JP2008060164A - ウエーハのレーザー加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエーハの一方の最外側のストリートを集光器の直下にアライメントし、ストリートに沿ってレーザー光線を照射し変質層を形成する。以下、変質層が形成されたストリートに隣接する1列内方のストリートについてレーザー光線を照射して変質層を形成する加工をウエーハの半円分まで順次行う第1のレーザー加工工程と、第1のレーザー加工工程が実施されたウエーハの他方の最外側のストリートを集光器の直下にアライメントし、第1のレーザ加工工程と同様に内方に向かって順次変質層を形成する第2のレーザ加工工程、を行う。第1のレーザ加工工程および第2のレーザ加工工程ともに、ストリートが最も長いウエーハの中央領域が最後に加工されるので熱膨張の影響が避けられる。
【選択図】図8
Description
ウエーハの表面または裏面に保護部材を貼着し、該保護部材側を該チャックテーブルに保持するウエーハ保持工程と、
該チャックテーブルに保持されているウエーハに形成された複数のストリートを該加工送り方向と平行に位置付けるウエーハ位置付け工程と、
該ウエーハ位置付け工程が実施されたウエーハの該割り出し送り方向における一方の最外側のストリートを該集光器の直下に位置付け、該集光器からレーザー光線を照射しつつ該加工送り手段を作動して該チャックテーブルを加工送りすることによりストリートに沿ってレーザー加工を施すレーザー光線照射工程と、該割り出し送り手段を作動し該チャックテーブルに保持されたウエーハにおける該レーザー光線照射工程が実施されたストリートに隣接するストリートを該集光器の直下に位置付ける割り出し送り工程とを順次実施し、ウエーハの一方の半分領域に形成された複数のストリートに沿ってレーザー加工を施す第1のレーザー加工工程と、
該第1のレーザー加工工程が実施されたウエーハの該割り出し送り方向における他方の最外側のストリートを該集光器の直下に位置付け、該集光器からレーザー光線を照射しつつ該加工送り手段を作動して該チャックテーブルを加工送りすることによりストリートに沿ってレーザー加工を施すレーザー光線照射工程と、該割り出し送り手段を作動し該チャックテーブルに保持されたウエーハにおける該レーザー光線照射工程が実施されたストリートに隣接するストリートを該集光器の直下に位置付ける割り出し送り工程とを順次実施し、ウエーハの他方の半分領域に形成された複数のストリートに沿ってレーザー加工を施す第2のレーザー加工工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハのレーザー加工方法が提供される。
上記レーザー光線照射手段は上記レーザー光線照射工程においてウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をウエーハの内部に集光点を合わせて照射し、ウエーハの内部にストリートに沿って変質層を形成する。
また、上記レーザー光線照射手段は上記レーザー光線照射工程においてウエーハに対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、ウエーハのストリートに沿ってレーザー加工溝を形成する。
先ず、上述した半導体ウエーハ10は、図4に示すように環状のフレーム20に装着されたポリオレフィン等の合成樹脂シートからなる保護テープ30に表面10a側を貼着する。従って、半導体ウエーハ10は、裏面10bが上側となる。
光源 :LD励起QスイッチNd:YVO4スレーザー
波長 :1064nmのパルスレーザー
集光スポット径 :φ1μm
集光点のピークパワー密度:3.2×1010W/cm2
繰り返し周波数 :100kHz
加工送り速度 :100mm/秒
以上のように、第1のストリート11と集光器524から照射されるレーザー光線の集光点との位置合わせを最初に行えば、第1のレーザー加工工程および第2のレーザー加工工程の途中でレーザー光線の照射によるウエーハの膨張に起因して発生する変位の補正をする必要がないので、生産性を向上することができる。
半導体ウエーハ10に第1のストリート11および第2のストリート12に沿ってレーザー加工溝を形成するには、図12に示すように半導体ウエーハ10の裏面10bを環状のフレーム20に装着されたポリオレフィン等の合成樹脂シートからなる保護テープ30に貼着する。従って、半導体ウエーハ10は、表面10aが上側となる。
レーザー光線の光源 :YVO4レーザーまたはYAGレーザー
波長 :355nm
平均出力 :1〜5W
繰り返し周波数 :30〜100kHz
集光スポット径 :φ10〜20μm
加工送り速度 :100mm/秒
以上のように、第1のストリート11と集光器524から照射されるレーザー光線の集光点との位置合わせを最初に行えば、第1のレーザー加工工程および第2のレーザー加工工程の途中でレーザー光線の照射によるウエーハの膨張に起因して発生する変位の補正をする必要がないので、生産性を向上することができる。
2:静止基台
3:チャックテーブル機構
36:チャックテーブル
37:加工送り手段
38:第1の割り出し送り手段
4:レーザー光線照射ユニット支持機構
43:第2の割り出し送り手段
5:レーザー光線照射ユニット
52:レーザー光線照射手段
524:集光器
6:撮像手段
8:制御手段
10:半導体ウエーハ
11:第1のストリート
12:第2のストリート
13:デバイス
20:環状のフレーム
30:保護テープ
Claims (4)
- ウエーハを保持し回転可能に構成されたチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハにレーザー光線を照射する集光器を備えたレーザー光線照射手段と、該チャックテーブルと該レーザー光線照射手段とを相対的に加工送り方向に加工送りする加工送り手段と、該チャックテーブルと該レーザー光線照射手段とを該加工送り方向と直交する割り出し送り方向に割り出し送りする割り出し送り手段とを具備するレーザー加工装置を用いて、表面に複数の平行なストリートが形成されたウエーハにストリートに沿ってレーザー加工を施すウエーハのレーザー加工方法であって、
ウエーハの表面または裏面に保護部材を貼着し、該保護部材側を該チャックテーブルに保持するウエーハ保持工程と、
該チャックテーブルに保持されているウエーハに形成された複数のストリートを該加工送り方向と平行に位置付けるウエーハ位置付け工程と、
該ウエーハ位置付け工程が実施されたウエーハの該割り出し送り方向における一方の最外側のストリートを該集光器の直下に位置付け、該集光器からレーザー光線を照射しつつ該加工送り手段を作動して該チャックテーブルを加工送りすることによりストリートに沿ってレーザー加工を施すレーザー光線照射工程と、該割り出し送り手段を作動し該チャックテーブルに保持されたウエーハにおける該レーザー光線照射工程が実施されたストリートに隣接するストリートを該集光器の直下に位置付ける割り出し送り工程とを順次実施し、ウエーハの一方の半分領域に形成された複数のストリートに沿ってレーザー加工を施す第1のレーザー加工工程と、
該第1のレーザー加工工程が実施されたウエーハの該割り出し送り方向における他方の最外側のストリートを該集光器の直下に位置付け、該集光器からレーザー光線を照射しつつ該加工送り手段を作動して該チャックテーブルを加工送りすることによりストリートに沿ってレーザー加工を施すレーザー光線照射工程と、該割り出し送り手段を作動し該チャックテーブルに保持されたウエーハにおける該レーザー光線照射工程が実施されたストリートに隣接するストリートを該集光器の直下に位置付ける割り出し送り工程とを順次実施し、ウエーハの他方の半分領域に形成された複数のストリートに沿ってレーザー加工を施す第2のレーザー加工工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハのレーザー加工方法。 - ウエーハに形成された複数の平行なストリートは、第1の方向に形成された第1のストリートと、該第1のストリートと直交する第2の方向に形成された第2のストリートとからなっている、請求項1記載のウエーハのレーザー加工方法。
- 該レーザー光線照射手段は該レーザー光線照射工程においてウエーハに対して透過性を有する波長のレーザー光線をウエーハの内部に集光点を合わせて照射し、ウエーハの内部にストリートに沿って変質層を形成する、請求項1又は2記載のウエーハのレーザー加工方法。
- 該レーザー光線照射手段は該レーザー光線照射工程においてウエーハに対して吸収性を有する波長のレーザー光線を照射し、ウエーハのストリートに沿ってレーザー加工溝を形成する、請求項1又は2記載のウエーハのレーザー加工方法。
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120228 |