JP2008141056A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ラッチアップ現象の発生を抑制すること。
【解決手段】 IGBT10は、p型のボディ領域24と、そのボディ領域24を取り囲んでいるn型のドリフト領域23と、半導体基板20の表面においてボディ領域24とドリフト領域23の接合面24aを超えて少なくとも一方方向に伸びているトレンチゲート電極30と、トレンチゲート電極30の側面に接しているn+型のエミッタ領域26と、ボディ領域24内に選択的に形成されているp+型のボディコンタクト領域25を備えている。トレンチゲート電極30は、半導体基板20の表面からボディ領域24を貫通してドリフト領域23にまで達している。IGBT10では、前記一方方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離が、縦方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離よりも短いことを特徴としている。
【選択図】 図1
【解決手段】 IGBT10は、p型のボディ領域24と、そのボディ領域24を取り囲んでいるn型のドリフト領域23と、半導体基板20の表面においてボディ領域24とドリフト領域23の接合面24aを超えて少なくとも一方方向に伸びているトレンチゲート電極30と、トレンチゲート電極30の側面に接しているn+型のエミッタ領域26と、ボディ領域24内に選択的に形成されているp+型のボディコンタクト領域25を備えている。トレンチゲート電極30は、半導体基板20の表面からボディ領域24を貫通してドリフト領域23にまで達している。IGBT10では、前記一方方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離が、縦方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離よりも短いことを特徴としている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、バイポーラで動作する半導体装置に関する。本発明は、特に、トレンチゲート電極を備えている半導体装置に関する。
大電流を扱うために、バイポーラで動作する半導体装置の開発が進められている。その一例に、トレンチゲート電極を備えているIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)が知られている。図14に、トレンチゲート電極を備えているIGBT300の要部斜視図を模式的に示す。
IGBT300は、半導体基板320の裏面部分に形成されているp+型のコレクタ領域321と、そのコレクタ領域321上に形成されているn+型のバッファ領域322と、そのバッファ領域322上に形成されているn型のドリフト領域323を備えている。IGBT300はさらに、半導体基板320の表面部分の全体に亘って形成されているp型のボディ領域324と、ゲート絶縁膜332で被覆されている導電体334を有するトレンチゲート電極330を備えている。トレンチゲート電極330は、半導体基板320の表面において一方方向に伸びており、半導体基板320の表面からボディ領域324を貫通してドリフト領域323まで縦方向に伸びている。IGBT300はさらに、ボディ領域324によってドリフト領域323から隔てられているとともにトレンチゲート電極330の側面に接しているn+型のエミッタ領域326と、ボディ領域324内に選択的に形成されているp+型のボディコンタクト領域325を備えている。
この種のIGBT300は、下記の特許文献に記載されている。
IGBT300は、半導体基板320の裏面部分に形成されているp+型のコレクタ領域321と、そのコレクタ領域321上に形成されているn+型のバッファ領域322と、そのバッファ領域322上に形成されているn型のドリフト領域323を備えている。IGBT300はさらに、半導体基板320の表面部分の全体に亘って形成されているp型のボディ領域324と、ゲート絶縁膜332で被覆されている導電体334を有するトレンチゲート電極330を備えている。トレンチゲート電極330は、半導体基板320の表面において一方方向に伸びており、半導体基板320の表面からボディ領域324を貫通してドリフト領域323まで縦方向に伸びている。IGBT300はさらに、ボディ領域324によってドリフト領域323から隔てられているとともにトレンチゲート電極330の側面に接しているn+型のエミッタ領域326と、ボディ領域324内に選択的に形成されているp+型のボディコンタクト領域325を備えている。
この種のIGBT300は、下記の特許文献に記載されている。
IGBT300がオンすると、トレンチゲート電極330の側面に形成される反転層を介してエミッタ領域326からドリフト領域323に電子が注入されるとともに、コレクタ領域321からドリフト領域323にホールが注入される。この結果、ドリフト領域323において伝導度変調が活発化し、IGBT300のオン電圧は低く抑えられる。
ドリフト領域323に注入されたホールは、ボディ領域324を介してボディコンタクト領域325に排出される。IGBT300では、ボディコンタクト領域325とドリフト領域323が縦方向に沿って配置されているので、ドリフト領域323に蓄積したホールは、ボディコンタクト領域325に向けてボディ領域324内を縦方向に移動する。さらに、図14に示すように、多くのホールは、電子に引き寄せられることによってトレンチゲート電極330の側面に沿って縦方向に移動する。即ち、IGBT300では、オンしているときにボディ領域324内を移動するホールの経路を観察すると、ボディコンタクト領域325とドリフト領域323の位置関係に由来する経路が、反転層に存在する電子によって影響されやすく、反転層の近傍をホールが集中して移動することがわかる。また、IGBT300がターンオフした直後では、電子の供給が停止されるものの、多くのホールはトレンチゲート電極330の低い電位に引き寄せられることによってトレンチゲート電極330の側面に沿って縦方向に移動する。即ち、IGBT300では、ターンオフした直後にボディ領域324内を移動するホールの経路を観察しても、ボディコンタクト領域325とドリフト領域323の位置関係に由来する経路がトレンチゲート電極330の電位に影響されやすく、トレンチゲート電極330の近傍をホールが集中して移動することがわかる。したがって、IGBT300では、ボディ領域324内を移動するホールが過度に集中しやすい。ホールが過度に集中すると、ホールの一部がエミッタ領域326に流入する現象が顕著に増加してしまう。エミッタ領域326に流入するホールが多いと、ドリフト領域323とボディ領域324とエミッタ領域326で構成される寄生のnpnトランジスタが動作し、ラッチアップ現象が発生する。これにより、IGBT300は、制御不能になり、場合によっては破壊に至ることがある。
本発明は、バイポーラ動作する半導体装置において、ラッチアップ現象が抑制された半導体装置を提供することを目的とする。
本発明は、バイポーラ動作する半導体装置において、ラッチアップ現象が抑制された半導体装置を提供することを目的とする。
本明細書で開示される技術は、ボディコンタクト領域に排出されるキャリアの移動経路をボディ領域内において分散させることによって、排出キャリアがボディ領域内で過度に集中するのを抑制する。これにより、排出キャリアがエミッタ領域に排出されるのを抑制し、排出キャリアがボディコンタクト領域に円滑に排出されることを実現する。本明細書で開示される技術によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
本明細書で開示される技術は、少なくとも2種類の半導体装置を提供することができる。いずれの半導体装置も、ボディ領域内を移動する排出キャリアの移動経路を分散させるという共通した作用効果を有することができ、先行技術では得られない貢献を提供することができる。
本明細書で開示される技術は、少なくとも2種類の半導体装置を提供することができる。いずれの半導体装置も、ボディ領域内を移動する排出キャリアの移動経路を分散させるという共通した作用効果を有することができ、先行技術では得られない貢献を提供することができる。
本明細書で開示される技術は、バイポーラで動作する半導体装置に具現化することができる。半導体装置は、半導体基板の表面部分に形成されているとともに第1導電型の不純物を含むボディ領域を備えている。半導体装置はさらに、ボディ領域を取り囲むとともに半導体基板の表面に露出する範囲を備えており、第2導電型の不純物を含むドリフト領域を備えている。半導体装置はさらに、ゲート絶縁膜で被覆されている導電体を有するトレンチゲート電極を備えている。トレンチゲート電極は、半導体基板の表面においてボディ領域とドリフト領域の接合面を超えて少なくとも一方方向に伸びているとともに、半導体基板の表面から深部に向けて縦方向にも伸びている。半導体装置はさらに、第2導電型の不純物を含むエミッタ領域と、第1導電型の不純物を含むボディコンタクト領域を備えている。エミッタ領域は、ボディ領域によってドリフト領域から隔てられているとともに、トレンチゲート電極の側面に接している。ボディコンタクト領域は、ボディ領域内に選択的に形成されている。ボディ領域の不純物濃度よりもボディコンタクト領域の不純物濃度が濃い。
本明細書で開示される第1種類の半導体装置は、トレンチゲート電極が半導体基板の表面からボディ領域を貫通してドリフト領域に達していることを特徴としている。さらに、第1種類の半導体装置では、前記一方方向におけるエミッタ領域とドリフト領域の間の距離が、縦方向におけるエミッタ領域とドリフト領域の間の距離よりも短いことを特徴としている。
上記形態の半導体装置によると、エミッタ領域とドリフト領域の間の距離が、前記一方方向において短く形成されているので、エミッタ領域とドリフト領域の間のチャネルはその一方方向、即ち略水平方向に形成される。このため、半導体装置がオンしているときは、排出キャリアのうちの一部が、各種領域の位置関係に由来してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域内を移動することができる。また、半導体装置がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極に引き寄せられた排出キャリアの一部は、各種領域の位置関係に起因してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、エミッタ領域とドリフト領域の間の距離がより短い水平方向にボディ領域内を移動することができる。この結果、上記形態の半導体装置は、ボディ領域内を移動する排出キャリアの移動経路を分散させることができ、排出キャリアがボディ領域内の局所に過度に集中するのを抑制することができる。上記形態の半導体装置によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
上記形態の半導体装置によると、エミッタ領域とドリフト領域の間の距離が、前記一方方向において短く形成されているので、エミッタ領域とドリフト領域の間のチャネルはその一方方向、即ち略水平方向に形成される。このため、半導体装置がオンしているときは、排出キャリアのうちの一部が、各種領域の位置関係に由来してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域内を移動することができる。また、半導体装置がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極に引き寄せられた排出キャリアの一部は、各種領域の位置関係に起因してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、エミッタ領域とドリフト領域の間の距離がより短い水平方向にボディ領域内を移動することができる。この結果、上記形態の半導体装置は、ボディ領域内を移動する排出キャリアの移動経路を分散させることができ、排出キャリアがボディ領域内の局所に過度に集中するのを抑制することができる。上記形態の半導体装置によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
本明細書で開示される第2種類の半導体装置は、トレンチゲート電極がボディ領域よりも浅く形成されていることを特徴としている。
上記形態の半導体装置によると、トレンチゲート電極が縦方向にボディ領域を貫通していないので、縦方向にチャネルを形成することができない。このため、エミッタ領域とドリフト領域の間のチャネルは、略水平方向に形成される。この結果、半導体装置がオンしているときは、排出キャリアのうちの一部が、各種領域の位置関係に起因してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域内を移動することができる。また、半導体装置がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極に引き寄せられた排出キャリアの一部は、各種領域の位置関係に起因してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、水平方向にボディ領域内を移動することができる。この結果、上記形態の半導体装置は、ボディ領域内を移動する排出キャリアの移動経路を分散させることができ、排出キャリアがボディ領域内の局所に過度に集中するのを抑制することができる。上記形態の半導体装置によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
上記形態の半導体装置によると、トレンチゲート電極が縦方向にボディ領域を貫通していないので、縦方向にチャネルを形成することができない。このため、エミッタ領域とドリフト領域の間のチャネルは、略水平方向に形成される。この結果、半導体装置がオンしているときは、排出キャリアのうちの一部が、各種領域の位置関係に起因してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域内を移動することができる。また、半導体装置がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極に引き寄せられた排出キャリアの一部は、各種領域の位置関係に起因してボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアとは別に、水平方向にボディ領域内を移動することができる。この結果、上記形態の半導体装置は、ボディ領域内を移動する排出キャリアの移動経路を分散させることができ、排出キャリアがボディ領域内の局所に過度に集中するのを抑制することができる。上記形態の半導体装置によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
本明細書で開示される技術によると、ボディコンタクト領域が前記一方方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間に形成されていることが好ましい。
上記形態の半導体装置によると、チャネル又はトレンチゲート電極に引き寄せられて水平方向に移動する排出キャリアが、ボディコンタクト領域に流入し易くなり、ラッチアップ現象の発生をさらに抑制することができる。
上記形態の半導体装置によると、チャネル又はトレンチゲート電極に引き寄せられて水平方向に移動する排出キャリアが、ボディコンタクト領域に流入し易くなり、ラッチアップ現象の発生をさらに抑制することができる。
ボディコンタクト領域が前記一方方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間に形成されている場合は、ボディコンタクト領域がエミッタ領域よりも浅く形成されていることが好ましい。
上記形態の半導体装置によると、ボディコンタクト領域よりも深い位置のエミッタ領域の側方には、ボディコンタクト領域が存在していない。したがって、上記形態の半導体装置によると、エミッタ領域とドリフト領域の間のチャネルを略水平方向に良好に形成することができる。
上記形態の半導体装置によると、ボディコンタクト領域よりも深い位置のエミッタ領域の側方には、ボディコンタクト領域が存在していない。したがって、上記形態の半導体装置によると、エミッタ領域とドリフト領域の間のチャネルを略水平方向に良好に形成することができる。
本明細書で開示される技術によると、ボディコンタクト領域がトレンチゲート電極に接していないことが好ましい。
上記形態の半導体装置によると、エミッタ領域とドリフト領域の間の水平方向には、不純物濃度が薄いボディ領域が配置される。したがって、上記形態の半導体装置によると、低い抵抗のチャネルを形成することができ、チャネル抵抗を低減することができる。
上記形態の半導体装置によると、エミッタ領域とドリフト領域の間の水平方向には、不純物濃度が薄いボディ領域が配置される。したがって、上記形態の半導体装置によると、低い抵抗のチャネルを形成することができ、チャネル抵抗を低減することができる。
ボディコンタクト領域がトレンチゲート電極に接していない場合は、そのボディコンタクト領域が、縦方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間に形成されていることが好ましい。
ボディコンタクト領域がトレンチゲート電極に接していなければ、エミッタ領域とドリフト領域の間に略水平方向にチャネルを形成することができる。したがって、縦方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間にボディコンタクト領域が形成されていても、略水平方向のチャネルに支障を与えない。その上で、縦方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間にボディコンタクト領域が形成されていると、ボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアをそのボディコンタクト領域に円滑に排出することができる。上記形態の半導体装置によると、ラッチアップ現象の発生をさらに抑制することができる。
ボディコンタクト領域がトレンチゲート電極に接していなければ、エミッタ領域とドリフト領域の間に略水平方向にチャネルを形成することができる。したがって、縦方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間にボディコンタクト領域が形成されていても、略水平方向のチャネルに支障を与えない。その上で、縦方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間にボディコンタクト領域が形成されていると、ボディ領域内を縦方向に移動する排出キャリアをそのボディコンタクト領域に円滑に排出することができる。上記形態の半導体装置によると、ラッチアップ現象の発生をさらに抑制することができる。
本明細書で開示される技術によると、トレンチゲート電極が、前記一方方向に沿って複数のボディ領域を横断して伸びていることが好ましい。
この場合、ドリフト領域が、隣接するボディ領域間に不純物濃度が残部より濃く調整されている高濃度ドリフト領域を備えていることが好ましい。
上記位置に高濃度ドリフト領域が形成されていると、JFET効果を抑制することができ、オン抵抗を低減することができる。
この場合、ドリフト領域が、隣接するボディ領域間に不純物濃度が残部より濃く調整されている高濃度ドリフト領域を備えていることが好ましい。
上記位置に高濃度ドリフト領域が形成されていると、JFET効果を抑制することができ、オン抵抗を低減することができる。
本明細書で開示される技術によると、排出キャリアがボディ領域内を移動する経路を分散させることができ、排出キャリアがボディ領域内で過度に集中するのを抑制することができ、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
本明細書で開示される好ましい形態を列記する。
(第1形態)
半導体装置は、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)であるのが好ましい。
(第2形態)
トレンチゲート電極は、平面視したときに、一方方向に長く伸びているのが好ましい。
(第3形態)
ボディ領域は、半導体基板の表面において、トレンチゲート電極の長手方向に沿って分散して形成されている。換言すると、トレンチゲート電極は、半導体基板の表面において、複数のボディ領域を貫通して伸びている。
(第1形態)
半導体装置は、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)であるのが好ましい。
(第2形態)
トレンチゲート電極は、平面視したときに、一方方向に長く伸びているのが好ましい。
(第3形態)
ボディ領域は、半導体基板の表面において、トレンチゲート電極の長手方向に沿って分散して形成されている。換言すると、トレンチゲート電極は、半導体基板の表面において、複数のボディ領域を貫通して伸びている。
以下、図面を参照して実施例を説明する。以下の実施例では、半導体材料にシリコンを用いた例を説明するが、シリコンに代えて、窒化ガリウム系、ガリウムヒ素系、炭化シリコン系などの半導体材料を用いてもよい。
(第1実施例)
図1に、PT型(パンチスルー型)のIGBT10の要部斜視図を模式的に示す。図2に、図1のII-II線に対応した縦断面図を示す。図3に、図1のIII-III線に対応した縦断面図を示す。これらの図面に示される形態は、IGBT10の基本的な構造を示すものであり、実際にはこれらの図面に示される基本的な形態が繰返すことによって、一つのIGBT10を構成している。
図1に、PT型(パンチスルー型)のIGBT10の要部斜視図を模式的に示す。図2に、図1のII-II線に対応した縦断面図を示す。図3に、図1のIII-III線に対応した縦断面図を示す。これらの図面に示される形態は、IGBT10の基本的な構造を示すものであり、実際にはこれらの図面に示される基本的な形態が繰返すことによって、一つのIGBT10を構成している。
IGBT10は、半導体基板20を備えており、その半導体基板20に各種の半導体領域が作り込まれている。IGBT10は、半導体基板20の裏面部分に形成されているp+型のコレクタ領域21と、そのコレクタ領域21上に形成されているn+型のバッファ領域22と、そのバッファ領域22上に形成されているn型のドリフト領域23を備えている。コレクタ領域21は、図示しないコレクタ電極に電気的に接続している。バッファ領域22は、コレクタ領域21とドリフト領域23の間に形成されている。IGBT10では、バッファ領域22を除去し、NPN型(ノンパンチスルー型)としてもよい。
コレクタ領域21の不純物にはボロンが用いられており、バッファ領域22及びドリフト領域23の不純物にはリンが用いられている。コレクタ領域21及びバッファ領域22は、イオン注入技術を利用して形成することができる。
コレクタ領域21の不純物にはボロンが用いられており、バッファ領域22及びドリフト領域23の不純物にはリンが用いられている。コレクタ領域21及びバッファ領域22は、イオン注入技術を利用して形成することができる。
IGBT10はさらに、図1及び図2に示すように、半導体基板20の表面部分に分散して形成されているp型のボディ領域24を備えている。ドリフト領域23は、ボディ領域24を取り囲んで半導体基板20の表面部分に形成されている。ドリフト領域23は、ボディ領域24の周囲の半導体基板20の表面に露出する範囲を備えており、隣接するボディ領域24の間を隔てている。
ボディ領域24の不純物には、ボロンが用いられている。ボディ領域24は、イオン注入技術を利用して形成することができる。
ボディ領域24の不純物には、ボロンが用いられている。ボディ領域24は、イオン注入技術を利用して形成することができる。
IGBT10はさらに、ゲート絶縁膜32で被覆されている導電体34を有するトレンチゲート電極30を備えている。トレンチゲート電極30は、半導体基板20の表面においてボディ領域24とドリフト領域23の接合面24aを超えて一方方向に伸びている。トレンチゲート電極30はさらに、前記一方方向において複数のボディ領域24を横断して伸びている。換言すると、複数のボディ領域24は、トレンチゲート電極30の長手方向に沿って分散して配置されている。図3に示すように、トレンチゲート電極30は、半導体基板20の表面からボディ領域24を貫通してドリフト領域23にまで達している。
ゲート絶縁膜32には酸化シリコンが用いられており、導電体34には不純物が導入されたポリシリコンが用いられている。
ゲート絶縁膜32には酸化シリコンが用いられており、導電体34には不純物が導入されたポリシリコンが用いられている。
IGBT10はさらに、ボディ領域24内の半導体基板20の表面部分に選択的に形成されているn+型のエミッタ領域26とp+型のボディコンタクト領域25を備えている。エミッタ領域26は、ボディ領域24によってドリフト領域23から隔てられているとともにトレンチゲート電極30の側面に接している。ボディコンタクト領域25は、エミッタ領域26に接しており、トレンチゲート電極30の側面に接していない。エミッタ領域26とボディコンタクト領域25は、図示しないエミッタ電極に電気的に接続している。
エミッタ領域26の不純物にはリンが用いられており、ボディコンタクト領域25の不純物にはボロンが用いられている。エミッタ領域26とボディコンタクト領域25は、イオン注入技術を利用して形成することができる。
エミッタ領域26の不純物にはリンが用いられており、ボディコンタクト領域25の不純物にはボロンが用いられている。エミッタ領域26とボディコンタクト領域25は、イオン注入技術を利用して形成することができる。
図2に示すように、IGBT10では、トレンチゲート電極30の長手方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離Lhが、縦方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離Lvよりも短いことを特徴としている。
次に、IGBT10の動作を説明する。
コレクタ領域21に正の電圧が印加され、エミッタ領域26及びボディコンタクト領域25に接地電圧が印加され、トレンチゲート電極30の導電体34に正のオン電圧が印加されると、IGBT10はオン状態になる。このとき、図2に示すように、IGBT10では、長手方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離Lhが、縦方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離Lvよりも短いので、エミッタ領域26とドリフト領域23の間のチャネルはその長手方向、即ち略水平方向に形成される。このため、エミッタ領域26から注入された電子は、ボディ領域24内を略水平方向に移動し、隣接するボディ領域24間のドリフト領域23に達した後に、ドリフト領域23内を略縦方向に移動する。
一方、ホールは、コレクタ領域21からドリフト領域23に向けて注入される。この結果、ドリフト領域23には、多量の電子とホールが充満し、ドリフト領域23において伝導度変調が活発化し、IGBT10のオン電圧は低く抑えられる。
コレクタ領域21に正の電圧が印加され、エミッタ領域26及びボディコンタクト領域25に接地電圧が印加され、トレンチゲート電極30の導電体34に正のオン電圧が印加されると、IGBT10はオン状態になる。このとき、図2に示すように、IGBT10では、長手方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離Lhが、縦方向におけるエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離Lvよりも短いので、エミッタ領域26とドリフト領域23の間のチャネルはその長手方向、即ち略水平方向に形成される。このため、エミッタ領域26から注入された電子は、ボディ領域24内を略水平方向に移動し、隣接するボディ領域24間のドリフト領域23に達した後に、ドリフト領域23内を略縦方向に移動する。
一方、ホールは、コレクタ領域21からドリフト領域23に向けて注入される。この結果、ドリフト領域23には、多量の電子とホールが充満し、ドリフト領域23において伝導度変調が活発化し、IGBT10のオン電圧は低く抑えられる。
ドリフト領域23に注入されたホールは、ボディ領域24を介してボディコンタクト領域25に排出される。半導体基板20の裏面部分に位置するコレクタ領域21から注入されたホールは、ドリフト領域23を縦方向に移動した後に、ボディ領域24内をボディコンタクト領域25に向けて移動する。
図2に示すように、IGBT10では、チャネルが略水平方向に形成されている。したがって、ホールの一部は、そのチャネルに引き寄せられてボディ領域24の表面部分を水平方向に移動する。即ち、IGBT10がオンしているときは、ホールのうちの一部が、ボディコンタクト領域25とドリフト領域23の位置関係に由来してボディ領域24内を縦方向に移動するホールとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域24内を移動することができる。この結果、ホールは、ボディ領域24内を分散して移動することができるので、ボディ領域24内の局所で過度に集中することが抑制される。ホールの過度の集中が抑制されると、ホールがエミッタ領域26に流入する現象も抑制される。これにより、IGBT10によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
図2に示すように、IGBT10では、チャネルが略水平方向に形成されている。したがって、ホールの一部は、そのチャネルに引き寄せられてボディ領域24の表面部分を水平方向に移動する。即ち、IGBT10がオンしているときは、ホールのうちの一部が、ボディコンタクト領域25とドリフト領域23の位置関係に由来してボディ領域24内を縦方向に移動するホールとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域24内を移動することができる。この結果、ホールは、ボディ領域24内を分散して移動することができるので、ボディ領域24内の局所で過度に集中することが抑制される。ホールの過度の集中が抑制されると、ホールがエミッタ領域26に流入する現象も抑制される。これにより、IGBT10によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
また、IGBT10がターンオフすると、エミッタ領域25から電子の供給が停止する。この場合、トレンチゲート電極30にはオフ電圧(典型的には0V)が印加されている。したがって、ドリフト領域23に注入されたホールは、トレンチゲート電極30の電位に引き寄せられて、トレンチゲート電極30の側面に沿ってボディ領域24内を移動する。IGBT10では、トレンチゲート電極30の長手方向に沿ってエミッタ領域26とドリフト領域23の間の距離が短く形成されている。したがって、ホールは、トレンチゲート電極30の側面に沿ってボディ領域24内を縦方向に移動する経路と水平方向に移動する経路に分散される。この結果、IGBT10では、ホールがボディ領域24内で過度に集中するのが抑制され、ホールがエミッタ領域26に流入する現象が抑制される。IGBT10によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
(第2実施例)
図4に、IGBT11の要部斜視図を模式的に示す。図5に、図4のV-V線に対応した縦断面図を示す。図6に、図4のVI-VI線に対応した縦断面図を示す。なお、第1実施例のIGBT10と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
図6に示すように、IGBT11は、トレンチゲート電極30がボディ領域124よりも浅いことを特徴としている。トレンチゲート電極30の底面の一部が、ボディ領域124によって被覆されていることを特徴としている。トレンチゲート電極30がボディ領域124よりも浅い状態を得るためには、第1実施例のIGBT10のボディ領域24を深く形成してもよく、トレンチゲート電極30を浅く形成してもよい。
IGBT11によると、図5に示すように、トレンチゲート電極30が縦方向にボディ領域124を貫通していないので、チャネルは縦方向に形成されない。このため、エミッタ領域26とドリフト領域23の間のチャネルは、略水平方向に形成される。この結果、IGBT11がオンしているときは、ホールのうちの一部が、ボディコンタクト領域25とドリフト領域23の位置関係に由来してボディ領域124内を縦方向に移動するホールとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域124内を移動することができる。また、IGBT11がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極30に引き寄せられたホールの一部は、ボディコンタクト領域25とドリフト領域23の位置関係に由来してボディ領域124内を縦方向に移動するホールとは別に、水平方向にボディ領域124内を移動することができる。この結果、IGBT11は、ボディ領域124内を移動するホールの移動経路を分散させることができ、ホールがボディ領域124内で過度に集中するのを抑制することができる。IGBT11によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
図4に、IGBT11の要部斜視図を模式的に示す。図5に、図4のV-V線に対応した縦断面図を示す。図6に、図4のVI-VI線に対応した縦断面図を示す。なお、第1実施例のIGBT10と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
図6に示すように、IGBT11は、トレンチゲート電極30がボディ領域124よりも浅いことを特徴としている。トレンチゲート電極30の底面の一部が、ボディ領域124によって被覆されていることを特徴としている。トレンチゲート電極30がボディ領域124よりも浅い状態を得るためには、第1実施例のIGBT10のボディ領域24を深く形成してもよく、トレンチゲート電極30を浅く形成してもよい。
IGBT11によると、図5に示すように、トレンチゲート電極30が縦方向にボディ領域124を貫通していないので、チャネルは縦方向に形成されない。このため、エミッタ領域26とドリフト領域23の間のチャネルは、略水平方向に形成される。この結果、IGBT11がオンしているときは、ホールのうちの一部が、ボディコンタクト領域25とドリフト領域23の位置関係に由来してボディ領域124内を縦方向に移動するホールとは別に、チャネルに引き寄せられることによって水平方向にボディ領域124内を移動することができる。また、IGBT11がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極30に引き寄せられたホールの一部は、ボディコンタクト領域25とドリフト領域23の位置関係に由来してボディ領域124内を縦方向に移動するホールとは別に、水平方向にボディ領域124内を移動することができる。この結果、IGBT11は、ボディ領域124内を移動するホールの移動経路を分散させることができ、ホールがボディ領域124内で過度に集中するのを抑制することができる。IGBT11によると、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
(第3実施例)
図7に、IGBT12の要部斜視図を模式的に示す。図8に、図7のVIII-VIII線に対応した縦断面図を示す。図9に、図7のIX-IX線に対応した縦断面図を示す。なお、第1実施例のIGBT10と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
IGBT12は、エミッタ領域126とドリフト領域123の位置関係及び形態に特徴を有している。
エミッタ領域126は、ボディ領域24によってドリフト領域23から隔てられているとともにトレンチゲート電極30の側面に接していることを特徴としている。
ボディコンタクト領域125は、エミッタ領域126に接しているとともに、トレンチゲート電極30の長手方向においてエミッタ領域126とドリフト領域23の間に形成されていることを特徴としている。さらに、ボディコンタクト領域125は、エミッタ領域126よりも浅く形成されていることを特徴としている。
図7に、IGBT12の要部斜視図を模式的に示す。図8に、図7のVIII-VIII線に対応した縦断面図を示す。図9に、図7のIX-IX線に対応した縦断面図を示す。なお、第1実施例のIGBT10と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
IGBT12は、エミッタ領域126とドリフト領域123の位置関係及び形態に特徴を有している。
エミッタ領域126は、ボディ領域24によってドリフト領域23から隔てられているとともにトレンチゲート電極30の側面に接していることを特徴としている。
ボディコンタクト領域125は、エミッタ領域126に接しているとともに、トレンチゲート電極30の長手方向においてエミッタ領域126とドリフト領域23の間に形成されていることを特徴としている。さらに、ボディコンタクト領域125は、エミッタ領域126よりも浅く形成されていることを特徴としている。
IGBT12によると、図8に示すように、ボディコンタクト領域125よりも深い位置のエミッタ領域126の側方には、ボディコンタクト領域125が存在していない。したがって、IGBT12によると、チャネルは、エミッタ領域126とドリフト領域125の間において略水平方向に良好に形成することができる。
IGBT12によると、IGBT12がオンしているときは、略水平方向に形成されているチャネルに引き寄せられたホールが、エミッタ領域126に到達するよりも先にボディコンタクト領域125に円滑に排出することができる。このため、IGBT12によると、ラッチアップ現象の発生が抑制される。
また、IGBT12がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極30に引き寄せられて水平方向に移動するホールが、エミッタ領域126に到達するよりも先にボディコンタクト領域125に円滑に排出されるので、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
なお、第3実施例のIGBT12においても、第2実施例の技術を利用して、トレンチゲート電極30がボディ領域24よりも浅くなるように形成してもよい。第2実施例と同様の作用効果を奏することができる。
また、IGBT12がターンオフした直後においても、トレンチゲート電極30に引き寄せられて水平方向に移動するホールが、エミッタ領域126に到達するよりも先にボディコンタクト領域125に円滑に排出されるので、ラッチアップ現象の発生を抑制することができる。
なお、第3実施例のIGBT12においても、第2実施例の技術を利用して、トレンチゲート電極30がボディ領域24よりも浅くなるように形成してもよい。第2実施例と同様の作用効果を奏することができる。
(第4実施例)
図10に、IGBT13の要部斜視図を模式的に示す。なお、第3実施例のIGBT12と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
IGBT13は、ドリフト領域23が、隣接するボディ領域24間に不純物濃度が残部より濃く調整されている高濃度ドリフト領域23aを備えていることを特徴としている。高濃度ドリフト領域23aは、隣接するボディ領域24とトレンチゲート電極30の側面に接しているとともに、半導体基板20の表面に臨んでいる。
高濃度ドリフト領域23aは、IGBT13がオフしたときに、ボディ領域24とドリフト領域23の接合面から伸展してくる空乏層を抑制する。即ち、隣接するボディ領域24間が空乏層によって閉塞されるのを防止する。高濃度ドリフト領域23aは、所謂JFET効果を抑制することができ、オン抵抗を低減することができる。
なお、第4実施例のIGBT13においても、第2実施例の技術を利用して、トレンチゲート電極30がボディ領域24よりも浅くなるように形成してもよい。第2実施例と同様の作用効果を奏することができる。
図10に、IGBT13の要部斜視図を模式的に示す。なお、第3実施例のIGBT12と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
IGBT13は、ドリフト領域23が、隣接するボディ領域24間に不純物濃度が残部より濃く調整されている高濃度ドリフト領域23aを備えていることを特徴としている。高濃度ドリフト領域23aは、隣接するボディ領域24とトレンチゲート電極30の側面に接しているとともに、半導体基板20の表面に臨んでいる。
高濃度ドリフト領域23aは、IGBT13がオフしたときに、ボディ領域24とドリフト領域23の接合面から伸展してくる空乏層を抑制する。即ち、隣接するボディ領域24間が空乏層によって閉塞されるのを防止する。高濃度ドリフト領域23aは、所謂JFET効果を抑制することができ、オン抵抗を低減することができる。
なお、第4実施例のIGBT13においても、第2実施例の技術を利用して、トレンチゲート電極30がボディ領域24よりも浅くなるように形成してもよい。第2実施例と同様の作用効果を奏することができる。
(第5実施例)
図11に、IGBT14の要部斜視図を模式的に示す。図12に、図11のXII-XII線に対応した縦断面図を示す。図13に、図11のXIII-XIII線に対応した縦断面図を示す。なお、第3実施例のIGBT12と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
IGBT14は、ボディコンタクト領域225がトレンチゲート電極30の側面に接していないことを特徴としている。したがって、トレンチゲート電極30の側面には、不純物濃度が薄いボディ領域24が形成されている。さらに、IGBT14では、ボディコンタクト領域225が、縦方向においてエミッタ領域126とドリフト領域23の間に形成されていることを特徴としている。ボディコンタクト領域225が、エミッタ領域126の一部を被覆している。
IGBT14によると、エミッタ領域126とドリフト領域23の間の略水平方向には、不純物濃度が薄いボディ領域24が配置される。したがって、IGBT14によると、低い抵抗のチャネルを形成することができる。IGBT14によると、チャネル抵抗を低減することができる。
図11に、IGBT14の要部斜視図を模式的に示す。図12に、図11のXII-XII線に対応した縦断面図を示す。図13に、図11のXIII-XIII線に対応した縦断面図を示す。なお、第3実施例のIGBT12と実質的に同一の構成要素に関しては同一符号を付し、その説明を省略する。
IGBT14は、ボディコンタクト領域225がトレンチゲート電極30の側面に接していないことを特徴としている。したがって、トレンチゲート電極30の側面には、不純物濃度が薄いボディ領域24が形成されている。さらに、IGBT14では、ボディコンタクト領域225が、縦方向においてエミッタ領域126とドリフト領域23の間に形成されていることを特徴としている。ボディコンタクト領域225が、エミッタ領域126の一部を被覆している。
IGBT14によると、エミッタ領域126とドリフト領域23の間の略水平方向には、不純物濃度が薄いボディ領域24が配置される。したがって、IGBT14によると、低い抵抗のチャネルを形成することができる。IGBT14によると、チャネル抵抗を低減することができる。
また、IGBT14では、ボディコンタクト領域225が、縦方向においてエミッタ領域126とドリフト領域23の間に形成されている。IGBT14では、チャネルが略水平方向に形成されているので、エミッタ領域126とドリフト領域23の間の縦方向に不純物濃度が薄いボディ領域24を配置する必要がない。したがって、エミッタ領域126とドリフト領域23の間の縦方向にボディコンタクト領域225を形成すると、ボディ領域24内を縦方向に移動するホールを円滑にボディコンタクト領域225に排出することができる。IGBT14によると、ラッチアップ現象の発生をさらに抑制することができる。
なお、第5実施例のIGBT14においても、第2実施例の技術を利用して、トレンチゲート電極30がボディ領域24よりも浅くなるように形成してもよい。第2実施例と同様の作用効果を奏することができる。
なお、第5実施例のIGBT14においても、第2実施例の技術を利用して、トレンチゲート電極30がボディ領域24よりも浅くなるように形成してもよい。第2実施例と同様の作用効果を奏することができる。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
また、本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
20:半導体基板
21:コレクタ領域
22:バッファ領域
23:ドリフト領域
23a:高濃度ドリフト領域
24、124:ボディ領域
25、125、225:ボディコンタクト領域
26、126:エミッタ領域
30:トレンチゲート電極
32:ゲート絶縁膜
34:導電体
21:コレクタ領域
22:バッファ領域
23:ドリフト領域
23a:高濃度ドリフト領域
24、124:ボディ領域
25、125、225:ボディコンタクト領域
26、126:エミッタ領域
30:トレンチゲート電極
32:ゲート絶縁膜
34:導電体
Claims (8)
- バイポーラで動作する半導体装置であって、
半導体基板の表面部分に形成されており、第1導電型の不純物を含むボディ領域と、
ボディ領域を取り囲むとともに半導体基板の表面に露出する範囲を備えており、第2導電型の不純物を含むドリフト領域と、
半導体基板の表面においてボディ領域とドリフト領域の接合面を超えて少なくとも一方方向に伸びているとともに、半導体基板の表面から深部に向けて縦方向にも伸びており、ゲート絶縁膜で被覆されている導電体を有するトレンチゲート電極と、
ボディ領域によってドリフト領域から隔てられているとともにトレンチゲート電極の側面に接しており、第2導電型の不純物を含むエミッタ領域と、
ボディ領域内に選択的に形成されており、第1導電型の不純物を含むボディコンタクト領域を備えており、
ボディ領域の不純物濃度よりもボディコンタクト領域の不純物濃度が濃く、
トレンチゲート電極は、半導体基板の表面からボディ領域を貫通してドリフト領域に達しており、
前記一方方向におけるエミッタ領域とドリフト領域の間の距離が、縦方向におけるエミッタ領域とドリフト領域の間の距離よりも短いことを特徴とする半導体装置。 - バイポーラで動作する半導体装置であって、
半導体基板の表面部分に形成されており、第1導電型の不純物を含むボディ領域と、
ボディ領域を取り囲むとともに半導体基板の表面に露出する範囲を備えており、第2導電型の不純物を含むドリフト領域と、
半導体基板の表面においてボディ領域とドリフト領域の接合面を超えて少なくとも一方方向に伸びているとともに、半導体基板の表面から深部に向けて縦方向にも伸びており、ゲート絶縁膜で被覆されている導電体を有するトレンチゲート電極と、
ボディ領域によってドリフト領域から隔てられているとともにトレンチゲート電極の側面に接しており、第2導電型の不純物を含むエミッタ領域と、
ボディ領域内に選択的に形成されており、第1導電型の不純物を含むボディコンタクト領域を備えており、
ボディ領域の不純物濃度よりもボディコンタクト領域の不純物濃度が濃く、
トレンチゲート電極は、ボディ領域よりも浅く形成されていることを特徴とする半導体装置。 - ボディコンタクト領域は、前記一方方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間に形成されていることを特徴とする請求項1又は2の半導体装置。
- ボディコンタクト領域は、エミッタ領域よりも浅く形成されていることを特徴とする請求項3の半導体装置。
- ボディコンタクト領域は、トレンチゲート電極に接していないことを特徴とする請求項1〜4のいずれかの半導体装置。
- ボディコンタクト領域は、縦方向においてエミッタ領域とドリフト領域の間に形成されていることを特徴とする請求項5の半導体装置。
- トレンチゲート電極が、前記一方方向に沿って複数のボディ領域を横断して伸びていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかの半導体装置。
- ドリフト領域は、
隣接するボディ領域間に不純物濃度が残部より濃く調整されている高濃度ドリフト領域を備えていることを特徴とする請求項7の半導体装置。
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- 2006-12-04 JP JP2006327283A patent/JP2008141056A/ja active Pending
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