JP2008156727A - 表面処理銅箔 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】銅箔の少なくとも一方の面に、ニッケルまたはニッケル合金からなる第1層が形成され、該第1層上にモリブデンからなる第2層が形成されていることを特徴とする表面処理である。
また、銅箔の少なくとも一方の面に、ニッケルまたはニッケル合金からなる第1層が形成され、該第1層上にモリブデン合金からなる第2層が形成されていることを特徴とする表面処理である。
【選択図】なし
Description
また、プリント配線板の用途が拡大するに伴いプリント配線板が高温下で用いられる場合があり、プリント配線板が長時間加熱されると、プリント配線板において回路部分の銅が基板樹脂に対して触媒として作用し、該基板樹脂が銅箔との接合面で分解して銅箔−基板間の剥離強度が劣化する現象が起こる。
基板に形成する回路のファインパターン化から考慮すると銅箔の厚さは薄い方が良く、情報量を多く短時間で流すためには、高周波特性が良い厚い方が好まれ、銅箔の用途に応じて箔厚は変わる。
本発明の銅箔厚さは、5〜35μmが望ましい。また、未処理銅箔の樹脂と密着させる側の表面粗さは、Rz:0.1~1.5μmが好ましい。粗さRzが1.5μmより大きい箔はファインパターン化に不向きであり、また貼り付けた樹脂の表面を粗くするため、視認性を悪くするためである。
銅箔表面の粗さについては、表面のうねりなどを考慮する必要があり、Raの値は0.3μm以下が好ましい。Rzが1.5μmであっても、Raが0.3μm以上であると上記同様の不具合を招く恐れがあるためである。
なお、上記Rz、RaはJISに基づく測定法で測定した数値である。
ニッケル合金を構成するニッケル以外の金属としては、リン、コバルトが好ましく、その含有量はニッケルに対し、0.1%〜40%が好ましい。ニッケルに含有させる金属量が多いとエッチング性は向上するが、本発明の目的である耐熱性・耐薬品性を悪くするため、上記範囲にて合金を形成することが適している。後述するが(比較例1参照)、銅箔表面に上記ニッケルまたはニッケル合金からなる第1層を形成した表面処理銅箔をサンプルとし、これにポリイミドフィルムを貼り付け、大気中で150℃、168時間加熱したサンプルのピール強度の劣化率は、初期ピールと比較し40%も低下する。
第1層のニッケルまたはニッケル合金上に付着させる第2層としてのモリブデン合金としては、モリブデン金属の含有比率が3〜75%の範囲であることが好ましく、20〜60%の範囲が更に好ましい。
第1層がニッケルであり、その上に形成する第2層がモリブデンの場合には、ニッケルの付着量は0.05〜0.3mg/dm2が好ましい。
第1層がニッケル合金であり第2層がモリブデンである場合には、ニッケル付着量は0.1〜1.0mg/dm2 が好ましく、更に、エッチング時の台形化またはエッチングのくわれを抑えるためには、ニッケル及びモリブデン金属以外の金属量が、ニッケル及びモリブデンの全体量の40%以下が好ましい。
第1層がニッケル合金であり、第2層がモリブデン合金の場合、上記同様ニッケル付着量は0.1〜1.0mg/dm2が好ましく、更に、エッチング時の台形化またはエッチングのくわれを抑えるためには、ニッケル及びモリブデン金属以外の金属量が、ニッケル及びモリブデンの全体量の50%以下が好ましい。
表面処理層(第1層、第2層)をめっきで形成する場合、即ち、ニッケル単体またはニッケル合金、モリブデン単体またはモリブデン合金を銅箔上にめっきする場合は、通常の浴(市販浴)を使用することができる。
亜鉛皮膜とクロメート処理の場合は、主として、樹脂基板と銅箔をプレスする時の銅箔の基板と接合していない面の加熱変色を防ぐ目的で施される。また一方で、銅箔−樹脂基板間における加熱時のビール強度低下を防ぐ役割も果たす。しかし、必要以上に亜鉛皮膜を厚くすると耐塩酸性が悪くなるので注意が必要である。
(条件1)ニッケルめっきの条件
NiSO4・6H2O 10〜500g/l
H3BO3 1〜50g/l
電流密度 1〜50A/dm2
浴温 10〜70℃
NiSO4・6H2O 10〜500g/l
CoSO4・7H2O 5〜100g/l
温度 10〜60℃
電流密度 1〜20A/dm2
時間 1〜60秒
NiSO4・6H2O 10〜500g/l
NaPH2O2・H2O 0.1〜30g/l
温度 10〜60℃
電流密度 1〜20A/dm2
時間 1〜60秒
(条件4)モリブデンめっき条件
Na2MoO4・2H2O 1〜50g/l
H3PO4 5〜40g/l
PH 1〜3
温度 60℃
時間 0〜120秒
電流密度 0.05〜2A/dm2
Na2MoO4・2H2O 1〜200g/l
CoSO4・7H2O 1〜100g/l
クエン酸3ナトリム2水和物 30〜300g/l
電流密度 1〜50A/dm2
浴温 10〜70℃
Na2MoO4・2H2O 1〜50g/l
無水クロム酸 1〜50g/l
クエン酸3ナトリム2水和物 30〜200g/l
電流密度 1〜50A/dm2
浴温 10〜70℃
<電解銅箔>
銅箔: 電解銅箔(結晶;粒状晶)
箔厚: 12μm
表面処理を施す面:M面((電解銅箔製造時、ドラムに密着している面(S面)と反対側の面))
表面処理を施す面の粗さ:Rzが0.7μm、Raが0.18μmである。
電解銅箔のM面に、条件1の条件範囲内にて8秒めっきし、ニッケルを成膜し(第1層)、その上に条件4の条件範囲内にて10秒めっきし、モリブデンを付着(第2層)させ、その後防錆金属Zn・Crを付着させ、シラン処理を行った。
銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に示す。
電解銅箔のM面に、条件2の条件範囲内にて15秒めっきしてニッケル−コバルト層を製膜し、その上に条件5の条件範囲内にて8秒めっきし、モリブデン−コバルト合金を付着させ、その後防錆金属Zn・Crを付着させ、シラン処理を行った。
銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に示す。このときのニッケル−コバルトとモリブデン−コバルトの総金属量に対しコバルトは、23%であった。
電解銅箔のM面に、条件3の条件範囲内にて、12秒めっきして燐を含有するニッケル層を成膜し、その上に、条件4の条件範囲内にて14秒めっきしてモリブデン層を成膜し、その上に防錆金属Zn・Crを付着させ、シラン処理を行った。
銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に示す。このときリンを含有するニッケル金属とモリブデン金属の総金属量に対しリンは、4%であった。
電解銅箔のM面に、条件3の条件範囲内にて15秒めっきしてリンを含有するニッケル層を成膜し、その上に、条件5の条件範囲内にて20秒めっきしてモリブデン−コバルト層を成膜し、その上に防錆金属Zn・Crを付着させ、シラン処理を行った。
銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に示す。このときニッケル−リンとモリブデン−コバルト金属の総金属量に対しリンとコバルトの合計量は、25%であった。
電解銅箔のM面に、条件1の条件範囲内にて10秒めっきしてニッケル層を成膜し、その上に、条件6の条件範囲内にて8秒めっきしてモリブデン−クロム層を成膜し、その上に防錆金属Zn・Crを付着させ、シラン処理を行った。
銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に示す。このときニッケル金属とモリブデン−クロムの総金属量に対しクロムは、6%であった。
ニッケルめっき条件
NiSO4・6H2O 60〜180g/l
NaCI 15g/l
温度 20℃
電流密度 1〜5A/dm2
時間 1〜15秒
の条件下にて電解銅箔のM面にニッケル層を成膜し、その上に亜鉛・クロム、シランの順番にて表面処理を行った。銅箔表面に析出した金属の付着量を表1に併記する。
ニッケル−Pめっき条件
燐を含有するニッケルめっき条件
NiSO4・6H2O 10〜500g/l
H3BO3 1〜50g/l
NaPH2O2・H2O 0.1〜30g/l
電流密度 3A/dm2
浴温 30℃
時間 4秒
の条件下にて電解銅箔のM面にニッケル−りん合金層を成膜し、その上に、亜鉛・クロム、シランの順番にて表面処理を行った。銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に併記する。
ニッケル−コバルトめっき条件
NiSO4・6H2O 60〜180g/l
CoSO4・7H2O 5〜35g/l
NaCL 15g/l
温度 20℃
電流密度 1〜5A/dm2
時間 1〜15秒
の条件下にて電解銅箔のM面にニッケル−コバルト合金層を成膜し、その上に、亜鉛・クロム、シランの順番にて表面処理を行った。銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に併記する。
電解銅箔のM面に、条件3の条件範囲内にて10秒めっきしてリンを含有するニッケル層を成膜し、その上に、条件5の条件範囲内にて40秒めっきしてモリブデン−コバルト層を成膜し、その上に防錆金属Zn・Crを付着させ、シラン処理を行った。
銅箔表面に析出した各金属の付着量を表1に併記する。このときニッケル−リンとモリブデン−コバルト金属の総金属量に対し、モリブデンが93%以上であった。
各実施例、各比較例、参考例で作成した表面処理銅箔にポリイミド樹脂を塗り(厚さ50μm)、温度300℃、窒素雰囲気中で硬化させ、評価用銅貼フィルムを作成し評価用サンプルとした。
各評価用サンプルをJISC6511に規定する方法に準拠して、測定試料幅10mmのピール強度を測定した。測定結果を表2に示す。
各評価用サンプルを温度150℃、168時間、大気中に放置後、JISC6511に規定する方法に準拠して、測定試料幅10mmのピール強度を測定した。測定結果を表2に示す。
エッチング溶液に塩銅を使用し、各評価用サンプルから銅を溶解し、フィルム上に金属等がのっていない状態を、目視で確認できるまでに要した時間を測定した。測定結果を表2に示す。
評価用サンプルに1mm幅のテープを貼り1mmの回路を形成後、50g/l硫酸に5分間浸漬させフィルムと銅層の接合部に侵食等が起きていないかどうかを、顕微鏡を使用して観察した。
また、断面形状の確認は、断面観察の結果を、エッチング前の理論面積を100とした時の割合で求め、確認した。
本実施例に比較して、ニッケルからなる第1層のみである比較例1では劣化率が40%と大きく、耐酸性が充分ではなかった。
ニッケル−リンからなる第1層のみの比較例2では、劣化率が37%と大きく、耐酸性が充分ではなく、エッチング後の面積割合も90%以下であった。
ニッケル−コバルトからなる第1層のみの比較例3では、劣化率が40%と大きく、耐酸性がなく、エッチング後の面積割合も90%以下であった。
モリブデンはエッチングし難い金属である。したがって、モリブデンを合金とすることでエッチングのし易さを調整することが必要となる場合がある。表2に示す参考例1ではピール強度、劣化率については満足している。しかし、エッチング特性は満足できるものではない。したがって、エッチング特性が無視でき、ピール強度のみを要求される用途にはモリブデンを多く含有する合金を用い、エッチング特性を重視する用途については実施例1に示すようにモリブデンの量をピール強度が最低限満足できる範囲に抑えてエッチング特性を上げるようにモリブデンの含有量を調整する。
このように、本発明では、モリブデン単体で金属を付着させる時には、実施例1のようにピール強度、劣化率を満足する最低限の付着量としてエッチング性に悪影響を及ばさないようにしている。一方、エッチング特性を無視できる場合にはモリブデンの割合を多くしてピール強度、劣化率を重視した配合とする。このように、モリブデン合金を付着させた場合でも、付着量が多いとエッチング時間がかかるようになるため、その配合量を適宜調整し、ピール強度、エッチング特性の両面で満足する配合量を選択する。
したがって、本発明の表面処理銅箔は、プリント配線板、COF及びFPC用銅箔として好適に使用することができる。
Claims (8)
- 銅箔の少なくとも一方の面に、ニッケルまたはニッケル合金からなる第1層が形成され、該第1層上にモリブデンからなる第2層が形成されていることを特徴とする表面処理銅箔。
- 銅箔の少なくとも一方の面に、ニッケルまたはニッケル合金からなる第1層が形成され、該第1層上にモリブデン合金からなる第2層が形成されていることを特徴とする表面処理銅箔。
- 銅箔の少なくとも一方の面に、ニッケル合金からなる第1層が形成され、該第1層上にモリブデン合金からなる第2層が形成されている表面処理であって、前記ニッケル合金及び前記モリブデン合金に含まれる金属ニッケルとモリブデン以外の第三金属が3%以上50%以下であることを特徴とする表面処理銅箔。
- 前記第2層のモリブデン量が、0.002〜0.5mg/dm2であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の表面処理銅箔。
- 前記第2層を形成するモリブデン合金に含有されるモリブデン量は、表面金属付着量の3〜75%であること特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の表面処理銅箔。
- 前記第2層は少なくともモリブデンとコバルトを含有するモリブデン合金で形成されていることを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載の表面処理銅箔。
- 前記銅箔が電解銅箔であり、該電解銅箔のM面(電解製膜時にドラムに接していない方の面)に前記第1層と第2層を形成した表面処理銅箔であり、該電解銅箔のM面の表面粗さが、Rz:1.5μm以下であり、且つRa:0.3μm以下であり、箔厚が5〜35μmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の表面処理銅箔。
- 前記銅箔の断面結晶が粒状晶であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の表面処理銅箔。
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