JP2011203266A - 薄片試料作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】FIB鏡筒1と、SEM鏡筒2と、気体イオンビーム鏡筒3と、ユーセントリックチルト機構とユーセントリックチルト軸8と直交する回転軸10とを持つ回転試料ステージ9と、を含む複合荷電粒子ビーム装置であり、集束イオンビーム4と電子ビーム5と気体イオンビーム6とは、1点で交わり、かつFIB鏡筒1の軸とSEM鏡筒2の軸はそれぞれユーセントリックチルト軸8と直交し、かつFIB鏡筒1の軸と気体イオンビーム鏡筒3の軸とユーセントリックチルト軸8とは一つの平面内にあるように配置する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施形態1に係る複合荷電粒子ビーム装置の概略を示す概略図である。本発明におい気体イオンビーム6としてどのイオンを用いるかは本質ではないが、本実施例においては、気体イオンビーム6としてアルゴンイオンビームを用いた。
上述した実施形態1ではFIB鏡筒1が水平面に対し垂直の配置であったが、これに特に限定されず、例えばSEM鏡筒2を垂直にして、FIB鏡筒1と気体イオンビーム鏡筒3の軸を含む平面をチルト軸8の周りに適当な角度傾けた配置としても、請求項1で示される要件を満たす。また、FIB鏡筒1あるいはSEM鏡筒2のどちらかの鏡筒が垂直である必要も同様にして無い。
2 SEM鏡筒
3 気体イオンビーム鏡筒
4 集束イオンビーム
5 電子ビーム
6 気体イオンビーム
7 ユーセントリックチルト機構の回転作用部
8 ユーセントリックチルト軸
9 回転ステージ
10 回転軸
11 薄片化試料
12 直交3軸ステージ
Claims (6)
- 集束イオンビームと気体イオンビームにより薄片試料を作製する薄片試料作製方法において、
試料に前記集束イオンビームを照射し、前記薄片試料を作製する薄片化工程と、
前記薄片試料の表面に前記気体イオンビームを照射するために、前記薄片試料を載置する試料ステージを回転させる試料ステージ回転工程と、
前記表面に前記気体イオンビームを照射し、前記薄片試料の仕上げ加工を行う仕上げ加工工程と、からなる薄片試料作製方法。 - 前記試料ステージ回転工程は、前記集束イオンビームの照射方向を中心として前記試料ステージを回転させる請求項1に記載の薄片試料作製方法。
- 前記薄片化工程は、前記集束イオンビームの照射方向と前記気体イオンビームの照射方向とで形成される平面に対し略平行になるように前記表面を作製する請求項1または2に記載の薄片試料作製方法。
- 前記試料ステージ回転工程は、前記集束イオンビームの照射方向と前記気体イオンビームの照射方向とで形成される平面と前記表面がなす角度が10度乃至20度になるように前記試料ステージを回転させる請求項1から3のいずれか一つに記載の薄片試料作製方法。
- 前記仕上げ加工工程は、前記仕上げ加工中に前記薄片試料をSEM観察する請求項1から4のいずれか一つに記載の薄片試料作製方法。
- 前記SEM観察は、前記気体イオンビームに対し、略垂直方向から電子ビームを照射する請求項5に記載の薄片試料作製方法。
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