JP2021532541A - パターン形成された有機発光ダイオードの配合物を乾燥させるシステムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2018年7月23日出願の米国仮特許出願第62/702,270号および2019年2月28日出願の米国仮特許出願第62/812,143号の利益を主張し、これらの出願を参照により本明細書に組み込む。
Claims (19)
- 容器内に配設され、支持面を有する基板支持体と、
前記容器内の前記基板支持体の前記支持面にわたって配設される複数の蒸気透過領域と複数の蒸気バリア領域とを有するマスクであって、前記マスクと前記支持面との間の距離を調整可能なように移動可能なマスクと、
前記容器に結合されたガス源と、
前記容器に結合された真空源と
を備える、乾燥室。 - 前記マスクは、前記容器を貫通して延在するマスク支持体を有する、請求項1に記載の乾燥室。
- 前記マスク支持体は、前記マスクの両側に配置されている、請求項2に記載の乾燥室。
- 前記マスクと前記真空源との間にガス分配要素をさらに備える、請求項1に記載の乾燥室。
- 前記マスクと前記ガス分配要素との間の間隙を包囲する外縁蒸気バリアをさらに備える、請求項4に記載の乾燥室。
- 前記ガス源は、前記蒸気バリアの外側にガス流を供給する位置で前記容器に結合されている、請求項4に記載の乾燥室。
- 前記マスクは、前記マスクの近位面から前記支持面に向かって延在する壁を備える、請求項1に記載の乾燥室。
- 前記基板支持体は、温度制御要素を備える、請求項1に記載の乾燥室。
- 前記マスクは、前記基板の上方に前記基板から離隔して配設される硬質体を含む、請求項1に記載の乾燥室。
- 前記複数の蒸気透過領域の各々は、単一の開口部、複数の開口部、メッシュ部材、スクリーン部材、または多孔質部材を有する、請求項1に記載の乾燥室。
- 複数の乾燥境界領域によって分離され、キャリア液で湿潤化された複数の湿潤領域を有する基板を乾燥させる方法であって、
複数の蒸気透過領域と複数の蒸気バリア領域とを有するマスクを前記基板に対して位置決めする工程と、
前記マスクの両側に配置されたマスク支持体上で前記マスクを支持する工程と、
前記マスクの前記複数の蒸気透過領域を介して、前記基板の前記複数の湿潤領域から前記キャリア液を吸引する工程と
を含む、方法。 - 前記マスクを前記基板に対して位置決めする工程は、前記複数の蒸気透過領域を前記複数の湿潤領域に対向して配置し、前記複数の蒸気バリア領域を前記複数の乾燥境界領域に対向して配置する、請求項11に記載の方法。
- 前記基板と前記マスクとの間に間隙を設ける工程をさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 前記吸引する工程は、前記キャリア液を有孔のガス分配要素に通す工程を含む、請求項12に記載の方法。
- 前記複数の湿潤領域の各々は第1の形状であり、前記複数の蒸気透過領域の各々は前記第1の形状と類似する第2の形状に延び、
前記方法は、
前記複数の湿潤領域を前記複数の蒸気透過領域に位置合わせする工程をさらに含む、請求項14に記載の方法。 - 複数の乾燥境界領域によって分離された複数の湿潤領域を有する基板を支持する基板支持体であって、前記複数の湿潤領域が、キャリア液蒸気圧を呈する揮発性キャリア液を含む、基板支持体と、
5分以内に前記揮発性キャリア液の蒸気によって飽和に近づく容積を有する処理空間を前記基板の上方に画定するガス分配機構と、
前記処理空間から前記揮発性キャリア液の蒸気を吸引する真空源と
を備える、乾燥室。 - 前記基板支持体および前記ガス分配機構のうちの一方に接続され、前記基板を出し入れするアクチュエータをさらに備える、請求項16に記載の乾燥室。
- 前記基板支持体と前記ガス分配機構とを包囲する第2の処理空間をさらに備える、請求項16に記載の乾燥室。
- 前記第2の処理空間に空気を供給するガス源をさらに備える、請求項18に記載の乾燥室。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003269859A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Tokyo Electron Ltd | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 |
JP2010169308A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Panasonic Corp | 乾燥装置 |
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---|---|---|---|---|
JP2003269859A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Tokyo Electron Ltd | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 |
JP2010169308A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Panasonic Corp | 乾燥装置 |
WO2017087337A1 (en) * | 2015-11-16 | 2017-05-26 | Kateeva, Inc. | Systems and methods for thermal processing of a substrate |
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