JP2008166463A - 排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置 - Google Patents
排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008166463A JP2008166463A JP2006353734A JP2006353734A JP2008166463A JP 2008166463 A JP2008166463 A JP 2008166463A JP 2006353734 A JP2006353734 A JP 2006353734A JP 2006353734 A JP2006353734 A JP 2006353734A JP 2008166463 A JP2008166463 A JP 2008166463A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- outlet
- drainage
- fluid
- water tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】純水Lが貯留された洗浄槽1に前記水晶ウェハWの格納されたバケットが浸漬され、その後揺動装置により所定の揺動動作がバケットBに対して与えられる。その後前記コック51の開放により圧縮エアが流通管に供給され、前記吹出口21に供給される。これにより吹出口の圧力は瞬時に高まり、バルブ4を押し上げる。この動作により、フランジ部41が上昇し排出口が開放され、洗浄槽1の純水(液体)は排出口から排出される。また、天板部を押し上げた圧縮エアは天板部の内側からバルブの側壁部に沿って下方に導かれ、最終的に前記排出口22から強勢に排出される。これにより急速排水が実施される。
【選択図】 図1
Description
底板2は塩化ビニール等の樹脂からなり、排水装置の最低部に設けられ、図4に示すように平面でみて円板形状である。その中央部分には吹出口21が形成され、当該吹出口21は板厚方向すなわち洗浄槽の深さ方向に伸長する円筒状の周壁21aに囲まれているとともに、流通管3と接続されている。当該吹出口21の外周部分には排出口22が形成されている。排出口22は貫通孔であり、槽外へ液体を排出することができる。本実施の形態においては、図4に示すように排出口22が4分割された状態で吹出口21の外側に形成されている。排出口22の外周には枠部23が形成されており、前記吹出口21と放射状に延びたアーム部24により一体化されている。また、枠部23は洗浄槽の底部とシール接合される。なお、底板の材料は、他の材料を用いてもよく、例えば温洗浄を行う場合は、耐熱塩化ビニールを用いてもよいし、耐腐食性金属等の材料を用いてもよい。
洗浄は、例えば前述のとおり酸性溶液による洗浄やアルカリ性溶液による洗浄が行われ、その間に純水によるリンス処理が行われる。ここでは酸性溶液による洗浄後のリンス処理を例にとり説明する。酸性溶液により洗浄が行われた水晶ウェハWの格納されたバケットBはアクチュエータによりリンス用の洗浄槽に運ばれる。図1に示すように事前に給水管SPから純水(液体)Lが貯留された洗浄槽1に前記水晶ウェハWの格納されたバケットが浸漬され、その後揺動装置により所定の揺動動作がバケットBに対して与えられ、リンス処理が行われる。所定プログラムの揺動動作完了後、直ちに急速排水が実行される。前記コック51の開放により圧縮エアが流通管に供給され、前記吹出口21に供給される。これにより吹出口の圧力は瞬時に高まり、バルブ4を押し上げる。この動作により、図2に示すようにフランジ部41が上昇し排出口が開放され、洗浄槽1の純水(液体)は排出口から排出される。また、天板部を押し上げた圧縮エアは天板部の内側からバルブの側壁部に沿って下方に導かれ、最終的に前記排出口22から強勢に排出される。当該強勢に排出される圧縮エアの加速流体としてのアシストを受けて純水も強勢に排出される。これにより急速排水が実施される。
底板2は排水装置の最低部に設けられ、その中央部分には吹出口21が形成され、当該吹出口21は板厚方向すなわち洗浄槽の深さ方向に伸長する円筒状の周壁21aに囲まれているとともに、流通管3と接続されている。当該吹出口21の外周部分には排出口22が形成されている。排出口22は貫通孔であり、槽外へ液体を排出することができる。
11 湾曲部
2 底板
21 吹出口
22 排出口
23 枠部
3 流通管
4 バルブ
41 フランジ部
42 天板部
5 抑止機構
51 抑止部
52 貫通部
Claims (4)
- 側壁と底部を有する水槽に貯留した液体を急速に排出する排水装置であって、当該排水装置は水槽の底部に配置され、底板と流通管とバルブと抑止機構とを有し、
前記底板は前記水槽の最低部に配置され、液体を外部に排出する排出口と、板厚方向に高さを有する周壁を有するとともに外部から供給された流体を噴出させる吹出口を有しており、
前記流通管は外部から供給された流体を流通させ、前記底板の吹出口に導入する構成であり、
前記バルブは上下動作可能に設置され、前記吹出口先端と対向する天板部と、前記排出口を開閉するフランジ部と、前記天板部とフランジ部を連結し前記吹出口の高さと同じかそれ以上の高さを有する側壁部を有しており、
前記抑止機構は、前記バルブの天板部またはフランジ部または側壁部と係止して、バルブの上下動作範囲を規制する機構であり、
前記流通管に供給された流体を吹出口に噴出させることにより前記バルブを上昇させ、水槽に貯留した液体を前記排出口から排出するとともに、前記噴出した流体も前記側壁部に沿って流れ前記排出口から排出することを特徴とする排水装置。 - 側壁と底部を有する水槽に貯留した液体を急速に排出する排水装置であって、当該排水装置は水槽の底部に配置され、底板と流通管とバルブと抑止機構とを有し、
前記底板は前記水槽の最低部に配置され、液体を外部に排出する排出口と、板厚方向に高さを有する周壁を有するとともに外部から供給された流体を噴出させる吹出口を有しており、
前記流通管は前記底板の内部または外部に設けられ、外部から供給された流体を流通させ、前記底板の吹出口に導入する構成であり、
前記バルブは全体として凸形状であり、前記吹出口先端と対向する天板部と、前記排出口を開閉するフランジ部と、前記天板部とフランジ部を連結し前記吹出口の高さと同じかそれ以上の高さを有する側壁部を有しており、
前記抑止機構は前記バルブの天板部の上方またはフランジ部の上方に形成され、前記バルブの上昇動作範囲を制御する抑止部と、水槽の液体を前記排出口へ導く貫通部を有しており、
前記バルブは前記底板と前記抑止板間で上下動作可能に設置され、前記流通管に供給された流体を吹出口に連続して噴出させることにより前記バルブを上昇させ、水槽に貯留した液体を排出口から排出するとともに、前記噴出した流体も前記側壁部に沿って流れ前記排出口から排出することを特徴とする排水装置。 - 前記流体は気体であることを特徴とする請求項1または2記載の排水装置。
- 洗浄槽の排水機構に請求項1乃至3のいずれかに記載の排水装置を用いた洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006353734A JP4830851B2 (ja) | 2006-12-28 | 2006-12-28 | 排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006353734A JP4830851B2 (ja) | 2006-12-28 | 2006-12-28 | 排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008166463A true JP2008166463A (ja) | 2008-07-17 |
JP4830851B2 JP4830851B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=39695548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006353734A Expired - Fee Related JP4830851B2 (ja) | 2006-12-28 | 2006-12-28 | 排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4830851B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011102529A1 (ja) | 2010-02-22 | 2011-08-25 | 有限会社東海医学検査研究所 | 上皮細胞間接着増強剤およびこれを用いたアレルギー改善、治療または予防剤 |
JP2012197979A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Shin Ootsuka Kk | ワークの乾燥装置およびワークの洗浄乾燥装置 |
CN114101187A (zh) * | 2021-12-20 | 2022-03-01 | 马宏杰 | 眼科医疗器具清洁灭菌系统 |
CN115228816A (zh) * | 2022-07-29 | 2022-10-25 | 重庆新申世纪新材料科技有限公司 | 一种高纯粉体材料的快速清洗装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5743887A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Canon Inc | Printer |
JPH0956288A (ja) * | 1995-08-21 | 1997-03-04 | Orion Mach Co Ltd | 真空配管式搾乳機の洗浄装置 |
-
2006
- 2006-12-28 JP JP2006353734A patent/JP4830851B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5743887A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Canon Inc | Printer |
JPH0956288A (ja) * | 1995-08-21 | 1997-03-04 | Orion Mach Co Ltd | 真空配管式搾乳機の洗浄装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011102529A1 (ja) | 2010-02-22 | 2011-08-25 | 有限会社東海医学検査研究所 | 上皮細胞間接着増強剤およびこれを用いたアレルギー改善、治療または予防剤 |
JP2012197979A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Shin Ootsuka Kk | ワークの乾燥装置およびワークの洗浄乾燥装置 |
CN114101187A (zh) * | 2021-12-20 | 2022-03-01 | 马宏杰 | 眼科医疗器具清洁灭菌系统 |
CN114101187B (zh) * | 2021-12-20 | 2023-01-10 | 马宏杰 | 眼科医疗器具清洁灭菌系统 |
CN115228816A (zh) * | 2022-07-29 | 2022-10-25 | 重庆新申世纪新材料科技有限公司 | 一种高纯粉体材料的快速清洗装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4830851B2 (ja) | 2011-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5698038A (en) | Method for wafer carrier cleaning | |
KR101467974B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 세척 방법 및 장치 | |
KR102328464B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
JP4830851B2 (ja) | 排水装置および当該排水装置を用いた洗浄装置 | |
JP2006310456A (ja) | パーティクル除去方法および基板処理装置 | |
JP2009239061A (ja) | 基板処理装置 | |
TWI592201B (zh) | Degassing device, coating device and degassing method | |
JP2010045057A (ja) | 液中ウェハ単離方法及び液中ウェハ単離装置 | |
JP4749173B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US20050039776A1 (en) | Apparatus and method for cleaning semiconductor substrates | |
JP2006179765A (ja) | 基板処理装置およびパーティクル除去方法 | |
JP6329342B2 (ja) | 洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP6228800B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007235032A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4954795B2 (ja) | 基板の保持装置及び基板の処理方法 | |
JP2010094639A (ja) | 被洗浄物の洗浄方法およびその洗浄装置 | |
JP2003045843A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR100598914B1 (ko) | 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 | |
KR101933081B1 (ko) | 기판처리장치 및 이를 가지는 기판처리설비, 그리고 기판처리방법 | |
JP2006255607A (ja) | 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置 | |
JP2016046268A (ja) | 基板処理装置の排液方法及び基板処理装置 | |
JP4036429B2 (ja) | 基板処理チャンバ、基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6751421B2 (ja) | ウェーハ洗浄装置及びそれを用いたウェーハ洗浄装置のクリーニング方法 | |
KR100673391B1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
JP2018167202A (ja) | 冷却塔ピットからのスラッジ排出方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090622 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110823 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110905 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |