JP2008118062A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 光源からの照明光で原版を照明し該原版のパターンを投影光学系によって基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
   回転することによって原版への前記照明光の入射を制御し基板の露光時間を決定するシャッタと、
   基板の露光量を検知する露光量センサと、
   前記シャッタの回転による前記シャッタの開閉を制御する制御部とを備え、
   前記制御部は、第１光強度の照明光が使用される第１露光モードでは、前記露光量センサの出力に基づいて前記シャッタを閉じるタイミングを制御するとともに、前記シャッタの開放時間に基づいて得られる補正情報を記憶し、前記第１光強度よりも強い第２光強度の照明光が使用される第２露光モードでは、前記露光量センサの出力を用いず、目標露光量と前記補正情報とに基づいて決定される回転速度で前記シャッタが駆動されるように前記シャッタの動作を制御する、
   ことを特徴とする露光装置。
2. 前記制御部は、複数の基板からなるロットの先頭の少なくとも１枚の基板については、前記第１露光モードで露光がなされ、前記少なくとも１枚の基板に対して後続の基板については、前記第２露光モードで露光がなされるように動作する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記制御部は、前記第１露光モードでは、複数のショット領域のそれぞれについて前記補正情報を記憶し、前記第２露光モードでは、露光対象のショット領域についての前記シャッタの回転速度を当該ショット領域についての前記補正情報に基づいて制御する、
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記制御部は、前記第２露光モードでは、露光対象のショット領域についての前記シャッタの回転速度を前記補正情報の他、既に露光がなされた他のショット領域の露光で得られた補正情報に基づいて制御する、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
5. 前記制御部は、前記第２露光モードでは、露光対象のショット領域の露光を開始する前に当該ショットの露光量を制御するための前記シャッタの回転速度を決定することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記露光量センサは、前記照明光の光強度を積算して基板の露光量を得ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
7. デバイス製造方法であって、
   感光剤が塗布された基板を請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置を用いて露光する工程と、
   前記基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とするデバイス製造方法。