JP2008041340A - 機能性膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1上に機能性材料を含む液体を付与して乾燥させ、機能性膜の前駆体2を形成した後、基板1の温度を下げて該機能性膜の前駆体2に吸湿させ、さらに基板1の温度を上げて吸湿した該機能性膜の前駆体2を乾燥させる工程において、該基板1の温度を上げる過程において蒸発する液体を付与して付与領域3を形成し、機能性膜の前駆体2を上記液体と共に一括して再乾燥させることにより、基板1内の機能性膜の前駆体2を均一に乾燥させて形状の均一化を図る。
【選択図】図1
Description
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を、下げてから上げる降昇温工程とを有することを特徴とする機能性膜の製造方法である。
前記基板の温度を上げる過程で蒸発する液体を、前記基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げる昇温工程とを有する。
前記基板の温度を上げる過程で蒸発する液体を、前記機能性膜の形成材料を含む液体が付与された基板に間隔を介して配置された対向基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げる昇温工程とを有する。
前記基板の温度を上げる過程で蒸発する液体を、前記基板の周辺に配置した状態で、当該基板の温度を上げる昇温工程とを有する。
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を上げる昇温工程とを有し、
前記昇温工程において、該昇温工程の過程で蒸発する液体を、前記基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げることを特徴とする機能性膜の製造方法である。
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を上げる昇温工程とを有し、
前記昇温工程において、該昇温工程の過程で蒸発する液体を、前記機能性膜の形成材料を含む液体が付与された基板に間隔を介して配置された対向基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げることを特徴とする機能性膜の製造方法である。
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を上げる昇温工程とを有し、
前記昇温工程において、該昇温工程の過程で蒸発する液体を、前記基板の周辺に配置した状態で、当該基板の温度を上げることを特徴とする機能性膜の製造方法である。
機能性膜として、画像表示装置に用いられる、電子放出素子の電子放出膜を基板上に複数形成した。図2に示される描画乾燥装置を用い、基板ステージ17上に基板1全面を冷却可能なペルチェ素子を基板温度調整機構16として設置し、該ペルチェ素子上に基板1としてガラス基板を設置した。本例においては、機能性膜として電子放出膜の形状の均一性を問題にしているため、まずは、基板1上に複数の電子放出膜のみを形成した。即ち、これら複数の電子放出膜への電気的配線は形成しなかった。
B.膜厚:10nm±7%、有効エリア:90μm
C.膜厚:10nm±8%、有効エリア:91μm
B.膜厚:8nm±20%、有効エリア:85μm
C.膜厚:4nm±50%、有効エリア:90μm
実施例1と同様にして、図2の装置を用いてガラス基板上に、液体Aとして、有機パラジウム溶液を付与して乾燥させ、電子放出膜の前駆体を形成した。
B.膜厚:8nm±10%、有効エリア:90μm
C.膜厚:10nm±6%、有効エリア:89μm
B.膜厚:8nm±20%、有効エリア:85μm
C.膜厚:4nm±50%、有効エリア:90μm
実施例1と同様にして、図2の装置を用いてガラス基板上に、液体Aとして、有機パラジウム溶液を付与して乾燥させ、電子放出膜の前駆体を形成した。
B.膜厚:10nm±5%、有効エリア:90μm
C.膜厚:10nm±6%、有効エリア:90μm
B.膜厚:8nm±20%、有効エリア:85μm
C.膜厚:4nm±50%、有効エリア:90μm
実施例1と同様にして、図2の装置を用いてガラス基板上に、液体Aとして有機パラジウム溶液を付与して乾燥させ、電子放出膜の前駆体を形成した。
B.膜厚:10nm±8%、有効エリア90μm
C.膜厚:10nm±9%、有効エリア90μm
B.膜厚:8nm±20%、有効エリア:85μm
C.膜厚:4nm±50%、有効エリア:90μm
機能性膜として、各種デバイスに展開可能な導電性配線を作製する目的で、直径5nm程度のAg微粒子を含有する液体Aを図2に示される描画装置を用いてガラス基板1上に付与した。
B.膜厚:50nm±10%、有効エリア:300μm
C.膜厚:50nm±15%、有効エリア:300μm
B.膜厚:45nm±30%、有効エリア:300μm
C.膜厚:30nm±70%、有効エリア:310μm
1−a 基板中央部
1−b 基板外周部
2 機能性膜の前駆体
3 昇温過程で蒸発する液体の付与領域
4 隣接基板
5 対向基板
Claims (9)
- 機能性膜の形成材料を含む液体を、基板上の複数箇所に付与する付与工程と、
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を、下げてから上げる降昇温工程とを有することを特徴とする機能性膜の製造方法。 - 前記降昇温工程は、前記基板の温度を下げる降温工程と、
前記基板の温度を上げる過程で蒸発する液体を、前記基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げる昇温工程とを有することを特徴とする請求項1に記載の機能性膜の製造方法。 - 前記降昇温工程は、前記基板の温度を下げる降温工程と、
前記基板の温度を上げる過程で蒸発する液体を、前記機能性膜の形成材料を含む液体が付与された基板に間隔を介して配置された対向基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げる昇温工程とを有することを特徴とする請求項1に記載の機能性膜の製造方法。 - 前記降昇温工程は、前記基板の温度を下げる降温工程と、
前記基板の温度を上げる過程で蒸発する液体を、前記基板の周辺に配置した状態で、当該基板の温度を上げる昇温工程とを有することを特徴とする請求項1に記載の機能性膜の製造方法。 - 前記降昇温工程は、前記基板の温度を露点以下に下げる工程を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の機能性膜の製造方法。
- 機能性膜の形成材料を含む液体を、基板上の複数箇所に付与する付与工程と、
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を上げる昇温工程とを有し、
前記昇温工程において、該昇温工程の過程で蒸発する液体を、前記基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げることを特徴とする機能性膜の製造方法。 - 機能性膜の形成材料を含む液体を、基板上の複数箇所に付与する付与工程と、
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を上げる昇温工程とを有し、
前記昇温工程において、該昇温工程の過程で蒸発する液体を、前記機能性膜の形成材料を含む液体が付与された基板に間隔を介して配置された対向基板上に配置した状態で、当該基板の温度を上げることを特徴とする機能性膜の製造方法。 - 機能性膜の形成材料を含む液体を、基板上の複数箇所に付与する付与工程と、
前記液体の乾燥後、前記基板の温度を上げる昇温工程とを有し、
前記昇温工程において、該昇温工程の過程で蒸発する液体を、前記基板の周辺に配置した状態で、当該基板の温度を上げることを特徴とする機能性膜の製造方法。 - 前記機能性膜の形成材料を含む液体の基板上への付与は、インクジェット法により行われることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の機能性膜の製造方法。
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