JP2008106190A - 硬化性組成物、該硬化性組成物を用いた光学フィルム、該光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】主鎖に特定のポリシロキサン構造を有する構成単位及び側鎖にエチレン性不飽和基を含有する構成単位を含む共重合体、及びエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物を含有し、且つオルガノシラン化合物又はその加水分解物及び/又はその部分縮合物、重合開始剤、及び無機微粒子のうち少なくとも1成分を含有する硬化性組成物、及びこれらを用いて形成された光学フィルム、偏光板、画像表示装置。
【選択図】図1
Description
(A)主鎖に下記一般式(1)で表されるポリシロキサン構造を有する構成単位、及び側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を含む共重合体、
(B)エチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物、
(C)オルガノシラン化合物又は、該オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物、
(D)重合開始剤、
(E)無機微粒子。
[2] 成分(C)におけるオルガノシラン化合物が、下記一般式(2)で表される[1]に記載の硬化性組成物。
ニル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子を表す。U21は、単結合、エステル基、アミド基、エーテル基又はウレア基を表す。L21は、2価の連結鎖を表す。m1は0又は1を表す。R20は、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。X21は水酸基又は加水分解可能な基を表す。X21が複数存在するとき、複数のX21は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。}
[3] 成分(E)の無機微粒子がシリカ微粒子である[1]又は[2]に記載の硬化性組成物。
[4] シリカ微粒子が、平均粒子径が30nm以上150nm以下の中空シリカ微粒子である[3]に記載の硬化性組成物。
[5] 成分(A)の共重合体が、下記一般式(3)で表される共重合体である[1]〜[4]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[6] 一般式(3)において、上記一般式(1)で表されるポリシロキサン構造を含む構成単位X31のモル分率(%)xが、50≦x<100を満たす[5]に記載の硬化性組成物。
[7] 成分(B)のエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物が多官能(メタ)アクリレートモノマーである[1]〜[6]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[8] 成分(B)のエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物が、下記一般式(4)で表される含フッ素共重合体である[1]〜[7]のいずれかに記載の硬化性組成物。
[9] [1]〜[8]のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化してなる機能層を少なくとも1層有する光学フィルム。
[10] 機能層が低屈折率層であり、光学フィルムが光学干渉による反射防止機能又は防眩機能を有する[9]記載の光学フィルム。
[11] [9]又は[10]に記載の光学フィルムが、偏光板における偏光膜の2枚の保護フィルムのうちの一方に用いられている偏光板。
[12] [9]もしくは[10]に記載の光学フィルム、又は[11]に記載の偏光板がディスプレイの最表面に用いられている画像表示装置。
本発明の硬化性組成物は、以下の成分(A)及び(B)を含有し、且つ以下の成分(C)、(D)及び(E)のうち少なくとも1成分を含有する(明細書において本発明の硬化性組成物と称することがある)。
(C) オルガノシロキサン化合物又は、該オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物、
(D) 重合開始剤、
(E) 無機微粒子。
本発明の硬化性組成物は、主鎖に下記一般式(1)で表されるポリシロキサン構造を有する構成単位、及び側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を含む共重合体(A){以下、単にポリシロキサン構造含有共重合体(A)ともいう}、並びにエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物(B)を含有し、且つオルガノシラン化合物又は、該オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物(C)、重合開始剤(D)並びに無機微粒子(E)のうち少なくとも1成分を含有する硬化性組成物である。
本発明における成分(A)である、主鎖に一般式(1)で表されるポリシロキサン構造を有する構成単位(X31:以下、単に「単位(X)」ともいう)を含有する共重合体の合成法としては、従来よりいくつかの方法が提案されている。
合成することが可能で、多くのビニル型単量体に適用でき、反応工程が少ないことが好ましい。
こうした高分子開始剤のうち好ましいものの例を以下に示すが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
次に、本発明で用いられる共重合体(A)中の、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位(Z)、すなわち下記一般式(5)で表される重合単位について説明する。
が、例えば:
(1)水酸基、アミノ基等の求核基を有する共重合体を合成した後に、(メタ)アクリル酸クロリド、(メタ)アクリル酸無水物、(メタ)アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、
(2)上記求核基を有する共重合体に、硫酸等の触媒存在下、(メタ)アクリル酸を作用させる方法、
(3)上記求核基を有する共重合体にメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、
(4)エポキシ基を有する共重合体を合成した後に(メタ)アクリル酸を作用させる方法、
(5)カルボキシル基を有する共重合体にグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、
(6)3−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法、
などが挙げられる。
前記一般式(3)で表される本発明で用いられるポリシロキサン構造含有共重合体(A)は、基材への密着性、溶媒への溶解性、他の塗布液組成物との相溶性、透明性等種々の観点から、上述した構成単位以外にも、他の任意のビニルモノマーに基づく重合単位(Y31:以下、単に「単位(Y)」ともいう)を有してもよい。
ときは、相溶性の観点から、任意のビニルモノマーに基づく重合単位(Y)が含フッ素ビニルモノマー由来の重合単位であることが好ましい。
含フッ素ビニルモノマーの好ましい例として、下記一般式(6)で表される重合単位及び下記一般式(7)で表される重合単位について説明する。
MMA:メチルメタクリレート由来の重合単位
n−BuMA:n−ブチルメタクリレート由来の重合単位
X:ポリシロキサン構造を含む単位
Y:任意のビニルモノマーに基づく重合単位
Z:上記一般式(5)で表される重合単位
x:Xのモル分率
y:Yのモル分率
z:Zのモル分率
本発明に用いられるポリシロキサン構造含有共重合体(A)の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、乳化重合によって行うことができる。またこの際、回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で合成することができる。
エン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールのような種々の有機溶媒の単独又は2種以上の混合物でもよいし、水との混合溶媒としてもよい。
エチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物(B)の好ましい態様としては、
(1) エチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する含フッ素化合物、
(2) 2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー(中空構造を有する無機微粒子と共に用いることが好ましい)、
などを挙げることができる。これにより、本発明の硬化性組成物により得られる層は、
フッ化マグネシウムやフッ化カルシウムを用いた従来の低屈折率層に比べ、最外層として用いても耐擦傷性に優れ、ひいては耐擦傷性に優れた光学フィルムが得られる。
エチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する含フッ素化合物の好ましい例としては、含フッ素モノマーとエチレン性不飽和基を含有する官能基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。
含フッ素共重合体は、フッ素を含まない通常のポリマーに比べ屈折率が低く、低屈折率層用の硬化性組成物に適する。一方、ポリシロキサン構造含有共重合体(A)は滑り性付与による耐擦傷性の向上、及び防汚性の向上機能を持つ。両者により、耐擦傷性、防汚性に優れた反射防止フィルムの低屈折率層などに好ましく用いられる硬化性組成物が実現される。含フッ素共重合体は、2種類以上使用してもよい。また、上記多官能(メタ)アクリレートモノマーなど、他のエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物(B)と併用してもよい。
先ず、本発明の一般式(4)で表される含フッ素共重合体中の、下記一般式(6’)で表される重合単位及び下記一般式(7’)で表される重合単位について説明する。
次に、本発明の一般式(4)で表される含フッ素共重合体中の、下記一般式(8)で表される重合単位について説明する。
(1) 水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、(メタ)アクリル酸クロリド、(メタ)アクリル酸無水物、(メタ)アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、
(2) 上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、(メタ)アクリル酸を作用させる方法、
(3) 上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、
(4) エポキシ基を有するポリマーを合成した後に(メタ)アクリル酸を作用させる方法、
(5) カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、
(6) 3−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法、
などが挙げられる。
部残して(メタ)アクリロイル基で置換することもできる。水酸基以外の官能基を有する共重合体に対しても、同様の導入が可能である。
次に、本発明の一般式(4)で表される含フッ素共重合体中の、任意のビニルモノマーに基づく重合単位A41について説明する。A41は単一であっても複数種で構成されていてもよい。
次に、本発明の一般式(4)で表される含フッ素共重合体中の、ポリシロキサン構造を主鎖又は側鎖に含む構成単位B41について説明する。
えば“J.A.Appl.Polym.Sci.”,2000巻、p.78(1955年)、特開昭56−28219号公報等に記載のごとく、エポキシ基、水酸基、カルボキシル、酸無水物基等の反応性基を有するポリマーに対して、反応性を有する反応性基(例えばエポキシ基、酸無水物基に対してアミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、水酸基等)を片末端に有するポリシロキサン{例えば「サイラプレーン」シリーズ、チッソ(株)製など}を高分子反応によって導入する方法;ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。本発明ではシリコンマクロマーの重合によって導入する方法がより好ましい。
SS−(36):「サイラプレーンFM−0711」{チッソ(株)製}
SS−(37):「サイラプレーンFM−0721」(同上)
SS−(38):「サイラプレーンFM−0725」(同上)
Q:上記一般式(6’)で表される重合単位
N:上記一般式(7’)で表される重合単位
O:上記一般式(8)で表される重合単位
M1:任意のビニルモノマーに基づく重合単位A41
SS:ポリシロキサン構造を主鎖又は側鎖に含む構成単位B41
a:Qのモル分率
b:Nのモル分率
c:Oのモル分率
d:M1のモル分率
e:SSの、他の構成単位全体の質量に対する質量分率
Mw:質量平均分子量
本発明に用いられる、一般式(4)で表される含フッ素共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、乳化重合によって行うことができる。また回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で合成することができる。
水素ナトリウム、ピロ亜硫酸ナトリウム等の無機還元剤、ナフテン酸コバルト、ジメチルアニリン等の有機還元剤を併用することができる。
更に別の好ましい態様として、2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが挙げられる。2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル{例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,3,5−シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート等}、ビニルベンゼンの誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン等)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが含まれる。
本発明の硬化性組成物には、ポリシロキサン構造含有共重合体(A)及びエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物(B)の他に、オルガノシラン化合物又は、該オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又はその部分縮合物(成分C)を併用することが好ましい。
上記オルガノシラン化合物としては、酸触媒及び金属キレート化合物の少なくともいずれかの存在下で製造されてなる、下記一般式(2−0)で表されるオルガノシランが用いられることが好ましい。次に、このオルガノシラン化合物について詳細に説明する。
(R20)m0−Si(X21)4-m0
。
R20は、一般式(2−0)のR20と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、又は無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
一般式(2−1):(Rf 21−L22)m3−Si(R23)4-m3
一般式(2−2):CnF2n+1−(CH2)r5−Si(R24)3
以下に一般式(2−0)、(2)、(2−1)又は(2−2)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び/又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。
触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;蓚酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。
無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数{pKa値(25℃)}が4.5以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、蓚酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、蓚酸が特に好ましい。
金属キレート化合物としては、一般式R51OH(式中、R51は炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールとR52COCH2COR53(式中、R52は炭素数1〜10のアルキル基、R53は炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。
。
s1は、1〜3の整数を表し、t1は、1〜3の整数を表し、u1は、1または2の整数を表す。
また、本発明の硬化性組成物には、更にβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタンジオン、3,5−ヘプタンジオン、2,4−オクタンジオン、2,4−ノナンジオン、5−メチルヘキサンジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び/又はβ−ケトエステル化合物は、1種単独で又は2種以上を混合して使用することもできる。
本発明の硬化性組成物には、成分(A)のポリシロキサン構造含有共重合体、及び成分(B)のエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物の他、成分(D)である重合開始剤を添加するのが好ましい。重合開始剤(D)は通常用いられるものであれば特に限定はされず用いることができるが、熱及び/又は電離放射線硬化性の開始剤であることが好ましい。
化合物のSP値とは溶解性パラメーターのことであって、どれだけ溶媒などに溶け易いかということを数値化したものであり、有機化合物ではよく使われる極性と同義で、このSP値が大きい程、極性が大きいことを表す。SP値はFedors法で計算した計算値を使用することができる。
(B)の化合物より大きければ同様な効果を有する。また、後述するように、エチレン性不飽和基を含むモノマーの硬化性部位が分子内で連結結合した化合物も重合開始剤として用いることができ、この連結結合した化合物のSP値が上記成分(B)の化合物より大きければ同様な効果を有する。
電離放射線硬化性重合開始剤骨格としては、通常用いられる光ラジカル重合開始剤と同様の化合物であって、好ましくは硬化性組成物に用いられる各共重合体、特に成分(B)の多官能(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリレート基含有含フッ素共重合体のSP値よりも大きな値を示す開始剤骨格を有することが好ましい。
活性エステル類の例には、1,2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−,
2−(O−ベンゾイルオキシム)]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。具体的には特開2000−80068号公報の実施例記載化合物1〜21が特に好ましい。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
クマリン類の例には3−ケトクマリンが挙げられる。
これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどを挙げることができる。更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
熱ラジカル重合開始剤骨格についても、通常用いられる熱ラジカル重合開始剤と同様の化合物であって、好ましくは低屈折率層を形成するための硬化性組成物に用いられる各共重合体、特に成分(B)の化合物のSP値よりも大きな値を示す開始剤骨格を有することが好ましい。
これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。
本発明の硬化性組成物には、ポリシロキサン構造含有共重合体(A)及びエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物(B)の他、成分(E)である無機微粒
子を添加するのが好ましい。
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。すなわち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
ここで、無機粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
屈折率をより低下させる目的のためには、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。
数式(1):x=(4πri 3/3)/(4πro 3/3)×100
中空シリカ粒子の空隙率xは、好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%
、最も好ましくは30〜60%である。
軽減のために好ましい。
本発明の硬化性組成物において、必要性に応じて各種添加剤及び/又は適当な溶媒を添加することができる。得られる硬化性組成物の固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが、一般的には0.01〜60質量%程度であり、好ましくは0.5〜50質量%、特に好ましくは1〜20質量%程度である。
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖{例えば−CF2CF3、−CH3(CF3)4H、−CH2(CF2)8CF3、−CH2CH2(CF2)4H等}であっても、分岐構造{例えば−CH(CF3)2、−CH2CF(CF3)2、−CH(CH3)CF2CF3、−CH(CH3)(CF2)5CF2H等}であっても、脂環式構造(好ましくは5員環又は6員環、例えばペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等)であってもよく、エーテル結合を有していてもよい(例えば−CH2OCH2CF2CF3、−CH2CH2OCH2C4F8H、−CH2CH2OCH2CH2C8F17、−CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
本インキ化学工業(株)製の「メガファックF−171」、「メガファックF−172」、「メガファックF−179A」、「ディフェンサMCF−300」(以上商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明の硬化性組成物が、光学フィルムの機能層、特に反射防止フィルムの低屈折率層の形成用に用いられるとき、該硬化性組成物には、防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、さらに公知のカチオン系界面活性剤又はポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は、上記のシリコーン系化合物やフッ素系化合物に、その構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。
本発明の硬化性組成物が、機能層、特に低屈折率層を形成するための塗布液組成物として用いられるとき、使用される溶媒は、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶媒が使用できる。乾燥にかかる負荷の少なさの観点からは、常圧、室温における沸点が100℃以下の溶媒を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶媒を少量含有することが好ましい。
本発明の光学フィルムは、本発明の硬化性組成物を硬化してなる機能層を少なくとも1層有する。
本発明の光学フィルムは、支持体上に一層以上の機能層を積層した光学フィルムであり、ハードコート層のみのハードコートフィルムや、低屈折率層のみの反射防止フィルムなどのように単層構成でもよく、また、高屈折率層/中屈折率層/低屈折率層と積層した反射防止フィルム、帯電防止層/ハードコート層と積層したハードコートフィルムなどのように多層構成でもよいが、好ましくは多層構成の形態である。
本発明の反射防止フィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。
・支持体/低屈折率層、
・支持体/帯電防止層/低屈折率層、
・支持体/防眩層/低屈折率層、
・支持体/防眩層/帯電防止層/低屈折率層、
・支持体/帯電防止層/防眩層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/防眩層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/防眩層/帯電防止層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/帯電防止層/防眩層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/帯電防止層/高屈折率層/低屈折率層、
・支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・支持体/防眩層/高屈折率層/低屈折率層、
・支持体/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・支持体/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・帯電防止層/支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・支持体/帯電防止層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・帯電防止層/支持体/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・帯電防止層/支持体/防眩層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層。
上記反射防止フィルムの層構成以外で、本発明の光学フィルムとして好ましい層構成の例を下記に示す。
・支持体/帯電防止層、
・支持体/防眩層、
・支持体/防眩層/帯電防止層、
・支持体/帯電防止層/防眩層、
・支持体/ハードコート層、
・支持体/ハードコート層/帯電防止層、
・支持体/ハードコート層/防眩層、
・支持体/ハードコート層/防眩層/帯電防止層、
・支持体/ハードコート層/帯電防止層/防眩層、
・支持体/帯電防止層/ハードコート層、
・支持体/防眩層/ハードコート層、
・帯電防止層/支持体/ハードコート層、
・帯電防止層/支持体/防眩層。
率層(最外層)5の順序の層構成を有する。透明支持体2、中屈折率層6、高屈折率層4及び低屈折率層5は、以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
数式(3):(iλ/4)×0.7<n2d2<(iλ/4)×1.3
数式(4):(jλ/4)×0.7<n3d3<(jλ/4)×1.3
数式(3−1):(iλ/4)×0.75<n2d2<(iλ/4)×0.95
数式(4−1):(jλ/4)×0.95<n3d3<(jλ/4)×1.05
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層について以下に説明する。
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.49であり、好ましくは1.30〜1.44の範囲にある。さらに、低屈折率層は、上記のように下記数式(4)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
なお、上記数式(4)を満たすとは、上記波長の範囲において数式(4)を満たすj(正の奇数、通常1である)が存在することを意味している。
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、必要に応じて、支持体の表面に設けるものである。特に、支持体と高屈折率層(又は中屈折率層)の間に設けることが好ましい。またハードコート層は、層中に上記の高屈折率粒子などを含有させることにより、高屈折率層を兼ねることもできる。また、ハードコート層だけを支持体の表面に形成して、ハードコートフィルムを作製することもできる。
(バインダー)
ハードコート層が本発明の光学フィルムの最表面の機能層である場合は、以下に示すハードコート層用材料の他に、前記本発明の硬化性組成物の成分(A)であるポリシロキサン構造含有共重合体を加えることが好ましい。ハードコート層が本発明の光学フィルムの最表面の機能層でない場合は、該成分(A)は加えない方が好ましい。
なお本明細書においては、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を表す。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。これら重合開始剤としては、本発明の成分(D)として前記した光ラジカル重合開始剤及び熱ラジカル重合開始剤を挙げることができる。
使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
ハードコート層には、防眩性付与の目的で、無機微粒子より大きく、平均粒径が0.1〜5.0μm、好ましくは1.5〜3.5μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子が含有させることができる。
マット粒子の形状は、真球又は不定形のいずれも使用できる。
2種類以上のマット粒子を用いる場合には両者の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために屈折率の差が0.02以上、0.10以下であることが好ましく、0.03以上、0.07以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸(防眩性に寄与)により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子より小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
ハードコート層には、層の屈折率を高めるため、及び硬化収縮を低減するために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機微粒子が含有されることが好ましい。
[防眩層]
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
マット粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。
止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
本発明の反射防止フィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性を高めることができる。
さらに本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
無機粒子は、分散剤の存在下で分散媒体中に分散するのがよい。
に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体(例えば、前記の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物(例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
本発明においては、帯電防止層を設けることが反射防止フィルム表面での静電気防止の点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、又は透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性層は、支持体に直接、又は支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止フィルムの一部として使用することもで
きる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。
本発明の反射防止フィルムの最表面には防汚層を設けることができる。防汚層は反射防止フィルムの表面エネルギーを下げ、親水性又は親油性の汚れを付きにくくするものである。
本発明の光学フィルム、例えば反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル{例えば、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム(株)製“TAC−TD80U”、“TAC−TD80UF”等}、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂{「アートン」(商品名)、JSR(株)製}、非晶質ポリオレフィン{「ゼオネックス」(商品名)、日本ゼオン(株)製}などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
本発明の光学フィルムを画像表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。光学フィルムの支持体がトリアセチルセルロースの場合は、偏光板の偏光膜を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の光学フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
(2)支持体上に機能層を形成する前又は後に、アルカリ液を光学フィルムの機能層を形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗及び/又は中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
本発明の光学フィルムは、以下の方法で形成することができるが、この方法に制限され
ない。
〔偏光板〕
偏光板は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の光学フィルムは、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。本発明の光学フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の光学フィルム、特に反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。
本発明の画像表示装置は、前記光学フィルム、反射防止フィルム又は前記偏光板をディスプレイの最表面に用いたものである。例えば、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた態様では、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、
(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル{“SID97,Digest of tech.Papers”(予稿集)、28集(1997年)、p.845記載}、
(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル{日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載}及び、
(4)SURVAIVALモードの液晶セル(「LCDインターナショナル98」で発表)が含まれる。
〔各種塗布液の調製〕
[帯電防止層用塗布液の調製]
「ペルトロンC−4456−S7」 100質量部
市販のATO分散ハードコート剤、日本ぺルノックス(株)製、固形分:45%
シクロヘキサノン 30質量部
メチルエチルケトン 10質量部
“KBM−5103” 1.5質量部
シランカップリング剤、信越化学工業(株)製、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
(ハードコート層用塗布液の調製)
“DPHA” 25.4質量部
日本化薬(株)製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
メチルイソブチルケトン 40.0質量部
プロピレングリコール 6.3質量部
「イルガキュア184」 1.3質量部
重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製
“KBM−5103” 5.2質量部
シランカップリング剤、信越化学工業(株)製
“CAB−531−1” 0.50質量部
セルロースアセテートブチレート、イーストマンケミカル(株)製
架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子 21.0質量部
共重合組成比=50/50、屈折率1.536、平均粒径3.5μm、30質量%メチルイソブチルケトン分散液
“DPHA” 25.4質量部
日本化薬(株)製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物
メチルイソブチルケトン 40.0質量部
プロピレングリコール 6.3質量部
「イルガキュア184」 1.3質量部
重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製
“KBM−5103 5.2質量部
シランカップリング剤、信越化学工業(株)製
“CAB−531−1” 0.50質量部
セルロースアセテートブチレート(分離量40,000)、イーストマンケミカル(株)製
“KZ7973” 100質量部
市販のジルコニア超微粒子分散ハードコート剤、JSR(株)製、固形分50質量%、屈折率1.69
「ブライト20GNR4.6−EH」 0.1質量部
導電性粒子、日本化学工業(株)製、金及びニッケルでメッキしたベンゾグアナミン・メラニン・ホルムアルデヒド縮合物球状粉体
ポリシロキサン構造・水酸基含有共重合体(P−1) 3質量部
“PET−30” 540.0質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、日本化薬(株)製、
ポリメタクリル酸メチル溶液(20質量%) 300.0質量部
「イルガキュア184」 20.0質量部
重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製
架橋ポリスチレン粒子 17.0質量部
平均粒径8.0μm、30質量%トルエン分散液
架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子 133.0質量部
平均粒径8.0μm、30質量%トルエン分散液
トルエン 47.0質量部
シクロヘキサノン 98.0質量部
シリコーンオイル「X−22−164C」 0.1質量部
ポリシロキサン構造・水酸基含有共重合体(P−1) 32.4質量部
上記混合液を攪拌した後、孔径10μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液(HC−4)を調製した。
{オルガノシラン化合物(ゾル液a)の調製}
ゾル液aは以下のように作製する。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン{“KBM−5103”、信越化学工業(株)製}100質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3質量部を加え混合した。次いでこれにイオン交換水30質量部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100質量%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。固形分の濃度が29質量%になるようにメチルエチルケトンで調節してゾル液aとした。
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径40nm、シェル厚み6nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.30、特開2002−79616号公報の調製例4に準じてサイズを変更して作製)500質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン{“KBM−5103”、信越化学工業(株)製}30質量部、トリメチルメトキシシラン2質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5質量部加え混合した後に、イオン交換水を9質量部加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8質量部を添加した。
{低屈折率層用塗布液(Ln1)〜(Ln44)}
下記表3に示す各成分を混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分6質量%に調製し攪拌した後、孔径10μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液(Ln1〜Ln44)を作製した。表3中の数字は各成分の固形分の質量部を表す。
実施例3−1
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士写真フイルム(株)製}を、ロール形態で巻き出して、直接、上記のハードコート層形成用塗布液(HC−1)を、線数180本/in、深度40μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールと、ドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数30rpm、搬送速度30m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度0.1体積%で160W/cmの「空冷メタルハライドランプ」{アイグラフィックス(株)製}を用いて、照度400mW/cm2、照射量110mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成し、巻き取った。
実施例3−1において、低屈折率層用塗布液(Ln1)を用いる代わりに、低屈折率層形成用塗布液(Ln2)〜(Ln44)をそれぞれ用いて低屈折率層を形成する以外は実施例3−1と同様にして、反射防止フィルム(102)〜(144)をそれぞれ作製した。得られたそれぞれの反射防止フィルムに用いられた、ハードコート層形成用組成物及び低屈折率層形成用組成物の組み合わせを表4に示す。
実施例3−1において、ハードコート層形成用塗布液(HC−1)を用いる代わりに、ハードコート層形成用塗布液(HC−2)を用いてハードコート層を形成し、低屈折率層
用塗布液(Ln1)を用いる代わりに、低屈折率層形成用塗布液(Ln20)を用いて低屈折率層を形成する以外は実施例3−1と同様にして、反射防止フィルム(145)を作製した。得られたそれぞれの反射防止フィルムに用いられた、ハードコート層形成用組成物及び低屈折率層形成用組成物の組み合わせを表4に示す。
実施例3−41において、低屈折率層用塗布液(Ln20)を用いる代わりに、低屈折率層形成用塗布液(Ln28)、(Ln29)又は(Ln38)を用いて低屈折率層を形成する以外は実施例3−41と同様にして、反射防止フィルム(146)〜(148)をそれぞれ作製した。得られたそれぞれの反射防止フィルムに用いられた、ハードコート層形成用組成物及び低屈折率層形成用組成物の組み合わせを表4に示す。
得られた反射防止フィルム(101)〜(148)は、以下の鹸化標準条件で処理・乾燥した。
(1)アルカリ浴:1.5mol/L水酸化ナトリウム水溶液、55℃−120秒
(2)第1水洗浴:水道水、60秒
(3)中和浴:0.05mol/L硫酸、30℃−20秒
(4)第2水洗浴:水道水、60秒
(5)乾燥:120℃−60秒
このようにして得られた鹸化済みの反射防止フィルムを用いて、以下の評価を行った。得られた結果を表4に示す。
ラビングテスターを用いて、以下の条件で各反射防止フィルム試料の擦りテストを行った。
評価環境条件:25℃、60%RH、
擦り材:試料と接触するテスターの擦り先端部(1cm×1cm)にスチールウール“No.0000”{(株)日本スチールウール製}を巻いて、動かないようバンド固定した。その上で下記条件の往復擦り運動を与えた。
移動距離(片道):13cm、擦り速度:13cm/秒、
荷重:200g/cm2、
先端部接触面積:1cm×1cm、
擦り回数:10往復。
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、擦り部分の傷を、以下の基準で評価した。
○:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△:弱い傷が見える。
△×:中程度の傷が見える。
×:一目見ただけで分かる傷がある。
ラビングテスターを用いて、以下の条件で各反射防止フィルム試料の擦りテストを行った。
評価環境条件:25℃、60%RH
擦り材:試料と接触するテスターの擦り先端部(1cm×1cm)にプラスチック消しゴム{(株)トンボ鉛筆製“MONO”}を固定した。
移動距離(片道):4cm、擦り速度:2cm/秒、荷重:500g/cm2、先端部接触面積:1cm×1cm、
擦り回数:100往復。
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、擦り部分の傷を、以下の基準で評価した。
○:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△:弱い傷が見える。
△×:中程度の傷が見える。
×:一目見ただけで分かる傷がある。
××:一面膜が傷ついている。
サンシャインウエザーメーター“S−80”{スガ試験機(株)製}を用いて、サンシャインカーボンアーク灯、60%RH、200時間の露光後の各反射防止フィルム試料を、温度25℃、60%RHの条件で2時間調湿した。各試料の低屈折率層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを1mm間隔で入れて、合計100個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ“No.31B”を貼りつけた。30分経時した後に、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記4段階の基準で評価した。同じ密着評価を3回行って平均をとった。
◎:100升において剥がれが全く認められなかった。
○:100升において1〜2升の剥がれが認められた。
△:100升において3〜10升の剥がれが認められた(許容範囲内)。
×:100升において11升以上の剥がれが認められた。
表面の耐汚染性の指標として、各反射防止フィルム試料を温度25℃、60%RHで2時間調湿した後、サンプル表面に「マジックインキ」(商品名)を付着させてから、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状態を観察して、以下のように「マジックインキ」付着性を評価した。
◎:「マジックインキ」の跡が完全に拭き取れる。
○:「マジックインキ」の跡がわずかに見える。
△:「マジックインキ」の跡が少し見える。
×:「マジックインキ」の跡がほとんど拭き取れない。
実施例4−1
80μmの厚さのトリアセチルセルロース“TAC−TD80U”{富士写真フイルム(株)製}をロール形態で巻きだして、帯電防止層用塗布液(AS−1)を塗布し、70℃にて1分間乾燥させた後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を100mJ/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ約0.2μmの帯電防止層を形成した。
80μmの厚さのトリアセチルセルロース“TAC−TD80U”{富士写真フイルム(株)製}をロール形態で巻きだして、前記実施例1−2で作製したハードコート層用塗布液(HC−4)を塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を150mJ/cm2として塗布層を硬化させ、厚さ25μmの防眩層を持つハードコートフィルム(202)を作製した。
得られたハードコートフィルムについて、上記の反射防止フィルムの場合と同様にして鹸化処理を行い、次いで得られた鹸化済みのハードコートフィルムを用いて、反射防止フィルムと同様の評価を行った。得られた結果を表5に示す。
実施例5−1
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実施例3−1で作製した反射防止フィルム(101)の鹸化処理済みのものに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、該反射防止フィルムの支持体(トリアセチルセルロース)側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、ディスコティック構造単位の円盤面が支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と支持体面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向において変化している光学異方性層を有する視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムSA」{富士写真フイルム(株)製}を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして光学フィルム付き偏光板(HB−1)を作製した。
実施例5−1において、実施例3−1で作製した反射防止フィルム(101)を用いる代わりに、実施例3−2〜3−44及び比較例3−1〜3−4で作製した反射防止フィルム(102)〜(148)をそれぞれ用いる以外は実施例5−1と同様にして、光学フィルム付き偏光板(HB−2)〜(HB−48)をそれぞれ作製した。
実施例5−1において、実施例3−1で作製した反射防止フィルム(101)を用いる代わりに、実施例4−1又は4−2で作製したハードコートフィルム(201)又は(202)を用いる以外は実施例5−1と同様にして、光学フィルム付き偏光板(HB−49)及び(HB−50)をそれぞれ作製した。
実施例7−1〜7−44及び比較例7−1〜7−2
上記実施例3−1〜3−44及び比較例3−1〜3−4で作製した反射防止フィルム(101)〜(148)の鹸化済みのものを、それぞれ、日本電気(株)より入手したパーソナルコンピューター“PC9821NS/340W”の液晶ディスプレイ表面に貼り付け、画像表面装置サンプルを作製した。
実施例7−1において、実施例3−1で作製した反射防止フィルム(101)を用いる代わりに、実施例4−1又は4−2で作製したハードコートフィルム(201)又は(202)を用いる以外は実施例7−1と同様にして、画像表面装置サンプルを作製した。
1b:反射防止フィルム
2:透明支持体
3:ハードコート層
4:高屈折率層
5:低屈折率層(最外層)
6:中屈折率層
Claims (12)
- 成分(E)の無機微粒子がシリカ微粒子である請求項1又は請求項2に記載の硬化性組成物。
- シリカ微粒子が、平均粒子径が30nm以上150nm以下の中空シリカ微粒子である請求項3に記載の硬化性組成物。
- 一般式(3)において、上記一般式(1)で表されるポリシロキサン構造を含む構成単位X31のモル分率(%)xが、50≦x<100を満たす請求項5に記載の硬化性組成物。
- 成分(B)のエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物が多官能(メタ)アクリレートモノマーである請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性組成物。
- 成分(B)のエチレン性不飽和基を1分子中に少なくとも1個有する化合物が、下記一般式(4)で表される含フッ素共重合体である請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性組成物。
一般式(4):
- 請求項1〜8のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化してなる機能層を少なくとも1層有する光学フィルム。
- 機能層が低屈折率層であり、光学フィルムが光学干渉による反射防止機能又は防眩機能を有する請求項9記載の光学フィルム。
- 請求項9又は10に記載の光学フィルムが、偏光板における偏光膜の2枚の保護フィルムのうちの一方に用いられている偏光板。
- 請求項9もしくは10に記載の光学フィルム、又は請求項11に記載の偏光板がディスプレイの最表面に用いられている画像表示装置。
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