JP2008058943A - ハーフトーンマスクの欠陥修正方法及び欠陥が修正されたハーフトーンマスク - Google Patents
ハーフトーンマスクの欠陥修正方法及び欠陥が修正されたハーフトーンマスク Download PDFInfo
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Abstract
【課題を解決するための手段】
半透過膜からなるハーフトーン部2に白欠陥を含むハーフトーンマスク1に修正膜4を付加する欠陥修正方法である。前記白欠陥の内側に半透過膜の修正膜4を堆積する。修正膜がはみ出して重複部分4bが形成された場合は修正膜の周縁部に露光装置の解像度限界以下の大きさを持つスリット5を設ける。
【選択図】 図3
Description
本発明において、ハーフトーンマスクのハーフトーン部に形成された白欠陥の修正方法のうち、最も基本となる方法は、ハーフトーン部に用いられている半透過膜(これを、「第1の半透過膜」という場合がある。)と同一の透過率を持つ半透過膜(これを、「第2の半透過膜」という場合がある。)を修正膜として、白欠陥の上に形成することである。
D =(L/L0)・D0 ・・・・・(2)
第2の実施形態は、本発明に係る第2のハーフトーンマスクの欠陥修正方法の一例を説明するものである。
図2は、第2の実施形態を適用するための前提となる問題点を説明するための図であり、第1の実施形態において説明した修正膜が白欠陥3を含む状態、つまり、白欠陥3が完全に修正膜によって覆われて修正膜の周縁部に重複部が形成されるように、修正膜を堆積した場合を説明している。なお、図2(a)は、修正膜堆積直後の模式平面図、図2(b)は(a)のC−C線断面図を示している。
第3の実施形態は、本発明に係る第4のハーフトーンマスクの欠陥修正方法の一例を説明するものである。
上述した第1の実施形態は、ハーフトーン部に用いられている半透過膜と同一の透過率を持つ半透過膜を白欠陥を修正するための修正膜とすることを前提とした上で、第2の実施形態では、必要により、第1の実施形態による欠陥修正方法による不都合な点を修正する方法を説明した。
第4の実施形態は、本発明に係る第6及び第7のハーフトーンマスクの欠陥修正方法の一例を説明するものである。
第1及び第2の実施形態において説明する白欠陥の修正方法は、いずれも白欠陥又はこれを含む透光部に局所的に半透過膜を堆積する方法であった。しかし、その後の研究により、半透過膜の組成が異なると波長依存性が顕著に表れる場合があることが明らかになった。これは、透過率が濃度Dの関数であることから、膜厚を調整することにより、ある特定の波長において白欠陥を修正するために堆積した半透過膜と、白欠陥の周囲の半透過膜の透過率とを完全に一致させることができたとしても、他の波長においては必ずしも一致しないことを意味する。
2 ハーフトーン部(第1の半透過膜)
3 白欠陥
4 半透過膜の修正膜(第2の半透過膜)
5 スリット
6 スリット
10 ハーフトーンマスク
11 透明基板
12 ハーフトーン部
13 遮光部
14 白欠陥
15 透光窓
16 遮光膜
17 第1のスリット
18 第2のスリット
19 ハーフトーン部上の修正領域
Claims (10)
- 第1の半透過膜からなるハーフトーン部に白欠陥を含むハーフトーンマスクに修正膜を付加する欠陥修正方法であって、前記修正膜は、
前記白欠陥の内側に第2の半透過膜を堆積することにより形成されることを特徴とするハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 第1の半透過膜からなるハーフトーン部に白欠陥を含むハーフトーンマスクに修正膜を付加する欠陥修正方法であって、前記修正膜は、
前記白欠陥の内側に第2の半透過膜を堆積し、前記第2の半透過膜に露光装置の解像度限界以下の大きさを持つスリットを設けることにより形成されることを特徴とするハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 第1の半透過膜からなるハーフトーン部に欠陥を含むハーフトーンマスクに修正膜を付加する欠陥修正方法であって、前記修正膜は、
前記欠陥をその周囲の前記ハーフトーン部と共に除去して透光窓を形成し、前記透光窓の内側に第2の半透過膜を堆積することにより形成されることを特徴とするハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 半透過膜からなるハーフトーン部に白欠陥を含むハーフトーンマスクに修正膜を付加する欠陥修正方法であって、前記修正膜は、
遮光膜を前記白欠陥の内側に堆積し、前記遮光膜を部分的に除去して露光装置の解像度限界以下の大きさを持つスリットを設けることにより形成されることを特徴とするハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 半透過膜からなるハーフトーン部に欠陥を含むハーフトーンマスクに修正膜を付加する欠陥修正方法であって、前記修正膜は、
前記欠陥をその周囲の前記ハーフトーン部と共に除去して透光窓を形成し、前記透光窓の内側に遮光膜を形成した後、前記遮光膜を部分的に除去して露光装置の解像度限界以下の大きさを持つスリットを設けることにより形成されることを特徴とするハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 半透過膜からなるハーフトーン部に欠陥を含むハーフトーンマスクに修正膜を付加する欠陥修正方法であって、前記修正膜は、
前記欠陥をその周囲の前記ハーフトーン部と共に除去して透光窓を形成し、前記透光窓の内側に前記透光窓よりも広い面積を持つ遮光膜を形成して前記透光窓の全てを覆い、
前記透光窓の周縁部における前記半透過膜と前記遮光膜との重複部及び前記透光窓の内側における遮光膜をそれぞれ部分的に除去して露光装置の解像度限界以下の大きさを持つスリットを設けることにより形成されることを特徴とするハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 半透過膜からなるハーフトーン部に欠陥を含むハーフトーンマスクに修正膜を付加する欠陥修正方法であって、前記修正膜は、
前記欠陥をその周囲の前記ハーフトーン部と共に除去して透光窓を形成し、前記透光窓の内側に前記透光窓よりも広い面積を持つ遮光膜を形成して前記透光窓の全てを覆い、
前記透光窓の周縁部における前記半透過膜と前記遮光膜との重複部の全部を除去し、次いで前記透光窓の内側に形成された前記遮光膜を部分的に除去して露光装置の解像度限界以下の大きさを持つスリットを設けることを特徴とするハーフトーンマスクの欠陥修正方法。 - 前記修正膜は前記ハーフトーン部の半透過膜と実質的に透過率が等しくなるようにしたことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法。
- 透明基板上に遮光膜からなる遮光部と半透過膜からなるハーフトーン部と遮光膜及び半透過膜のいずれも存在しない透光部とが設けられたハーフトーンマスクであって、
請求項1乃至8のいずれか1項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法を適用したことにより、前記ハーフトーン部上に修正膜が設けられていることを特徴とするハーフトーンマスク。 - 透明基板上に露光光の全部を遮断する遮光部を形成する工程と露光光の一部を透過するハーフトーン部を形成する工程と、露光光の全部を透過する透光部を形成する工程と、前記ハーフトーン部に形成された除去すべき欠陥を除去すると共に前記欠陥を修正するための修正膜を形成する欠陥修正工程とを具備するハーフトーンマスクの製造方法であって、
前記欠陥修正工程に、請求項1乃至8のいずれか1項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正方法を適用することを特徴とするハーフトーンマスクの製造方法。
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