JP2008107226A - 試料作成装置 - Google Patents

試料作成装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008107226A
JP2008107226A JP2006291012A JP2006291012A JP2008107226A JP 2008107226 A JP2008107226 A JP 2008107226A JP 2006291012 A JP2006291012 A JP 2006291012A JP 2006291012 A JP2006291012 A JP 2006291012A JP 2008107226 A JP2008107226 A JP 2008107226A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
axis
vacuum chamber
base
holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006291012A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Sugizaki
秀雄 杉崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP2006291012A priority Critical patent/JP2008107226A/ja
Priority to US11/876,033 priority patent/US7952082B2/en
Publication of JP2008107226A publication Critical patent/JP2008107226A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/32Polishing; Etching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
    • H01J37/3056Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching for microworking, e.g. etching of gratings, trimming of electrical components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202Movement
    • H01J2237/20207Tilt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202Movement
    • H01J2237/20214Rotation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3174Etching microareas
    • H01J2237/31745Etching microareas for preparing specimen to be viewed in microscopes or analyzed in microanalysers

Abstract

【課題】真空チャンバ内で、イオンビームに対して試料の加工面が非直交の状態で、前記試料の加工面に対して直交する軸を中心に回転されながら、前記加工面にイオンビームが照射される試料作成装置に関し、操作性の良い試料作成装置を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバ1に取り付けられ、試料ホルダ7が設けられた筐体9に、試料ホルダ7の試料6が設けられた面7aと直交するX軸(第1の軸)を中心に試料ホルダ7を回転させる回転機構と、X軸と直交するZ軸(第2の軸)を中心に試料ホルダ7を傾斜させる傾斜機構とを設け、筐体9の真空チャンバ1の外側に位置する部分に、傾斜機構の操作部を設ける。
【選択図】図1

Description

本発明は、真空チャンバ内で、試料ホルダにセットされた試料にイオンビームを照射することにより、前記試料の加工を行う試料作成装置に関する。
走査電子顕微鏡(SEM)や透過電子顕微鏡(TEM)で観察される試料を作製する装置として、下記特許文献1に記載されているような試料作製装置が知られている。
このような試料作製装置は、試料にイオンビームを照射してエッチングを行い、試料をSEMまたはTEM観察に適した形状に加工するイオンビーム加工装置である。
特開2005−037164号公報
上述した試料作成装置では、大気中での試料交換時に、イオンビームに対する試料の加工面の傾斜角を調整し、真空チャンバ内にセットし、真空引きして、試料作成を行っていた。
このため、傾斜角を再設定するのに操作性が悪いという問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、その課題は、操作性の良い試料作成装置を提供することにある。
上記課題を解決する請求項1に係る発明は、真空チャンバ内で、イオンビームに対して試料の加工面が非直交の状態で、前記試料の加工面に対して直交する軸を中心に回転されながら、前記加工面にイオンビームが照射される試料作成装置において、前記真空チャンバに取り付けられ、試料ホルダが設けられた筐体に、前記試料ホルダの試料が設けられた面と直交する第1の軸を中心に前記試料ホルダを回転させる回転機構と、前記第1の軸と直交する第2の軸を中心に前記試料ホルダを傾斜させる傾斜機構と、を設け、前記筐体の前記真空チャンバの外側に位置する部分に、前記傾斜機構の操作部を設けたことを特徴とする試料作成装置である。
請求項2に係る発明は、前記筐体に前記第2の軸を中心に回転する傾斜ブロックを設け、前記試料ホルダは、前記傾斜ブロックに、前記第1の軸を中心に回転可能に設けられ、前記傾斜機構は、前記傾斜ブロックを回転駆動することを特徴とする請求項1記載の試料作成装置である。
請求項3に係る発明は、前記傾斜機構は、筐体側に設けられた第1の歯車と、前記傾斜ブロック側に設けられ、前記第1の歯車と噛合する第2の歯車を有することを特徴とする請求項2記載の試料作成装置である。
請求項4に係る発明は、前記第1の歯車、前記第2の歯車は、かさ歯車であることを特徴とする請求項3記載の試料作成装置である。
請求項5に係る発明は、前記第1の歯車はラック、前記第2の歯車はピニオンであることを特徴とする請求項3記載の試料作成装置である。
請求項1−5に係る発明によれば、前記筐体の前記真空チャンバの外側に位置する部分に、前記傾斜機構の操作部を設けたことにより、真空チャンバに筐体を取り付けた状態で、傾斜機構の操作ができ、操作性が良い。
図1−図3を用いて説明する。図1は試料作製装置の全体構成を説明する図、図2は図1の切断線A−Aでの断面図、図3は図2の傾斜ブロックの斜視図である。尚、図1において、図面の上下方向がZ軸方向、左右方向がX軸方向とし、図2において、図面の上下方向がY軸方向、左右方向がX軸方向とした。
最初に、図1を用いて全体構成を説明する。真空チャンバ1の上面には、イオン源(イオンビーム照射手段)3が取り付けられている。このイオン源3としてガスイオン源が用いられており、たとえばArガスを放電によりイオン化させてArイオンを放出させるガスイオンガンが用いられている。イオン源3から放出されるイオンビームIBの中心軸OiはZ軸にほぼ平行である。
真空チャンバ1の側部には、試料6が設けられる試料ホルダ7が設けられた筒状の筐体9が取り付けられる。本形態例では、試料ホルダ7の試料6が設けられた面7aと直交する第1の軸がX軸、第1の軸と直交する第2の軸をY軸とした。
ここで、図1、図2を用いて、筐体9内の機構を説明する。
真空チャンバ1の側部には、穴11が設けられ、真空チャンバ1の外部から、フランジ部21dを有する円筒状のベース21が取り付けられている。
ベース21の内筒部には、円筒状のサブベース23が配置されている。ベース21の内周面には、球面状の受け部21eが形成されている。サブベース23の一方の端部側は、ベース21の受け部21eに当接可能な球面状の押し当て部23aが形成されている。従って、サブベース23は、ベース21との当接部Bを中心にすりこぎ運動可能となっている。
図1に示すように、真空チャンバ1の外部のサブベース23には、Z軸に沿って延びる円柱状のプランジャ31が設けられている。一方、ベース21には、プランジャ31が移動可能に係合する有底円筒状のガイド33が設けられている。このガイド33の底部には、プランジャ31の先端部に当接するスプリング35が配置されている。
ベース21の円周方向で、ガイド33が設けられた部分と対向する部分には、Z軸に沿ってめねじ穴21aが形成され、このめねじ穴21aに調整ねじ37が螺合している。この調整ねじ37がサブベース23の外周面を押すことにより、サブベース23は、Z−X平面上で、ベース21との当接部Bを中心にZ軸方向に回転するようになっている。
次に、図2に示すように、真空チャンバ1の外部のサブベース23には、Y軸に沿って延びる円柱状のプランジャ41が設けられている。一方、ベース21には、プランジャ41が移動可能に係合する有底円筒状のガイド43が設けられている。このガイド43の底部には、プランジャ41の先端部に当接するスプリング45が配置されている。
ベース21の円周方向で、ガイド43が設けられた部分と対向する部分には、Y軸に沿ってめねじ穴21bが形成され、このめねじ穴21bに調整ねじ47が螺合している。この調整ね47がサブベース23の外周面を押すことにより、サブベース23は、X−Y平面上で、ベース21との当接部Bを中心にY軸方向に回転するようになっている。
図2に示すように、サブベース23の内周部には、円筒状の第1パイプ部材51が軸方向(X軸方向に)移動可能に設けられている。この第1パイプ部材51の一方の端部側は真空チャンバ1内に位置している。第1パイプ部材51の内周部には、円柱状のシャフト保持部材53が、第1パイプ部材51に対して(X軸を中心に)回転可能に、又、第1パイプ部材51の軸方向(X軸方向)に移動可能に設けられている。このシャフト保持部材53一方の端部側も真空チャンバ1内に位置している。シャフト保持部材53には、円柱軸に沿って貫通穴53aが形成され、この貫通穴53aには、第1シャフト55が回転可能に設けられている。
シャフト保持部材53の真空チャンバ1の外側の端部には、モータ61が設けられ、このモータ61の出力軸61aは第1シャフト55に接続されている。従って、モータ61が駆動されると、第1シャフト55が回転駆動されるようになっている。63はモータ61を覆うカバーであり、シャフト保持部53に取りつけられ、シャフト保持部53と一体となって回転するようになっている。
図1に示すように、第1パイプ部材51のモータ61側の端部には、ベース21の端部と対向するフランジ部51aが形成されている。フランジ部51aが対向するベース21の端部21cは、球面状に形成されている。
第1パイプ部材51のフランジ部51aには、めねじ穴51bが形成され、このめねじ穴51bに調整ねじ71が螺合している。この調整ね71がベース21の端部21cを押すことにより、第1パイプ部材51、シャフト保持部材53は、X−Y平面上で、X軸方向に移動するようになっている。
第1パイプ部材51の真空チャンバ1の内側の端部には、第2パイプ部材65が取り付けられている。図2に示すように、第2パイプ部材65の円周部には、Y軸方向の貫通した穴65a、65bが形成されている。これらの穴65a、65bには、ベアリング67、69が設けられている。第2パイプ部材65の内部には、傾斜ホルダ81が配置されている。この傾斜ホルダ81の両端部には、ベアリング67,69を介して、第2パイプ部材65の穴65a、65bに回転可能に係合する突部81a、81bが形成され(図3参照)、傾斜ホルダ81は、第2パイプ部材65に対してY軸を中心に傾斜可能となっている。
傾斜ホルダ81内には、X軸方向に貫通穴81dが形成され、この貫通穴81dにはベアリング83、85が設けられている。そして、ベアリング83、85に回転可能に支持された第2シャフト87が設けられている。
第2シャフト87の一方の端部にはスリーブ91が取りつけられ、第2シャフト87とスリーブ91とは一体となって回転するようになっている。スリーブ91にはめねじ穴91aが形成され、このめねじ穴91aには、試料ホルダ7のおねじ部7bが螺合し、第2シャフト78、スリーブ91、試料ホルダ7は、一体となって回転するようになっている。
第1シャフト55と第2シャフト87とは、コイルスプリング状の自在継手93を介して接続されている。
シャフト保持部材53の真空チャンバ1側の端部には、円筒状の第3パイプ部材101が取りつけられている。この第3パイプ部材101は、シャフト保持部材53と一体となって回転するようになっている。第3パイプ部材101の先端部には、第3パイプ部材101の軸(X軸)を中心とするかさ歯車が形成されたかさ歯車部101aが形成されている。
一方、図3に示すように、傾斜ホルダ81には、Y軸を中心とし、第3パイプ部材101のかさ歯車部101aと螺合するかさ歯車部81cが形成されている。
シャフト保持部材53の真空チャンバ1の外側に位置する部分をサブベース23に対して回転させると、かさ歯車部101aを有する第3パイプ部材101も回転し、更に、かさ歯車部101aに螺合するかさ歯車部81cを有する傾斜ホルダ81がY軸を中心に傾斜するようになっている。又、本形態例では、図1に示すように、シャフト保持部材53の真空チャンバ1の外側に位置する部分には、目盛103が形成されている。
また、図2示すように、真空チャンバ1とベース21との間の気密はOリング100により、ベース21とサブベース23との間の気密はOリング103により、サブベース23と第1パイプ部材51との間の気密はOリング105により、第1パイプ部材51とシャフト保持部材53との間の気密はOリング107により、シャフト保持部材53と第1シャフト55との間の気密はOリング109によりなされている。
そして、プランジャ31、ガイド33、スプリング35、調整ねじ37で、サブベース23、即ち、試料ホルダ7をベース21に対してZ軸方向に移動させるZ軸方向調整機構が形成されている。
又、プランジャ41、ガイド43、スプリング45、調整ねじ47で、サブベース23、即ち、試料ホルダ7をベース21に対してY軸方向に移動させるY軸方向調整機構が形成されている。
更に、調整ねじ71で、第1パイプ部材51、シャフト保持部材53、即ち、試料ホルダ7をサブベース23に対してX軸方向に移動させるX軸方向調整機構が形成されている。
又、シャフト保持部材53、第3パイプ部材101、傾斜ホルダ81で、試料ホルダ7をZ軸を中心に傾斜させる傾斜調整機構が構成されている。
上記構成の作動を説明する。
筐体9を真空チャンバ1にセットした状態で、モータ61を駆動すると、モータ61の回転は、出力軸61a、第1シャフト55、自在継手93、第2シャフト87を介して試料ホルダ7に伝達され、試料6はX軸を中心に回転する(回転機構)。
ここで、筐体9を真空チャンバ1にセットした状態で、調整ねじ37を回転することにより、ベース21、サブベース23、第1パイプ部材51、シャフト保持部材53が点Bを中心に、X−Z平面上で、Z軸方向に回転し、試料ホルダ7のZ軸方向の調整がなされる(Z軸方向調整機構)。
又、調整ねじ47を回転することにより、ベース21、サブベース23、第1パイプ部材51、シャフト保持部材53が点Bを中心に、X−Y平面上で、Y軸方向に回転し、試料ホルダ7のY軸方向の調整がなされる(Y軸方向調整機構)。
更に、調整ねじ71を回転することにより、ベース21に対して、サブベース23、第1パイプ部材51、シャフト保持部材53がX軸方向に移動し、試料ホルダ7のX軸方向の調整がなされる(X軸方向調整機構)。
そして、真空チャンバ1の外側に位置するカバー63をサブベース23に対して回転させると、試料ホルダ7(傾斜ホルダ81)がZ軸を中心に傾斜する(傾斜調整機構)。
このような構成によれば、筐体9の真空チャンバ1の外側に位置する部分に、Z軸方向調整機構の操作部である調整ねじ37、Y軸調整機構の操作部である調整ねじ47、X軸方向調整機構の操作部である調整ねじ71、傾斜調整機構の操作部であるカバー63を設けたことにより、真空チャンバ1に筐体1を取り付けた状態で、Z軸調整機構、Y軸調整機構、X軸調整機構、傾斜機構の操作ができ、操作性が良い。
尚、本発明は上記形態例に限定するものではない。上記形態例では、かさ歯車を用いた傾斜機構であったが、図4に示すような構成でもよい。図4において、傾斜ホルダ181には、傾斜ホルダ181の回転軸(Z軸)を中芯とするピニオン181dが形成されている。一方、第1シャフト55を保持する保持部材153には、ピニオン181dが螺合するラック200が取りつけられている。保持部材153は、第1シャフト55に沿って、即ち、X軸方向に移動可能となっている。
そして、保持部材153をX軸方向に移動させることにより、ラック200もX軸方向に移動し、ラック200に螺合しているピニオン181dが形成された傾斜ホルダ181はY軸を中心に回転し、試料6の傾斜調整が行われる。
更に、試料ホルダを傾斜させる傾斜機構としては、他に、傾斜ホルダ側にウォームホイールを設け、このウォームホイールに螺合すとウォームを第1シャフトに沿って設け、筐体外部からウォームを回転させるようにしてもよい。
試料作製装置の全体構成を説明する図である。 図1の切断線A−Aでの断面図である。 図2の傾斜ブロックの斜視図である。 他の形態例を説明する構成図である。
符号の説明
1 真空チャンバ
6 試料
7 試料ホルダ
9 筐体

Claims (5)

  1. 真空チャンバ内で、イオンビームに対して試料の加工面が非直交の状態で、前記試料の加工面に対して直交する軸を中心に回転されながら、前記加工面にイオンビームが照射される試料作成装置において、
    前記真空チャンバに取り付けられ、試料ホルダが設けられた筐体に、
    前記試料ホルダの試料が設けられた面と直交する第1の軸を中心に前記試料ホルダを回転させる回転機構と、
    前記第1の軸と直交する第2の軸を中心に前記試料ホルダを傾斜させる傾斜機構と、
    を設け、
    前記筐体の前記真空チャンバの外側に位置する部分に、前記傾斜機構の操作部を設けたことを特徴とする試料作成装置。
  2. 前記筐体に前記第2の軸を中心に回転する傾斜ブロックを設け、
    前記試料ホルダは、前記傾斜ブロックに、前記第1の軸を中心に回転可能に設けられ、
    前記傾斜機構は、
    前記傾斜ブロックを回転駆動することを特徴とする請求項1記載の試料作成装置。
  3. 前記傾斜機構は、
    筐体側に設けられた第1の歯車と、前記傾斜ブロック側に設けられ、前記第1の歯車と噛合する第2の歯車を有することを特徴とする請求項2記載の試料作成装置。
  4. 前記第1の歯車、前記第2の歯車は、かさ歯車であることを特徴とする請求項3記載の試料作成装置。
  5. 前記第1の歯車はラック、前記第2の歯車はピニオンであることを特徴とする請求項3記載の試料作成装置。
JP2006291012A 2006-10-26 2006-10-26 試料作成装置 Pending JP2008107226A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006291012A JP2008107226A (ja) 2006-10-26 2006-10-26 試料作成装置
US11/876,033 US7952082B2 (en) 2006-10-26 2007-10-22 Sample preparation system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006291012A JP2008107226A (ja) 2006-10-26 2006-10-26 試料作成装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008107226A true JP2008107226A (ja) 2008-05-08

Family

ID=39329007

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006291012A Pending JP2008107226A (ja) 2006-10-26 2006-10-26 試料作成装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7952082B2 (ja)
JP (1) JP2008107226A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101576088B1 (ko) 2013-11-28 2015-12-10 재단법인 한국전자기계융합기술원 이온 밀링 장치

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5378830B2 (ja) * 2009-02-20 2013-12-25 株式会社日立ハイテクサイエンス 集束イオンビーム装置、及びそれを用いた試料の加工方法
GB201002645D0 (en) * 2010-02-17 2010-03-31 Univ Lancaster Method and apparatus for ion beam polishing
JP5690086B2 (ja) * 2010-07-02 2015-03-25 株式会社キーエンス 拡大観察装置
JP5517790B2 (ja) * 2010-07-02 2014-06-11 株式会社キーエンス 拡大観察装置
DE102010032894B4 (de) * 2010-07-30 2013-08-22 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Tem-Lamelle, Verfahren zu ihrer Herstellung und Vorrichtung zum Ausführen des Verfahrens
TWI457599B (zh) * 2010-12-27 2014-10-21 Ind Tech Res Inst 載具及其操作方法
EP2631929A1 (en) * 2012-02-27 2013-08-28 FEI Company A holder assembly for cooperating with an environmental cell and an electron microscope
JP5981744B2 (ja) * 2012-03-21 2016-08-31 株式会社日立ハイテクサイエンス 試料観察方法、試料作製方法及び荷電粒子ビーム装置
JP6308904B2 (ja) * 2014-07-28 2018-04-11 株式会社日立製作所 試料ホルダ、荷電粒子線装置および観察方法
CN109314029B (zh) * 2016-06-17 2020-10-16 株式会社日立高新技术 带电粒子束装置
WO2020108038A1 (zh) * 2018-11-30 2020-06-04 浙江大学 多自由度样品杆
CN109613035B (zh) * 2019-02-22 2021-03-26 安徽泽攸科技有限公司 一种用于电子显微镜的样品支撑体及样品杆

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6244942A (ja) * 1985-08-23 1987-02-26 Jeol Ltd 回転傾斜試料ホルダ
JPH0883834A (ja) * 1994-09-12 1996-03-26 Hitachi Ltd イオンビーム加工装置
JP2000057986A (ja) * 1998-08-10 2000-02-25 Hitachi Ltd イオンビーム加工装置
JP2000162102A (ja) * 1998-11-25 2000-06-16 Hitachi Ltd 試料作製装置および試料作製方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4191916A (en) * 1977-11-23 1980-03-04 Fujitsu Limited Table positioning system including optical reference position measuring transducer
US6207959B1 (en) * 1999-04-19 2001-03-27 Applied Materials, Inc. Ion implanter
US6900444B2 (en) * 2002-07-29 2005-05-31 Axcelis Technologies, Inc. Adjustable implantation angle workpiece support structure for an ion beam implanter
JP4297736B2 (ja) * 2003-06-11 2009-07-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ 集束イオンビーム装置
JP4208658B2 (ja) 2003-07-16 2009-01-14 日本電子株式会社 試料作製装置
JP4557130B2 (ja) * 2003-09-16 2010-10-06 日本電子株式会社 試料作製装置
JP4560321B2 (ja) * 2004-03-31 2010-10-13 株式会社Sen ウエハスキャン装置
KR100673009B1 (ko) * 2005-08-01 2007-01-24 삼성전자주식회사 빔 프로파일러 센터 측정 장치, 그리고 이를 이용하는 이온주입 설비 및 그 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6244942A (ja) * 1985-08-23 1987-02-26 Jeol Ltd 回転傾斜試料ホルダ
JPH0883834A (ja) * 1994-09-12 1996-03-26 Hitachi Ltd イオンビーム加工装置
JP2000057986A (ja) * 1998-08-10 2000-02-25 Hitachi Ltd イオンビーム加工装置
JP2000162102A (ja) * 1998-11-25 2000-06-16 Hitachi Ltd 試料作製装置および試料作製方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101576088B1 (ko) 2013-11-28 2015-12-10 재단법인 한국전자기계융합기술원 이온 밀링 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US7952082B2 (en) 2011-05-31
US20080099695A1 (en) 2008-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008107226A (ja) 試料作成装置
JP2007164992A (ja) 複合荷電粒子ビーム装置
JP5612493B2 (ja) 複合荷電粒子ビーム装置
JP5485209B2 (ja) ビームシステムのビームカラムを傾動する方法
JP2017174503A (ja) 集束イオンビーム装置
JP2012048819A (ja) 荷電粒子線装置および試料観察方法
JP5009126B2 (ja) アトムプローブ用針状試料の加工方法及び集束イオンビーム装置
JP2011203266A (ja) 薄片試料作製方法
JP2015228311A (ja) 試料ホルダ
JP5492105B2 (ja) 試料作製装置
KR101604055B1 (ko) Sem 스테이지를 활용한 6축구동 전자현미경 스테이지
JP2013197046A (ja) 複合荷電粒子ビーム装置
JP2004087214A (ja) 荷電粒子線装置用試料ホールダ
JPWO2018235194A1 (ja) 荷電粒子線装置およびクリーニング方法
US20200251303A1 (en) Charged particle beam apparatus
JP2008159294A (ja) オージェ分光分析用試料台
JP2008257929A (ja) ビーム加工装置およびビーム観察装置
JP2016143528A (ja) 試料搬送機構及び真空装置
JP2007024789A (ja) レーザー墨出し器
WO2024034052A1 (ja) イオンミリング装置及びそれを用いた加工方法
EP3226279B1 (en) Sample holder and focused ion beam apparatus
JP2013165002A (ja) 荷電粒子線装置、試料マスクユニット、および変換部材
JP2002319365A (ja) ステージ及びfib試料作成装置
JP2008135216A (ja) 透過電子顕微鏡
JPS5952513B2 (ja) 走査形電子顕微鏡の試料微動装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110705

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110707

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111101