JP2008085205A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ゲート長の異なるMISFET間のしきい値のばらつきを抑制した半導体装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 半導体基板100の第一及び第二領域112、113上にゲート絶縁膜103及びダミー層111を形成し、ダミー層111を加工して第一のダミーゲート114と第一のダミーゲート114よりゲート長の長い第二のダミーゲート115を形成。第一及び第二のダミーゲート114、115を利用してダミー絶縁層116を形成し、第一及び第二のダミーゲート114、115を除去してダミー絶縁層116に第一と第二の開口部117、118を形成し、第一の開口部117全体及び第二の開口部118の一部に第一の導電膜107を形成し、第二の開口部118に第一の導電膜107とは異なる仕事関数の第二の導電膜108を、第一領域112上に第一のMISFET105、第二領域113上に第二のMISFET106とを形成する。
【選択図】図1
【解決手段】 半導体基板100の第一及び第二領域112、113上にゲート絶縁膜103及びダミー層111を形成し、ダミー層111を加工して第一のダミーゲート114と第一のダミーゲート114よりゲート長の長い第二のダミーゲート115を形成。第一及び第二のダミーゲート114、115を利用してダミー絶縁層116を形成し、第一及び第二のダミーゲート114、115を除去してダミー絶縁層116に第一と第二の開口部117、118を形成し、第一の開口部117全体及び第二の開口部118の一部に第一の導電膜107を形成し、第二の開口部118に第一の導電膜107とは異なる仕事関数の第二の導電膜108を、第一領域112上に第一のMISFET105、第二領域113上に第二のMISFET106とを形成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置、特にMISFET(Metal Insulator Semiconductor Field Effect Transistor)を有する半導体装置に関する。
近年、MISFETのゲート電極を2層以上の異なる導電膜により構成することにより、MISFETの仕事関数を所望の値に変調させる技術が知られている(例えば、非特許文献1参照。)。
しかしながら、ゲート長が異なる複数のMISFETを有する半導体装置において、複数のMISFETがそれぞれ同一の導電材料により構成される積層ゲート電極を有する場合、ゲート長の異なるMISFET間においてゲート長の差異に起因するしきい値のばらつきがみられる恐れがある。特に、ゲート長が微小であるn型MISFETでは、いわゆる短チャネル効果により、他のMISFETに比較して、しきい値が大きく低下する恐れがある。
S.H.Bae et al., VLSI Tech. Symp., p.188, 2004.
S.H.Bae et al., VLSI Tech. Symp., p.188, 2004.
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、ゲート長の異なるMISFET間におけるしきい値のばらつきを抑制した半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の一態様の半導体装置の製造方法は、半導体基板の第一及び第二領域上にゲート絶縁膜及びダミー層を積層形成する工程と、前記ダミー層を加工して、前記第一領域上の前記ゲート絶縁膜上に第一のダミーゲートを、前記第二領域上の前記ゲート絶縁膜上に前記第一のダミーゲートよりもゲート長の長い第二のダミーゲートを形成する工程と、前記第一及び第二のダミーゲートをマスクにして前記ゲート絶縁膜を加工する工程と、前記半導体基板上に前記第一及び第二のダミーゲートを覆うようにダミー絶縁層を形成し、前記ダミー絶縁層を研磨除去して前記第一及び第二のダミーゲートを露出する工程と、露出させた前記第一及び第二のダミーゲートを除去して、それぞれ第一及び第二の開口部を形成する工程と、前記ダミー絶縁層上、前記第一の開口部全体及び第二の開口部の一部に、第一の導電膜を形成する工程と、前記第二の開口部全体を埋め込むように、前記第一の導電膜上に前記第一の導電膜とは異なる仕事関数を有する第二の導電膜を少なくとも形成する工程と、前記第一及び第二の開口部外部の前記第二及び前記第一の導電膜を研磨除去して、前記第一領域上に第一のMISFETを、前記第二領域上に第二のMISFETを形成する工程を備えることを特徴とする。
また、本発明の別の態様の半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に形成された第一の導電膜をゲート電極とする第一のMISFETと、前記ゲート絶縁膜上に形成された前記第一の導電膜及び前記第一の導電膜上に形成された第二の導電膜を少なくとも含む積層構造をゲート電極とし、前記第一のMISFETよりもゲート長が長い第二のMISFETを備え、前記第一及び第二のMISFETがn型の場合には、前記第一の導電膜は前記第二の導電膜よりも仕事関数が大きく、前記第一及び第二のMISFETがp型の場合には、前記第一の導電膜は前記第二の導電膜よりも仕事関数が小さいことを特徴とする。
本発明によれば、ゲート長の異なるMISFET間におけるしきい値のばらつきを抑制した半導体装置及びその製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施形態に係る半導体装置およびその製造方法について図面を参照して説明する。
まず、図1を参照して、本実施例に係る半導体装置の構成について説明する。図1(a)は、本実施例に係る半導体装置の構成を示す断面図である。
図1(a)に示したように、本実施例に係る半導体装置は、単結晶シリコン等の半導体基板100上に、ゲート長の異なる2以上のMISFETが形成された半導体装置である。なお、図1(a)では、本実施例に係る半導体装置のうち、ゲート長の異なる代表的な二つのn型MISFETを示している。
半導体基板100表面部には、シリコン酸化膜等の素子分離(図示を省略)により、素子形成領域が区画形成されている。素子形成領域は、例えばp型の不純物イオンであるボロン、インジウム等が注入されたウェル層101と、例えばn型の不純物イオンであるリン、砒素等が注入されたソース/ドレイン層102が形成されている。また、半導体基板100表面において離間して形成されているソース/ドレイン層102間のウェル層101上には、シリコン酸化膜等を構成材料とする薄膜のゲート絶縁膜103が形成されている。
半導体基板100上の各MISFETは、それぞれのゲート絶縁膜103上に、導電膜により構成されたゲート電極104を有している。ここで、図1に示したゲート長が短い方のMISFETである第一のMISFET105のゲート長は約40nmであり、ゲート長が長い方のMISFETである第二のMISFET106のゲート長は約200nmである。
第一のMISFET105のゲート電極104は、TiN膜等の金属膜(第一の導電膜107)で構成されている。一方、第二のMISFET106のゲート電極104は、第一のMISFET105と同種のTiN膜等の第一の導電膜107と、この第一の導電膜107上に形成されたドープドポリシリコン膜等の第二の導電膜108とによって構成されている。なお、図1(a)に示すように、本実施例における積層ゲート構造の第二のMISFET106では、後に説明するダマシン法によりゲート電極104を形成しているため、ゲート電極104の第一の導電膜107が、第二の導電膜108の下面及び側面と接する構成となっている。
また、第一及び第二のMISFET105、106のゲート電極104の側部には、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜等を材料とするゲート側壁絶縁膜109が形成されている。半導体基板100上には、シリコン酸化膜等の層間絶縁層110が形成されており、第一及び第二のMISFET105、106はその周囲において層間絶縁層110と隣接している。
本実施例に係る半導体装置では、第一の導電膜107に使用されるTiN膜の仕事関数は約4.3eVであり、第二の導電膜108に使用されるポリシリコン膜の仕事関数は、第一の導電膜107の仕事関数未満としている。このとき、第二のMISFET106では、ゲート電極104の下部の第一の導電膜107が、例えば50nm程度以下の薄膜であるため、ゲート電極104の実効仕事関数は、第一の導電膜107上に積層された第一の導電膜107よりも仕事関数の低い第二の導電膜108の仕事関数の影響を受けることになる。このため、ゲート長が短い第一のMISFET105の実効仕事関数は、4.3eV程度となるが、ゲート長が長い第二のMISFET106の実効仕事関数は、第一の導電膜107の仕事関数よりも低く、4.3eV未満となる。
一般に、MISFETのゲート長が微小になりチャネル領域が狭くなると、ドレイン層近傍の電界が増大し、チャネル領域の基板方向の電界が増加する、いわゆる短チャネル効果により、しきい値が大きく低下する恐れがある。従って、基板上にそれぞれ同一の実効仕事関数を有する2以上のゲート長の異なるMISFETが形成されている半導体装置では、ゲート長が短いMISFETのしきい値が、ゲート長の長いMISFETのしきい値に比較して、大きく低下することにより、それらのMISFET間でしきい値がばらつく恐れがある。
これに対して、本実施例に係る半導体装置では、ゲート長が短い第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数を、ゲート長が長い第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数よりも高くしているため、ゲート長が長い第二のMISFET106に対するゲート長の短い第一のMISFET105のしきい値の低下を抑制することが可能となる。
ここで以下に、図2を参照して、ゲート電極構造の異なる二つのMISFETのゲート長の変化によるしきい値の低下量(ΔVth)を示すシミュレーション結果について説明する。
シミュレーションに使用したMISFETは、一方は仕事関数4.7eVのRu膜のみをゲート電極として使用したn型MISFET(MISFET1)であり、他方はRu膜とRu膜上に形成された仕事関数4.3eVのTiN膜との積層構造をゲート電極としたn型MISFET(MISFET2)である。このとき、MISFET2のゲート電極であるRu膜は50nm以下の薄膜であるため、MISFET2のゲート電極の実効仕事関数は、上層のゲート電極であるTiN膜の影響を受け、Ru膜のみから構成されるMISFET1のゲート電極の仕事関数よりも低くなる。
図2は、上記二つのMISFETのゲート長を200nmから40nmまで変化させたときのそれぞれのしきい値の低下量(ΔVth)を示している。図2に示した結果によれば、MISFET1はMISFET2に比較して、ゲート長の短縮に伴うVthの低下量が小さいことがわかる。つまり、ゲート電極の実効仕事関数がMISFET2よりも高いMISFET1は、ゲート長の短縮に伴うVthの低下(短チャネル効果)を抑制できることがわかる。
従って、本実施例に係る半導体装置では、ゲート長の異なる複数のMISFETのうちゲート長の短いMISFETのゲート電極を一層の導電膜で形成して、二層の導電膜で構成されるゲート長の長いMISFETに対して実効仕事関数を局所的に増加させることにより、ゲート長の短いMISFETの短チャネル効果を抑制し、ゲート長の長いMISFETとゲート長の短いMISFETにおけるしきい値の差を低減することができる。
またさらに、本実施例に係る半導体装置では、ゲート長が長い第二のMISFET106は、TiN膜とポリシリコン膜が積層されたゲート電極104を有している。このように、下層のTiN膜に上層のポリシリコン膜を積層することで、TiN膜の層間絶縁膜等との接触面積を低減することができ、TiN膜の酸化・還元を防止することができる。
さらに、第二のMISFET106のゲート電極材料であるポリシリコン膜に高濃度の不純物イオンをドープすることで、第二のMISFET106のゲート電極104の抵抗を低減することも可能になる。
次に、図3を参照して、本実施例に係る半導体装置の製造方法を説明する。図3は、本実施例に係る半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
まず、図3(a)に示すように、半導体基板100表面に素子分離(図示を省略)を形成した後、半導体基板100表面の素子形成領域にp型不純物イオン、例えばボロン、インジウム等を注入し、さらに熱処理を施して、しきい値電圧を調整したウェル層101を形成する。その後、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等により、半導体基板100上にシリコン酸化膜等のゲート絶縁膜103を形成した後、ゲート絶縁膜103上にポリシリコン膜等のダミー層111を形成する。なおここで、半導体基板100表面の素子形成領域のうち、ゲート長の短いMISFETを形成する領域を第一領域112、ゲート長の長いMISFET106を形成する領域を第二領域113とする。
次に、図3(b)に示すように、フォトリソグラフィにより、ダミー層111上にレジスト膜(図示を省略)を形成して、レジスト膜を加工してゲート形成用パターンを形成する。さらに、RIE(Reactive Ion Etching)により、レジスト膜をマスクにしてダミー層111をエッチング加工し、半導体基板100の第一領域112上のゲート絶縁膜103上に第一のダミーゲート114を、第二領域113上のゲート絶縁膜103上に第一のダミーゲート114よりもゲート長の長い第二のダミーゲート115を形成する。このとき、第一のダミーゲート114及び第二のダミーゲート115のゲート長は、それぞれ40nm、200nm程度とする。
次に、図3(c)に示すように、第一及び第二のダミーゲート114、115をマスクにしてゲート絶縁膜103を加工し、第一及び第二のダミーゲート114、115側部に位置するゲート絶縁膜103を除去する。さらに、第一及び第二のダミーゲート114、115側部に位置する半導体基板100表面の第一及び第二領域112、113にn型不純物イオン、例えば砒素を1×1015cm−3程度の濃度となるように注入し、RTA(Rapid Thermal Annealing)により900℃/5s程度のアニールを行って、エクステンション層となる浅いソース/ドレイン層102aをそれぞれ形成する。
さらに、CVD法等により、半導体基板100上にシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等を形成した後、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜等をエッチバックして、第一及び第二のダミーゲート114、115側面にシリコン酸化膜、シリコン窒化膜等のゲート側壁絶縁膜109を形成する。
続いて、第一及び第二のダミーゲート114、115及びゲート側壁絶縁膜109をマスクにして、半導体基板100表面にn型不純物イオン、例えばリンを5×1015cm−3程度の濃度となるように注入し、さらにスパイクアニールで活性化して、深いソース/ドレイン層102bをそれぞれ形成する。
次に、図3(d)に示したように、CVD法等により、半導体基板100上に第一及び第二のダミーゲート114、115を覆うようにシリコン酸化膜等のダミー絶縁層116を形成した後、CMP(Chemical mechanical Polishing)により、ダミー絶縁層116を研磨除去して第一及び第二のダミーゲート114、115を露出する。
次に、図3(e)に示したように、露出させた第一及び第二のダミーゲート114、115をエッチング除去して、それぞれ第一領域112上には第一の開口部117、第二領域113上には第二の開口部118を形成する。
次に、図3(f)に示すように、スパッタ法等により、ダミー絶縁層116上、第一及び第二の開口部117、118内部に、TiN膜等の第一の導電膜107を形成する。ここで、第一の導電膜107は、その膜厚が例えば50nm程度となるように、層間絶縁層110上、第一の開口部117全体及び第二の開口部118の一部(側部及び底部)に形成される。このとき、第一の開口部117は第二の開口部118よりも狭いため、第一の導電膜107を第二の開口部118全体に埋め込むことなく、第一の開口部117全体に埋め込むことができる。
次に、図3(g)に示すように、第一の導電膜107上に、第二の導電膜108、例えばボロン原子等のp型不純物イオンをドープしたポリシリコン膜を形成する。ここで、第二の導電膜108は、例えば膜厚50nm程度とし、第二の開口部118全体を埋め込むように形成される。
次に、図3(h)に示すように、CMPにより、第一及び第二の開口部117、118外部の第二及び第一の導電膜108、107を順に研磨除去して、さらにダミー絶縁層116を希フッ化水素酸等で剥離した後、再度半導体基板100上に第一及び第二のMISFET105、106を覆うようにシリコン酸化膜等の層間絶縁層110を形成する。その後、CMPにより第一及び第二のMISFET105、106上方に形成された層間絶縁層110を研磨除去する。
これにより、半導体基板100の第一領域112上には、第一の導電膜107をゲート電極104とするゲート長の短い第一のMISFET105が、第二領域113上には、第一の導電膜107及び第二の導電膜108の積層構造をゲート電極104とするゲート長の長い第二のMISFET106が形成される。
なお本実施例では、ソース/ドレイン層102及びゲート側壁絶縁膜109を、図3(c)に示す工程により形成しなくても、この図3(h)に示す工程において、ダミー絶縁層116を剥離した後、層間絶縁層110を形成する前に形成してもよい。
以上の工程により製造される本実施例に係る半導体装置では、ゲート長の短い第一のn型MISFET105のゲート電極104が、第一の導電膜107のみで構成されるのに対し、ゲート長の長い第二のn型MISFET106のゲート電極104が、第一の導電膜107及び第一の導電膜107よりも仕事関数の低い第二の導電膜108の積層構造として構成される。このため、第一のMISFET105のゲート電極104の仕事関数は、第一の導電膜107の仕事関数と同等となるが 第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数は、第二の導電膜108の仕事関数の影響を受けるため、第一の導電膜107の仕事関数よりも低くなる。このように、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104の仕事関数を局所的に高くすることで、短チャネル効果によるゲート長の短い第一のMISFET105のしきい値の低下を相対的に抑制することができ、ゲート長の異なるMISFET間のしきい値のばらつきを抑えることができる。
また、通常、二つ以上のMISFETが同一半導体基板上に形成された半導体装置の一部のMISFETのゲート電極材料を変更する場合、全てのMISFETのゲート電極を同一材料により形成した後、一部のMISFETのゲート電極の少なくとも一部を一度エッチング等により除去し、再度ゲート絶縁膜上に他の材料を電気めっき法又はスパッタ法等により形成してゲート電極を再形成する必要がある。
しかし、上述した本実施例に係る製造方法によれば、第一の導電膜107を第一の開口部117全体及び第二の開口部118の一部に埋め込むことによって、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104を第一の導電膜107のみにより構成し、その後第二の導電膜108を第二の開口部118全体に埋め込むことによって、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104を第一及び第二の導電膜107、108により構成することができる。従って、従来技術のように、MISFETに一度形成したゲート電極を除去し、さらに再形成する必要がなく、簡易な方法によりゲート電極材料の異なる複数のMISFETを有する半導体装置を製造することができる。
なお本実施例では、第二のMISFET106のゲート電極104は、第一の導電膜107及び第一の導電膜107上に形成された第二の導電膜108により形成されているが、第二の導電膜108上にさらに他の導電膜を形成し、他の導電膜も含めてゲート電極104を構成してもよい。
このような場合、図3(g)に示した第二の導電膜108の形成工程において、第二の導電膜108により第二の開口部118全体を埋め込まずに、さらに他の導電膜を第二の導電膜108上に形成して、第二の開口部118全体を埋め込むことにより、第二のMISFET106のゲート電極104を構成する。
このような構成であっても、ゲート長の短い第一のn型MISFET105のゲート電極104の実効仕事関数を、ゲート長の長い第二のn型MISFET106のゲート電極104の実効仕事関数よりも大きくすれば、ゲート長の短いMISFETの短チャネル効果を防ぎ、ゲート長の異なるMISFET間のしきい値のばらつきを抑えることができる。
また、本実施例では、ゲート長の異なる第一及び第二のMISFET105、106をともにn型MISFETとしているが、第一及び第二のMISFET105、106をp型としてもよい。第一及び第二のMISFET105、106がp型MISFETであれば、第一の導電膜107には第二の導電膜108よりも仕事関数が小さい導電材料を使用する。これにより、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数が、第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数よりも小さくなり、ゲート長の短い第一のMISFET105の短チャネル効果を抑制することができる。
また本実施例では、第一の導電膜107としてTiN膜、第二の導電膜108としてポリシリコン膜を使用しているが、それぞれの材料として他の導電材料を使用してもよい。例えば、第一のMISFET105がn型MISFETであれば、第一の導電膜107にNiSi膜、Ni膜、Mo膜等、第二の導電膜108に第一の導電膜107の仕事関数よりも低い仕事関数を有するTa膜、TaN膜、Ti膜、TiSi膜等を使用し、第一のMISFET105がp型MISFETであれば、第一の導電膜107にTiN膜、NiSi膜、Ni膜、Mo膜等、第二の導電膜108に第一の導電膜107の仕事関数よりも高い仕事関数を有するPt膜、Ru膜等を使用することができる。
(実施例1の変形例)
図1を参照して、上述の実施例1に係る半導体装置の変形例を説明する。図1(b)は、本変形例の半導体装置の断面図である。本変形例に係る半導体装置が、実施例1に係る半導体装置と異なる点は、ゲート長の短いMISFETのゲート電極が導電材料の積層構造である点であり、実施例1の半導体装置及びその製造方法と同一部分には同一符号を付して同一部分の説明は省略する。
図1を参照して、上述の実施例1に係る半導体装置の変形例を説明する。図1(b)は、本変形例の半導体装置の断面図である。本変形例に係る半導体装置が、実施例1に係る半導体装置と異なる点は、ゲート長の短いMISFETのゲート電極が導電材料の積層構造である点であり、実施例1の半導体装置及びその製造方法と同一部分には同一符号を付して同一部分の説明は省略する。
本変形例に係る半導体装置では、図1(b)に示したように、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104が、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104と同様に、第一の導電膜107及び第一の導電膜107上に形成された第三の導電膜120からなる積層構造となっている。
このように、第一のMISFET105のゲート電極104が、第一の導電膜107及び第三の導電膜120からなる積層構造であっても、第一の導電膜107が、例えば50nm程度以下の薄膜である場合、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数は、第三の導電膜120の仕事関数の影響を受けるため、第一の導電膜107の仕事関数と異なる値となる。
ここで、第一のMISFET105がn型MISFETであれば、第三の導電膜120として、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104に用いられるポリシリコン膜等の第二の導電膜108よりも仕事関数の大きい導電膜、例えばNiSi膜を使用することにより、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数は、第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数よりも大きくすることができ、短チャネル効果を抑制することができる。
反対に、第一のMISFET105がp型MISFETであれば、第三の導電膜120として、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104に用いられるRu膜等の第二の導電膜108よりも仕事関数の小さい導電膜、例えばNiSi膜を使用することにより、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数は、第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数よりも小さくすることができ、短チャネル効果を抑制することができる。
次に、図3及び図4を参照して、本変形例に係る半導体装置の製造方法を説明する。図4は、本変形例に係る半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
本変形例に係る半導体装置は、実施例1の図3に示した製造工程とほぼ同様の工程により製造されるが、第一のMISFET105のゲート電極104の一部となる第三の導電膜120を形成する工程が追加される。
つまり、実施例1の図3(a)〜(e)に示した工程の後、図4(a)に示したように、膜厚50nm程度以下のTiN膜等の第一の導電膜107を第一及び第二の開口部117、118に形成する。このとき、実施例1と異なり、第一の導電膜107は、第一の開口部117全体ではなく、第一の開口部117の一部に形成される。
次に、図4(b)に示すように、第一及び第二の開口部117、118に、第一の導電膜107よりも仕事関数の低いドープドポリシリコン膜等の第二の導電膜108を埋め込む。
次に図4(c)に示すように、フォトリソグラフィにより、第二の導電膜108上にレジスト膜119を形成し、さらに第一領域112上のレジスト膜119のみを剥離する。
次に、図4(d)に示したように、RIEにより、レジスト膜119をマスクにして、第一領域112上の第二の導電膜108をエッチング除去し、さらに残存したレジスト膜119を灰化処理する。
次に、図4(e)に示したように、スパッタ法等により、第一及び第二の導電膜107、108上に第三の導電膜120を形成し、第一の開口部117を第三の導電膜120で埋め込む。
なおこのとき、実施例1に係る半導体装置の製造工程と同じように、第一の開口部117には、第三の導電膜120のみならず、他の導電膜を積層して埋め込むこともできる。
次に、図4(f)に示すように、例えばCMPにより、第一及び第二の開口部117、118外部の第三、第二及び第一の導電膜120、108、107を順に研磨除去する。あるいは、フォトリソグラフィ及びRIEにより、第二領域113上の第三の導電膜120のみを除去して第一及び第二領域112、113の表面高さを揃えてから、CMPにより第二及び第一の導電膜108、107を研磨除去してもよい。
さらにダミー絶縁層116を希フッ化水素酸等で剥離した後、再度半導体基板100上に第一及び第二のMISFET105、106を覆うようにシリコン酸化膜等の層間絶縁層110を形成する。その後、CMPにより第一及び第二のMISFET105、106上方に形成された層間絶縁層110を研磨除去する。
これにより、半導体基板100の第一領域112上には、第一及び第三の導電膜107、120の積層構造をゲート電極104とするゲート長の短い第一のMISFET105が、第二領域113上には、第一及び第二の導電膜107、108の積層構造をゲート電極104とするゲート長の長い第二のMISFET106が形成される。
以上の工程により製造される本変形例に係る半導体装置も、実施例1に係る半導体装置と同様に、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数を、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数に対して適宜変化させることができるため、短チャネル効果によるゲート長の短いMISFET105のしきい値の低下を抑制することができ、ゲート長の異なるMISFET間のしきい値のばらつきを抑えることができる。
また、本変形例に係る半導体装置では、第一及び第二のMISFET105、106のゲート電極104の下層部に使用されている第一の導電膜107上に第三又は第二の導電膜120、108を形成することにより、第一の導電膜107の酸化・還元等を防止して、第一の導電膜107を安定化させることができる。
次に、図5を参照して、実施例2に係る半導体装置の構成について説明する。図5(a)は、本実施例に係る半導体装置の構成を示す断面図である。
本実施例に係る半導体装置が、実施例1に係る半導体装置と異なる主な点は、ゲート電極の構造及びその製造方法にあり、他の構成及び製造方法については実施例1とほぼ同様である。そのため、実施例1の半導体装置及びその製造方法と同一部分には同一符号を付して説明を省略する。
図5(a)に示したように、本実施例に係る半導体装置は、実施例1に係る半導体装置の構成とほぼ同じ構成であるが、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104の構造において異なっている。
つまり、実施例1に係る第二のMISFET106では、ゲート電極104の第一の導電膜107が、第二の導電膜108の下面及び側面と接する構成であるのに対し、本実施例に係る第二のMISFET106では、ゲート電極104の第一の導電膜107が、第二の導電膜108の下面のみと接する構成となっている。
このようなゲート電極104の構造の違いは、ゲート電極104の製造方法の差異によるものである。そこで以下に、図6を参照して、本実施例に係る半導体装置の製造方法を説明する。図6は、本実施例に係る半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
まず、図6(a)に示したように、半導体基板100表面のp型ウェル層101上にゲート絶縁膜103を形成した後、ゲート絶縁膜103上に、例えばTiN膜等の第一の導電膜107を形成する。
次に、図6(b)に示したように、フォトリソグラフィにより、第一の導電膜107上にレジスト膜119を形成し、半導体基板100の第二領域113上のレジスト膜119のみを剥離する。
次に、図6(c)に示したように、RIEにより、第二領域113上の第一の導電膜107の一部をエッチング除去し、第一の導電膜107の膜厚を50nm程度以下に加工する。
次に、図6(d)に示すように、スパッタ法等により、第一の導電膜107上に、例えばドープドポリシリコン膜等の第一の導電膜107よりも仕事関数の小さい第二の導電膜108を形成する。
次に、図6(e)に示すように、第一領域112上及び第二領域113上に形成された導電膜の高さを揃えた後、フォトリソグラフィにより導電膜上にレジスト膜(図示を省略)を形成し、レジスト膜にゲート形成用パターンを形成する。その後、RIEにより、レジスト膜をマスクにして、第二の導電膜108及び第一の導電膜107を順にエッチング加工し、半導体基板100の第一領域112上に第一の導電膜107により構成されるゲート電極104を、第二領域113上に第一及び第二の導電膜107、108により構成される積層構造のゲート電極104を形成する。このとき、第一領域112上に形成されるゲート電極104は、第二領域113上に形成されるゲート電極104よりもゲート長が短くなるように加工される。
次に、図6(f)に示すように、ゲート電極104をマスクにして、ゲート電極104側部の半導体基板100表面にリン等のn型不純物イオンを注入し、熱処理を加えて浅いソース/ドレイン層102aを形成した後、ゲート電極104側部にシリコン酸化膜等のゲート側壁絶縁膜109を形成する。さらに、ゲート電極104及びゲート側壁絶縁膜109をマスクにして、ゲート側壁絶縁膜109側部の半導体基板100表面にさらにn型不純物イオンを注入し、深いソース/ドレイン層102bを形成することにより、第一領域112上に第一のMISFET105及び第二領域113上に第二のMISFET106を形成する。その後、半導体基板100上に第一及び第二のMISFET105、106を覆うようにシリコン酸化膜等の層間絶縁層110を形成し、CMPにより第一及び第二のMISFET105、106上方に形成された層間絶縁層110を研磨除去する。
以上のように、本実施例に係る第二のMISFET106のゲート電極104は、実施例1に係る第二のMISFET106のゲート電極104のように、いわゆるダマシン法により形成していないため、第一の導電膜107上面全体に第二の導電膜108が形成される。
このような構成を有する本実施例に係る半導体装置であっても、実施例1に係る半導体装置と同様に、第二のMISFET106のゲート電極104の下層の第一の導電膜107が薄膜であるため、第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数は、第一の導電膜107よりも仕事関数の低い第二の導電膜108の影響を受ける。
従って、本実施例に係る半導体装置では、ゲート長の短い第一のn型MISFET105のゲート電極104の実効仕事関数が、ゲート長の長い第二のn型MISFET106の積層構造のゲート電極104の実効仕事関数よりも大きくなるため、短チャネル効果によるゲート長の短いMISFET105のしきい値の低下を抑制することができ、ゲート長の異なるMISFET間のしきい値のばらつきを抑えることができる。
また、本実施例に係る半導体装置でも、第二のMISFET106のゲート電極104の下層部の金属膜である第一の導電膜107上に第二の導電膜108を形成することにより、第一の導電膜107の酸化・還元等を防止して、第一の導電膜107を安定化させることができる。
なお、本実施例において、第一又は第二のMISFET105、106をp型MISFETとしてもよい。第一のMISFET105がp型MISFETであれば、第一の導電膜107の仕事関数を第二の導電膜108の仕事関数よりも小さくすることで、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数を第二のMISFET106のゲート電極104の仕事関数よりも小さくする。これにより、ゲート長の短い第一のMISFET105のしきい値の低下を抑えて、ゲート長の異なるMISFET間におけるしきい値のばらつきを抑制することができる。
また、本実施例に係るMISFETの第一及び第二の導電膜107、108には、実施例1に係るMISFETの導電膜と同種の導電膜を使用することができる。
(実施例2の変形例1)
次に、図5を参照して、実施例2の変形例1に係る半導体装置を説明する。図5(b)は、本変形例の半導体装置の断面図である。本変形例に係る半導体装置が、実施例2に係る半導体装置と異なる点は、MISFETのゲート電極の構造であり、実施例2の半導体装置及びその製造方法と同一部分には同一符号を付して同一部分の説明は省略する。
次に、図5を参照して、実施例2の変形例1に係る半導体装置を説明する。図5(b)は、本変形例の半導体装置の断面図である。本変形例に係る半導体装置が、実施例2に係る半導体装置と異なる点は、MISFETのゲート電極の構造であり、実施例2の半導体装置及びその製造方法と同一部分には同一符号を付して同一部分の説明は省略する。
図5(b)に示したように、本変形例に係る半導体装置は、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104も、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104と同様に、第一の導電膜107及び第一の導電膜107上に形成された第三の導電膜120からなる積層構造となっている。
このように、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104が、第一の導電膜107及び第三の導電膜120からなる積層構造であっても、第一の導電膜107を、例えば50nm程度以下の薄膜とすることにより、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数は、第三の導電膜120の影響を受けるため、第一の導電膜107の仕事関数と異なる値となる。
ここで、第一のMISFET105がn型MISFETであれば、第三の導電膜120に、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104に用いられる第二の導電膜108よりも仕事関数の大きい導電膜を使用することにより、反対に、第一のMISFET105がp型MISFETであれば、第三の導電膜120に、第二の導電膜108よりも仕事関数の小さい導電膜を使用することにより、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数を、第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数よりも大きく、或いは小さくすることができ、第一のMISFET105の短チャネル効果を抑制することができる。
本変形例に係る半導体装置の製造方法は、図6に示した実施例2に係る半導体装置の製造方法とほぼ同様であるが、第一のMISFET105のゲート電極104として第一の導電膜107上に第三の導電膜120を形成する点で異なる。
つまり、図6(a)〜図6(d)に示した製造工程により第二の導電膜108を形成した後、フォトリソグラフィ及びRIEにより、第一領域112上に形成された第二の導電膜108及び第一の導電膜107をエッチング加工し、第一領域112上に50nm程度以下に薄く加工した第一の導電膜107のみを形成する。
次に、スパッタ法等により、第一及び第二の導電膜107、108上に第三の導電膜120を形成した後、フォトリソグラフィ及びRIEにより、半導体基板100の第一領域112上に第一及び第三の導電膜107、120により構成される積層構造のゲート電極104を、第二領域113上に第一及び第二の導電膜107、108により構成される積層構造のゲート電極104を形成する。
その後、半導体基板100表面にソース/ドレイン層102、ゲート電極104側部にゲート側壁絶縁膜109、半導体基板100上に層間絶縁層110をそれぞれ形成する。
本変形例に係る半導体装置においても、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数を、ゲート長の長い第二のMISFET106の積層構造のゲート電極104の実効仕事関数に対して適宜変化させることで、ゲート長の短いMISFET105のしきい値の低下を抑制することができ、ゲート長の異なるMISFET間のしきい値のばらつきを抑えることができる。
(実施例2の変形例2)
次に、図5を参照して、実施例2の変形例2に係る半導体装置を説明する。図5(c)は、本変形例に係る半導体装置の断面図である。本変形例に係る半導体装置が、実施例2に係る半導体装置と異なる点は、MISFETのゲート電極の構造であり、実施例2の半導体装置及びその製造方法と同一部分には同一符号を付して同一部分の説明は省略する。
次に、図5を参照して、実施例2の変形例2に係る半導体装置を説明する。図5(c)は、本変形例に係る半導体装置の断面図である。本変形例に係る半導体装置が、実施例2に係る半導体装置と異なる点は、MISFETのゲート電極の構造であり、実施例2の半導体装置及びその製造方法と同一部分には同一符号を付して同一部分の説明は省略する。
本変形例に係る半導体装置では、図5(c)に示したように、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104が、第一の導電膜107及び第一の導電膜107上に形成された第三の導電膜120により構成されており、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104は第一の導電膜107のみによって構成されている。
このとき、ゲート長の短い第一のMISFET105のゲート電極104の第一の導電膜107が、例えば50nm程度以下の薄膜である場合、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数は、第三の導電膜120の影響を受けるため、第一の導電膜107の仕事関数と異なる値となる。
ここで、第一のMISFET105がn型MISFETであれば、第三の導電膜120に、第一の導電膜107よりも仕事関数の大きい導電膜を使用することにより、反対に、第一のMISFET105がp型MISFETであれば、第三の導電膜120に、第一の導電膜107よりも仕事関数の小さい導電膜を使用することにより、第一のMISFET105のゲート電極104の実効仕事関数を、第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数よりも大きく、或いは小さくすることができ、第一のMISFET105の短チャネル効果を抑制することができる。
本変形例に係る半導体装置の製造方法は、図6に示した実施例2に係る半導体装置の製造方法とほぼ同様であるが、実施例2に係る半導体装置の製造方法では、第二領域113上に形成するゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104のみを二層に加工するのに対し、本変形例に係る半導体装置の製造方法では、反対に第一領域112上に形成するゲート長の短いMISFET105のゲート電極104のみを二層に加工する。
本変形例に係る半導体装置でも、ゲート長の短い第一のMISFET105の積層構造のゲート電極104の実効仕事関数を、ゲート長の長い第二のMISFET106のゲート電極104の実効仕事関数に対して適宜変化させることで、ゲート長の短いMISFETのしきい値の低下を抑制することができ、ゲート長の異なるMISFET間のしきい値のばらつきを抑えることができる。
なお、上述した実施例2及びその変形例に係る半導体装置では、MISFETの積層ゲート電極を二層の導電膜からなる積層ゲート電極としているが、実施例1に係る半導体装置と同様、ゲート電極として他の導電膜をさらに積層して、ゲート電極を三層以上の導電膜により構成してもよい。このような構成であっても、ゲート電極104の最下層の導電膜である第一の導電膜107の膜厚を例えば50nm程度以下とし、第一の導電膜107とその上層の導電膜の仕事関数を適宜選定することで、半導体装置のゲート長の短いMISFETにおける短チャネル効果を抑制することができる。
100:半導体基板
103:ゲート絶縁膜
104:ゲート電極
105:第一のMISFET
106:第二のMISFET
107:第一の導電膜
108:第二の導電膜
109:ゲート側壁絶縁膜
110:層間絶縁層
111:ダミー層
112:第一領域
113:第二領域
114:第一のダミーゲート
115:第二のダミーゲート
116:ダミー絶縁層
117:第一の開口部
118:第二の開口部
120:第三の導電膜
103:ゲート絶縁膜
104:ゲート電極
105:第一のMISFET
106:第二のMISFET
107:第一の導電膜
108:第二の導電膜
109:ゲート側壁絶縁膜
110:層間絶縁層
111:ダミー層
112:第一領域
113:第二領域
114:第一のダミーゲート
115:第二のダミーゲート
116:ダミー絶縁層
117:第一の開口部
118:第二の開口部
120:第三の導電膜
Claims (5)
- 半導体基板の第一及び第二領域上にゲート絶縁膜及びダミー層を積層形成する工程と、
前記ダミー層を加工して、前記第一領域上の前記ゲート絶縁膜上に第一のダミーゲートを、前記第二領域上の前記ゲート絶縁膜上に前記第一のダミーゲートよりもゲート長の長い第二のダミーゲートを形成する工程と、
前記第一及び第二のダミーゲートをマスクにして前記ゲート絶縁膜を加工する工程と、
前記半導体基板上に前記第一及び第二のダミーゲートを覆うようにダミー絶縁層を形成し、前記ダミー絶縁層を研磨除去して前記第一及び第二のダミーゲートを露出する工程と、
露出させた前記第一及び第二のダミーゲートを除去して、それぞれ第一及び第二の開口部を形成する工程と、
前記ダミー絶縁層上、前記第一の開口部全体及び第二の開口部の一部に、第一の導電膜を形成する工程と、
前記第二の開口部全体を埋め込むように、前記第一の導電膜上に前記第一の導電膜とは異なる仕事関数を有する第二の導電膜を少なくとも形成する工程と、
前記第一及び第二の開口部外部の前記第二及び前記第一の導電膜を研磨除去して、前記第一領域上に第一のMISFETを、前記第二領域上に第二のMISFETを形成する工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記第一の導電膜を前記第二の開口部の側部及び底部に形成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第一及び第二のMISFETがn型の場合には、前記第二の導電膜は前記第一の導電膜よりも仕事関数が小さく、前記第一及び第二のMISFETがp型の場合には、前記第二の導電膜は前記第一の導電膜よりも仕事関数が大きいことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成された第一の導電膜をゲート電極とする第一のMISFETと、
前記ゲート絶縁膜上に形成された前記第一の導電膜及び前記第一の導電膜上に形成された第二の導電膜を少なくとも含む積層構造をゲート電極とし、前記第一のMISFETよりもゲート長が長い第二のMISFETと、
を備え、
前記第一及び第二のMISFETがn型の場合には、前記第一の導電膜は前記第二の導電膜よりも仕事関数が大きく、前記第一及び第二のMISFETがp型の場合には、前記第一の導電膜は前記第二の導電膜よりも仕事関数が小さいことを特徴とする半導体装置。 - 前記第一の導電膜は、前記第二の導電膜の下面及び側面と接していることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
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