陥を低減できる。ここで、除去工程S3において純水の液膜Dを形成した場合の効果を実証する実験結果を示す。
図17(a)は、除去工程S3において液膜形成工程S3aを行った場合の最終的なウェハW上のレジストパターンを撮影した写真である。図17(b)は、除去工程S3において液膜形成工程S3aを行わずに洗浄工程S3bから行った場合の最終的なウェハW上のレジストパターンを撮影した写真である。図16の写真中の黒点は、欠陥を示している。図17(a)の液膜形成工程S3aを行った場合、欠陥数が65個であった。図17(b)の液膜形成工程S3aを行わなかった場合、欠陥数が319個であった。このように、この実験から、膜形成工程S3aを行った場合にレジストパターンの欠陥が著しく低減されていることが確認できる。
以上の実施の形態では、除去工程S3の液膜形成工程S3aにおいて、ウェハWが静止した状態で、スリット状の吐出口143aを有する液膜形成用ノズル143が、純水を吐出しながら、ウェハWの一端部上から他端部上まで移動して、純水の液膜Dを形成したので、純水のウェハWに対する衝撃を極めて小さくできる。これにより、レジストパターン寸法縮小剤Bの下層部分B2の損傷をさらに低減している。
以上の実施の形態では、除去工程S3の洗浄工程S3bにおいて、回転しているウェハWの中心部に、洗浄用ノズル160により純水を供給したので、ウェハWの洗浄を迅速に行うことができる。
また、除去工程S3の乾燥工程S3cにおいて、ウェハWを回転させた状態で、乾燥用ノズル182が、純水を吐出しながら、ウェハWの中心部上から外周部上まで移動したので、ウェハWの中心部から外周部に向かって一方向に乾燥が進められるので、ウェハWの表面の乾燥が斑なく迅速に行われる。なお、乾燥工程S3cにおいて、必ずしも乾燥用ノズル182を用いる必要はなく、単にウェハWを高速回転させて、ウェハWを乾燥させてもよい。
また、上記実施の形態では、乾燥工程S3c時にウェハWの周辺雰囲気の湿度が40%以下に維持されているので、ウェハWの表面の乾燥が迅速に行われる。これによっても、最終的に形成されるレジストパターンPの欠陥が低減できる。図18は、乾燥工程S3c時のウェハWの周辺雰囲気の湿度を変えた場合の最終的なレジストパターンの欠陥数を比較した実験結果である。この実験では、乾燥工程S3c時のウェハWの周辺雰囲気の湿度を50%、45%、40%に変えてレジストパターンの欠陥数を調べた。図18の表からウェハWの周辺雰囲気の湿度を下げるにしたがって欠陥個数が減少し、湿度を40%にした場合に目標値である30個を下回ることが確認できる。したがって、乾燥工程S3c時にウェハWの周辺雰囲気の湿度を40%以下にすることにより、レジストパターンPの欠陥を十分に低減できることが確認できる。
以上の実施の形態では、除去工程S3の洗浄工程S3bにおいて、洗浄用ノズル160が略円筒状に形成され、ウェハWの中心部のみに純水を供給していたが、洗浄用ノズル160が、液膜形成用ノズル143と同様に図19に示すような略直方体形状を有し、下面にウェハWの直径と同じかそれより長いスリット状の吐出口160aを備えていてもよい。そして、除去工程S3の洗浄工程S3b時には、図20に示すように洗浄用ノズル160がウェハWの直径上に移動する。その後、ウェハWが例えば低速の100rpm程度で回転され、洗浄用ノズル160の吐出口160aからウェハWの直径上に純水が供給される。これにより、レジストパターン寸法縮小剤Bの上層部分B2が純水と共にウェハW上から除去され、ウェハWが洗浄される。かかる場合、洗浄工程S3bにおいても、上述の略円筒状の洗浄用ノズルに比べて、純水供給時の純水のウェハWに対する衝撃が緩和されるので、レジストパターン寸法縮小剤Bの下層部分B2の損傷がさらに低減され、レジストパターンPの欠陥が低減される。
図21は、洗浄工程S3bにおいて、図19の洗浄用ノズル160を用いた場合の最終的なウェハW上のレジストパターンを撮影した実験写真である。図19の洗浄用ノズル160を用いなかった場合のレジストパターン上の欠陥が65個だった(図17(b)に示す。)のに対し、図19の洗浄用ノズル160を用いた場合の欠陥数は5個であった。このように、この実験から、洗浄工程S3bにおいて図19の洗浄用ノズル160を用いた場合にレジストパターンの欠陥がさらに低減されていることが確認できる。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、以上の実施の形態では、基板処理システム1においてレジストパターンの寸法を縮小するウェハ処理のみが行われていたが、レジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程も行うようにしてもよい。かかる場合、基板処理システム1内に、処理ステーション3に、ウェハWにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理装置や、ウェハW上のレジスト膜を現像する現像処理装置等を設け、またレジスト膜を露光する露光装置を処理ステーション3に隣接して設けるようにしてもよい。
以上の実施の形態では、塗布処理後に、レジストパターン寸法縮小剤Bの下層部分B1を加熱することによって変質させていたが、光によって変質させてもよい。また、上記実施の形態では、除去液として純水を用いていたが、他の液体を用いてもよい。
また本発明は、ウェハW以外のFPD(フラットパネルディスプレイ)、フォトマスク用のマスクレチクルなどに形成されたレジストパターンの寸法を縮小する際の基板処理にも適用できる。
本発明は、RELACS技術を用いてレジストパターンの寸法を縮小する場合において、最終的に形成されるレジストパターンの欠陥を低減する際に有用である。
1 基板処理システム
20 塗布装置
21 除去装置
33 加熱装置
143 液膜形成用ノズル
160 洗浄用ノズル
182 乾燥用ノズル
B レジストパターン寸法縮小剤
B1 下層部分
D 純水の液膜
E 純水
W ウェハ
20 塗布装置
21 除去装置
33 加熱装置
143 液膜形成用ノズル
160 洗浄用ノズル
182 乾燥用ノズル
B レジストパターン寸法縮小剤
B1 下層部分
D 純水の液膜
E 純水
W ウェハ
Claims (13)
- 基板に形成されたレジストパターンの寸法を縮小するための基板の処理方法であって、
基板のレジストパターン上に除去液に対して可溶性のレジストパターン寸法縮小剤を塗布する塗布工程と、
その後、レジストパターンの表面に接する前記レジストパターン寸法縮小剤の下層部分を除去液に対する不溶性に変質させる変質工程と、
その後、前記レジストパターン寸法縮小剤の変質していない上層部分を除去液により除去する除去工程と、を有し、
前記除去工程は、
基板を静止した状態で、当該基板上に除去液の液膜を形成して、当該除去液の液膜により前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を溶解する第1の工程と、
その後、基板を回転させた状態で、当該基板に除去液を供給して、前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を基板上から除去する第2の工程と、
その後、基板を乾燥させる第3の工程と、を有することを特徴とする、基板の処理方法。 - 前記第1の工程は、基板の径と同じかそれよりも長い吐出口を有する液膜形成用ノズルが、除去液を吐出しながら、基板の一端部上から他端部上まで移動することによって行われることを特徴とする、請求項1に記載の基板の処理方法。
- 前記第2の工程は、回転する基板の中心部に洗浄用ノズルが除去液を吐出することによって行われることを特徴とする、請求項1又は2のいずれかに記載の基板の処理方法。
- 前記第2の工程は、基板の直径と同じかそれよりも長い吐出口を有する洗浄用ノズルが、回転する基板の直径上に位置し、基板の直径上に除去液を吐出することによって行われることを特徴とする、請求項1又は2のいずれかに記載の基板の処理方法。
- 前記第3の工程は、基板を回転させた状態で、乾燥用ノズルが、除去液を吐出しながら、基板の中心部から外周部まで移動することによって行われることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の基板の処理方法。
- 前記第3の工程では、基板の周辺雰囲気の湿度が40%以下に維持されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の基板の処理方法。
- 基板に形成されたレジストパターンの寸法を縮小するための基板の処理システムであって、
基板のレジストパターン上に除去液に対する可溶性のレジストパターン寸法縮小剤を塗布する塗布装置と、
レジストパターンの表面に接する前記レジストパターン寸法縮小剤の下層部分を除去液に対する不溶性に変質させる変質装置と、
前記レジストパターン寸法縮小剤の変質していない上層部分を除去液により除去する除去装置と、を有し、
前記除去装置は、
基板を保持して回転可能な回転保持部材と、
静止した基板上に除去液を供給し、基板上に除去液の液膜を形成して、当該除去液の液膜により前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を溶解させる液膜形成用ノズルと、
回転した基板上に除去液を供給して、基板上の前記レジストパターン寸法縮小剤の上層部分を基板上から除去する洗浄用ノズルと、を有することを特徴とする、基板の処理システム。 - 前記液膜形成用ノズルは、基板の径と同じかそれよりも長い吐出口を有し、除去液を吐出しながら基板の一端部上から他端部上まで移動可能であることを特徴とする、請求項7に記載の基板の処理システム。
- 前記洗浄用ノズルは、基板の中心部に除去液を吐出可能であることを特徴とする、請求項7又は8のいずれかに記載の基板の処理システム。
- 前記洗浄用ノズルは、基板の直径と同じかそれよりも長い吐出口を有し、基板の直径上に位置した状態で基板の直径上に除去液を吐出可能であることを特徴とする、請求項7又は8のいずれかに記載の基板の処理システム。
- 基板を回転させて基板を乾燥させる際に基板に除去液を供給する乾燥用ノズルを有し、
前記乾燥用ノズルは、除去液を吐出しながら基板の中心部から外周部まで移動可能であることを特徴とする、請求項7〜10のいずれかに記載の基板の処理システム。 - 前記除去装置は、回転保持部材に保持された基板の周辺雰囲気の湿度を40%以下に調整する湿度調整装置を有することを特徴とする、請求項7〜11のいずれかに記載の基板の処理システム。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の基板の処理方法を基板の処理システムによって実行させるために、当該基板の処理システムを制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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