JP4752495B2 - 階調をもつフォトマスクの欠陥修正方法 - Google Patents
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また、上記の特許文献には、このために用いる露光機の解像限界以下の微小スリットよりなる遮光パターンを有するフォトマスク(以下、スリットマスクと称する。)、および、露光光に対して透過光量を変化させた階調をもつフォトマスク(以下、階調マスクあるいはグレートーンマスクとも称する。)とが説明されている。スリットマスクのスリットは、解像限界以下のサイズであるため、それ自身はレジスト上に結像せずに、周囲の非開口部領域も含めたエリアに、サイズに応じた露光光を透過する。このため、スリットマスクは、スリットが形成された領域と、その周囲を含めたエリアに、あたかも半透明膜があるかのように機能するマスクである。
白欠陥の修正方法としては、一般に、レーザCVD技術やガスアシストFIB成膜技術を用い、不透明膜を欠陥部に成膜堆積させて修正する方法が普及している。
しかしながら、特許文献3に記載された修正方法では、露光機の転写解像限界以下の修正技術が必要とされるのに対し、現在のフォトマスク欠陥修正装置の修正可能な最小幅は2μm程度であり、露光機の転写解像限界に対して充分小さくなく、そのため特に微小欠陥の修正が困難であるという問題があった。
Y=X1×(IC−IHIC)/(IH−IHIC) (1)
X2={(1−IC)A+(IHIC―IC―IH)B}/(IH−IC) (2)
本発明の階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法は、従来のクロム系材料のフォトマスクブランクを用い、既存のマスク製造設備、検査装置、修正装置を用いて、欠陥の修正された階調をもつフォトマスクを得ることができる。したがって、本発明によれば、高品質の階調をもつフォトマスクを低コストで得ることが可能となる。
本発明の階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法を用いることにより、半導体素子や画像表示素子のフォトリソグラフィ工程数を効率的に減らすことができ、低コストの半導体素子や画像表示素子が実現できる。
図1〜図5は、本発明の階調をもつフォトマスクの欠陥修正方法の実施形態を示す平面模式図である。図6、図7は、本発明の修正方法を行なう前の欠陥部を有する階調をもつフォトマスクの例を示す模式図である。
本発明の修正方法の適用対象とする階調をもつフォトマスクは、透明基板上に所望のパターンを有し、パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、上記の遮光膜が少なくとも存在する遮光領域、上記の半透明膜が存在する半透明領域、および上記の遮光膜と半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスクである。
図6に示すように、本発明の階調をもつフォトマスクの修正方法が適用されるフォトマスクの透明基板61としては、通常、フォトマスクに用いられる光学研磨されたソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラスやアルミノホウ珪酸ガラスなどの低膨張ガラス、合成石英ガラス、蛍石、フッ化カルシウムなどを用いることができ、露光光が短波長の場合には合成石英ガラスが好ましい。
前述のように、階調をもつフォトマスクの遮光領域にある欠陥部の修正には、従来の欠陥修正方法を用いることができる。以下では、本発明の階調をもつフォトマスクの半透明領域にある欠陥部の修正方法の実施形態について、欠陥部が白欠陥の場合と黒欠陥の場合に分けて説明する。
本発明の半透明領域の白欠陥の修正方法は、欠陥部に、レーザCVD技術を用いてクロムなどの半透明膜を成膜したり、あるいはガスアシストFIB成膜技術を用いてカーボンなどの半透明膜を成膜して修正すること自体はハーフトーン型位相シフトマスクなどの従来技術と同様であるが、従来技術が修正用の成膜のサイズと位置の最適化のみで修正を行なうのに対し、本発明ではさらに修正用に成膜する半透明膜の透過率も制御するものである。たとえば、レーザCVD技術を用いた修正の場合には、以下の3パラメータを制御することにより、階調をもつフォトマスクの半透明領域の微小欠陥に対しても良好な半透明膜修正を可能とするものである。
1.修正用半透明膜の成膜位置:通常、+/−100nm程度の精度で成膜可能である。
2.修正用半透明膜の成膜面積:通常、最小2μm□程度の面積で成膜可能である。
3.修正用半透明膜の透過率:通常、+/−2%程度で制御可能である。
本発明の修正方法によれば、修正装置が加工可能な最小サイズ以下、あるいは最小サイズ近傍の大きさの欠陥も修正可能となる。
次に、本発明の実施形態を白欠陥部の大きさにより分けて、さらに詳しく説明する。
第1の実施形態は、白欠陥部の大きさが修正装置の修正成膜可能な最小面積よりも小さい場合であり、通常、白欠陥部の大きさが1〜2μm程度の場合である。
図1は、第1の実施形態を説明する部分平面模式図であり、図1(a)は、修正前の平面模式図で、半透明領域11に大きさ1〜2μmの白欠陥部12が存在する。図1(b)は、本発明の欠陥修正方法による修正後の平面模式図で、レーザCVD技術を用い、クロムなどの半透明膜13を上記の白欠陥部を覆って成膜して白欠陥部を修正し、欠陥部を修正した階調をもつフォトマスクを得る。
(Y−X1)×IHIC +X1×IC =Y×IH
よって、
Y=X1×(IC−IHIC)/(IH−IHIC) (1)
本実施形態においては、修正用の半透明膜13のエネルギ透過率ICが上記の関係式(1)を満たすものである。また、上記のように、Yは修正装置の可能な最小面積に固定するのがより好ましい。具体的には、関係式(1)を満たすエネルギ透過率IC%は、修正用に成膜するクロムなどの半透明膜の膜厚で制御することにより所望する値を得ることができる。
第2の実施形態は、白欠陥部の大きさが修正装置の修正成膜可能な最小面積よりも僅かに大きい場合であり、通常、白欠陥部の大きさが2〜3μm程度の場合である。
図2は、第2の実施形態を説明する部分平面模式図であり、図2(a)は、修正前の平面模式図で、半透明領域21に大きさ2〜3μmの白欠陥部22が存在する。図2(b)は、本発明の欠陥修正方法による修正後の平面模式図で、レーザCVD技術を用い、クロムなどの半透明膜23を上記の白欠陥部22の大部分に成膜して白欠陥部を修正し、欠陥部を修正した階調をもつフォトマスクを得る。
A×100+B×IHIC +(X2−A−B)×IC =(X2+B)×IH
よって、
X2={(1−IC)A+(IHIC―IC―IH)B}/(IH−IC) (2)
本実施形態においては、A、B、ICが上記の関係式(2)を満たすのが好ましい。具体的には、上記の関係式(2)が成り立つように、面積A、B、および修正箇所のエネルギ透過率IC%を決定する。IC%は、実施形態1と同じく、成膜するクロムなどの半透明膜の膜厚で制御することができる。
本実施形態においても第1の実施形態と同じく、修正用の半透明膜の成膜面積が大きくなると、転写時の被転写基板上のレジスト像が不均一になるので、成膜面積は最小に留めるのが好ましく、修正用の半透明膜の成膜面積は修正装置の可能な最小面積に固定するのが好ましい。
第3の実施形態は、白欠陥部の面積(X3)が修正装置の修正成膜可能な最小面積よりも非常に大きい場合である。
図3は、第3の実施形態を説明する部分平面模式図であり、図3(a)は、修正前の平面模式図で、半透明領域31に、例えば大きさ3μmを超える白欠陥部32が存在する。図3(b)は、本発明の欠陥修正方法による修正後の平面模式図で、レーザCVD技術を用い、クロムなどの半透明膜33を上記の白欠陥部32に内接して成膜して白欠陥部を修正し、欠陥部を修正した階調をもつフォトマスクを得る。
さらに、必要に応じて、成膜された上記の修正用の半透明膜33と欠陥32の外周部との間の隙間部に、上記第1の実施形態あるいは第2の実施形態の修正方法を施すことも可能である。
第4の実施形態は、白欠陥部が不定形で複雑な形状の場合などに適する方法で、白欠陥部を整形した後に修正用の半透明膜を成膜する方法である。
図4は、第4の実施形態を説明する部分平面模式図であり、図4(a)は、修正前の平面模式図で、半透明領域41に、複雑な不定形状の白欠陥部42が存在する。図4(b)は、本発明の欠陥修正方法による修正途中の平面模式図で、白欠陥部42周辺の半透明膜41をレーザ光もしくは集束イオンビームにより除去して白欠陥部を整形し、整形した白欠陥部43とした後、次に図4(c)に示すように、レーザCVD技術を用い、クロムなどの半透明膜44を整形した白欠陥部43を覆って成膜して白欠陥部を修正し、欠陥部を修正した階調をもつフォトマスクを得る。
整形した白欠陥部43の修正には、白欠陥部の大きさにより、上記の第1〜第3の実施形態のいずれかの方法を適用することができる。図4(c)に示す例では、第1の実施形態の方法を適用し、前記の関係式(1)を用いて修正用の半透明膜の適切な透過率を求めている。
次に、欠陥部が黒欠陥の場合について説明する。図5は、本発明の黒欠陥の修正方法を説明する部分平面模式図である。図5(a)は、修正前の平面模式図で、半透明領域51に黒欠陥部52が存在する。黒欠陥部の場合、まず黒欠陥部52をレーザ光あるいはガスアシスト集束イオンビームにより除去し、図5(b)に示すように、欠陥部を白欠陥部53とし、そのエネルギ透過率を100%とする。
次に、白欠陥部53に対して、上記の第1〜第3の実施形態に述べられたいずれかの白欠陥修正方法により修正用の半透明膜を成膜し、欠陥部を修正した階調をもつフォトマスクを得るものである。図5(c)の例では、白欠陥部53を覆って修正用の半透明膜54が成膜されている。
図5に示す修正方法においては、黒欠陥部を除去するのに際し、周辺部の半透明膜までも除去する方法を示したが、この場合、微小欠陥であっても、たとえば集束イオンビームを用いることにより、わざわざ欠陥エリアを広げることなく、黒欠陥部だけを100%透過処理するだけで修正することも可能である。
光学研磨された330×450mmの合成石英基板上にクロムよりなる遮光膜が約100nm成膜されているフォトマスクブランク上に、市販のフォトレジスト(東京応化工業社製ip−3500)を約380nm塗布し、120度に加熱されたホットプレートで15分ベークした後、フォトマスク用レーザ描画装置マイクロニック社製LRS11000−TFT3で、所望の遮光膜パターンを描画した。ここで描画したパターンは、最終的に完全に遮光するためのパターンである。
次に、専用のデベロッパー(東京応化工業社製NMD3)で現像し、遮光膜用レジストパターンを得た。
続いて半透明膜パターンとなる像を再度レーザ描画装置マイクロニック社製LRS11000−TFT3で描画し、専用デベロッパー(東京応化社製NMD3)で現像し、半透明膜用レジストパターンを得た。なお、描画装置LRS11000は、アライメント描画機能を有しており、形成済みの遮光膜パターンに位置を合わせて、半透明膜パターンを形成した。
この修正した階調をもつフォトマスクをLCD素子の製造に用いたところ、被転写基板上に欠陥の無いレジスト残膜厚の異なるパターンを形成することができた。
実施例1と同じ方法で階調をもつフォトマスクを製造し、欠陥検査を行なったところ、半透明膜パターンの半透明領域に大きさ1×2μm程度の不定形の黒欠陥が検出された。
続いて、上記の白欠陥部に実施例1と同様に修正可能な最小面積2μm□のレーザCVDを用い、微小な白欠陥部を覆って半透明の修正用クロム膜を成膜した。第1の実施形態で説明した関係式(1)において、X1=2、Y=4、IH=0.4を代入してICを求めたところ、IC=0.31を得た。そこで、修正用のクロム膜の成膜膜厚を調整し、修正可能な最小面積の2μm□の修正サイズで、クロム膜よりなる透過率31%(波長g線:436nm)の修正用の半透明膜を形成し、白欠陥部を修正した階調をもつフォトマスクを得た。
この修正した階調をもつフォトマスクは、被転写基板上に欠陥の無いレジスト残膜厚の異なるパターンを形成することができた。
12、22、32、42 白欠陥部
13、23、33 修正用の半透明膜
43 整形した白欠陥部
44 修正用の半透明膜
52 黒欠陥部
53 白欠陥部
54 修正用の半透明膜
61、71 透明基板
62、72 遮光膜
63、73 半透明膜
62a、72a 遮光領域
63b、73b 半透明領域
64、74 白欠陥部
81、91 遮光部
83、93 スリット部
85 黒欠陥部(ブリッジ)
86 開口
94 修正膜
Claims (8)
- 透明基板上に所望のパターンを有し、前記パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、前記露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、前記透明基板上に、前記遮光膜が少なくとも存在する遮光領域、前記半透明膜が存在する半透明領域、および前記遮光膜と前記半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法において、
前記半透明領域の欠陥部修正後の修正箇所の透過光量が、欠陥が無い正常な半透明領域の透過光量に等しくなるように、前記欠陥部に修正用の半透明膜を成膜し、
前記欠陥部が白欠陥部であり、前記欠陥部の面積(X1)が、前記修正箇所を修正する修正装置の修正可能な最小面積よりも小さい場合において、前記正常な半透明領域のエネルギ透過率をIH%、前記欠陥部のエネルギ透過率を100%、前記修正用の半透明膜の成膜面積をY、エネルギ透過率をIC%とすると、前記ICが下記の関係式(1)を満たすことを特徴とする階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。
Y=X1×(IC−IHIC)/(IH−IHIC) (1) - 前記修正用の半透明膜の成膜面積Yが、前記修正装置の修正可能な最小面積に等しいことを特徴とする請求項1に記載の階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。
- 透明基板上に所望のパターンを有し、前記パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、前記露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、前記透明基板上に、前記遮光膜が少なくとも存在する遮光領域、前記半透明膜が存在する半透明領域、および前記遮光膜と前記半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法において、
前記半透明領域の欠陥部修正後の修正箇所の透過光量が、欠陥が無い正常な半透明領域の透過光量に等しくなるように、前記欠陥部に修正用の半透明膜を成膜し、
前記欠陥部が白欠陥部であり、前記欠陥部の面積(X2)が、前記修正箇所を修正する修正装置の修正可能な最小面積よりも僅かに大きい場合において、前記修正箇所の修正用の半透明膜が覆わない前記欠陥部の面積をA、前記修正用の半透明膜が前記半透明領域と重なる箇所の面積をBとし、前記正常な半透明領域のエネルギ透過率をIH%、前記欠陥部のエネルギ透過率を100%、前記修正用の半透明膜のエネルギ透過率をIC%とすると、前記A、B、ICが下記の関係式(2)を満たすことを特徴とする階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。
X2={(1−IC)A+(IHIC―IC―IH)B}/(IH−IC) (2) - 前記修正用の半透明膜の成膜面積が、前記修正装置の修正可能な最小面積に等しいことを特徴とする請求項3に記載の階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。
- 透明基板上に所望のパターンを有し、前記パターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、前記露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、前記透明基板上に、前記遮光膜が少なくとも存在する遮光領域、前記半透明膜が存在する半透明領域、および前記遮光膜と前記半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法において、
前記半透明領域の欠陥部修正後の修正箇所の透過光量が、欠陥が無い正常な半透明領域の透過光量に等しくなるように、前記欠陥部に修正用の半透明膜を成膜し、
前記欠陥部が白欠陥部であり、前記欠陥部の面積が、前記修正箇所を修正する修正装置の修正可能な最小面積よりも非常に大きい場合において、前記欠陥部に内接して、前記半透明膜と同一のエネルギ透過率の修正用の半透明膜を成膜することを特徴とする階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。 - 請求項5に記載の階調をもつフォトマスクの欠陥修正方法において、前記修正用の半透明膜と前記欠陥部との間の隙間部に、さらに請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の修正方法を適用することを特徴とする階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。
- 前記欠陥部が白欠陥部であり、該白欠陥部周辺の半透明膜をレーザ光もしくは集束イオンビームにより除去して白欠陥部を整形した後、次に請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の方法により前記欠陥部を修正することを特徴とする階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。
- 前記欠陥部が黒欠陥部であり、該黒欠陥部をレーザ光もしくは集束イオンビームにより除去して前記欠陥部のエネルギ透過率を100%とし、次に請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の方法により前記欠陥部を修正することを特徴とする階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。
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