CN112956046A - 用于干燥图案化的oled制剂的系统和方法 - Google Patents

Abstract

一种干燥室，其用于干燥具有显示区的图案的基底，所述显示区被溶解或悬浮在挥发性载液中的OLED材料润湿，且由干燥边界域彼此隔开。掩模使用与湿润区域相对的蒸汽透过区域和与干燥边界区域相对的蒸汽阻隔区域，来调节真空萃取过程中载液的干燥速率，或在真空萃取之前，通过将湿润区集中限制在足够小以便迅速被载液饱和的腔室内，来调节载液的干燥速率。

Description

用于干燥图案化的OLED制剂的系统和方法

相关申请的交叉引用

本申请要求在2018年7月23日提交的美国临时专利申请第62/702,270号以及在2019年2月28日提交的美国临时专利申请第62/812,143号的优先权，其全部内容以引用的方式并入于此。

背景技术

有机发光二极管(OLED)是一种发光二极管(LED)，其中发光组件包括有机材料层或有机材料薄膜。显示设备例如电视、计算机和移动电话，越来越多地包含单独控制的小型OLED阵列作为像素。

采用喷墨技术可将溶解于或悬浮于载液中的OLED材料沉积在基底上。在类似于将文字打印到纸上的过程中，通过将OLED制剂的液滴精确地滴入所需的图案中，可以将OLED像素“打印”在合适的基底上。然后，经干燥步骤去除沉积液中的载液从而留下OLED材料。

在干燥过程中，要精确控制温度、流量和压力，以去除载液而不对像素造成物理扭曲，以免对显示质量产生不利影响。然而，很难在像素级别上精确地控制压力和温度。因而，像素和显示质量可以随显示区变化。由此，需要能精确且均匀地控制如何去除OLED沉积材料上的载液的工具和方法。

附图说明

通过示例的方式而非限制的方式结合附图进行详细描述。附图中相同的附图标记表示相似的元件，其中：

图1示出用于干燥基底105的干燥室100，所述基底105被图案化为包括由边界域115隔开的多个显示区110。

图2详细描述了图1中介绍的基底105和掩模125的部分。

图3显示了基底105和掩模125的平面图。

图4详细描述了根据另一实施例的干燥室400。

图5是根据一个实施例的掩模的平面图。

图6是根据另一个实施例的掩模的平面图。

图7A-图7C是根据不同实施例的掩模部分的剖视图。

发明内容

本文所述的实施例提供了一种干燥室，其包括：设置于外壳内的基底支撑件，所述基底支撑件具有支撑表面；具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域的掩模，所述掩模横跨于所述外壳内的所述基底支撑件的支撑表面且设置成与所述支撑表面相距可调的距离；连接至所述外壳的气源；以及连接至所述外壳的真空源。

本文所述的其他实施例提供了一种用于干燥具有湿润区的基底的方法，所述湿润区由干燥边界域隔开且由载液润湿，所述方法包括：将掩模相对于基底进行定向，所述掩模具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域；以及通过所述掩模的蒸汽透过区域从所述基底的所述湿润区吸取载液。

本文所述的其他实施例提供了一种干燥室，其包括：基底支撑件，所述基底支撑件用于支撑具有由干燥边界域隔开的湿润区的基底，所述湿润区包括表现出载液蒸汽压的挥发性载液；配气装置，所述配气装置限定所述基底上方的处理空间体积的处理空间，其中所述处理空间体积在五分钟内几乎达到挥发性载液的蒸汽饱和度；以及真空源，所述真空源用于从处理空间中吸取挥发性载液的蒸汽。

具体实施方式

图1示出用于干燥基底105的干燥室100，所述基底105被图案化为包括由边界域115隔开的多个显示区110。例如，基底105可能是一大块“母玻璃”，其上沉积着大量OLED显示器的像素阵列。边界域115可包括，例如，电子驱动器，但不含像素。当基底105放置在干燥室100的外壳102内的温控支撑件120上进行干燥时，用溶解于或悬浮于挥发性载液中的OLED材料对显示区110进行图案化。边界域115不含像素，因而没有载液。因此，边界域115上方的载液的蒸汽浓度相对较低。基底105表面上这种不均匀的浓度导致边界域115边缘的像素比显示区110的内部像素干燥得更快。干燥不均会形成不均匀的像素，从而降低显示质量。理想地，在界定像素的油墨层是平坦的情况下，例如，不理想的干燥条件会造成堆积或凹陷层。因而，在湿像素阵列上变化的干燥条件会导致像素外观出现明显的不期望变化。

基底105上方的刚性掩模125被图案化为包括与湿显示区110相对的蒸汽透过区域以及与干燥区115相对的蒸汽阻挡区域。该掩模是覆盖至少一部分基底支撑件120的覆盖构件，并且通常与基底支撑件120的支撑表面121平行。在这种情况下，支撑表面121和掩模125通常为平面形状。掩模125具有面向支撑表面121的近端表面122和背向支撑表面121的远端表面123。此处，近端表面122和远端表面123均与支撑表面121平行，并且在这种情况下，它们均为平面，而远端表面123可以是任何适当的形状。近端表面122可被塑造成适于控制来自湿润区的气流和气体逸出的形状。因此，在某些方面，近端表面122可不与支撑表面121平行，以提供某些气流或汽化特性，例如，为溶剂逸度、蒸汽流动或蒸汽去除提供或多或少的蒸汽空间。

蒸汽阻挡区域的尺寸以及相对于干燥区域115的间隔是一定的，从而在干燥过程中减少边缘像素上方的扩散速度。在图1的示例中，掩模125中的蒸汽透过区域在相应的湿润区上方居中且略小。所获得的掩模125的叠层降低了湿润区边缘附近的载液扩散速度，使得湿润区边缘处与更靠近湿润区中心处以相同的速度进行干燥。选择蒸汽透过区域的尺寸及其相对于基底105的间隔，以使边缘像素和内部像素的干燥时间相同。可以调节掩模125和基底105之间的间隙以增加或减小边缘像素处的载液扩散速度，由此调整边缘像素的干燥时间。

此处，蒸汽透过区域被示为与显示区110并置的掩模125中的大开口。在这种情况下，这些开口的形状将与显示区110的形状有关。显示区110的被覆盖边缘的尺寸与显示区110的覆盖区和未覆盖区之间的期望的干燥速度差有关。在沿边缘的宽度轴方向上，显示区110的一个被覆盖边缘的宽度可以是沿边缘的宽度轴方向的显示区110的总宽度的1-10％，这取决于预计边缘加速干燥会影响边缘宽度。应当注意，在某些情况下，相邻显示区110之间的空间可能足够小，以使得湿润区和干燥区之间的大气成分变化不足以引起边缘干燥加速。在这种情况下，不需要覆盖如此小的干燥空间的边缘以调整干燥速度。根据待干燥的显示区110的材料的组成，显示区110之间的干燥区的尺寸在沿宽度轴方向上，小于沿显示区110的沿宽度轴方向的尺寸的1％，在一些情况下显示区110之间干燥区尺寸足够小，从而避免需要调整干燥区附近边缘的边缘干燥速度。在这种情况下，如此处所示，开口可以跨一个以上的显示区110延伸。

除了开口之外，还可以使用网孔、筛网或多孔材料来形成蒸汽透过区域。网孔、筛网、多孔材料和开口可以组合使用，从而根据需要提供通过掩模125的特定流型。额外地或替代地，蒸汽透过区域可采用多个开口。在所有这些情况下，蒸汽透过区域通常具有一种材料，通过该材料形成这样或那样的多个开口。该材料从蒸汽透过区域的一侧延伸到另一侧，并与掩模125的边界区连接。蒸汽透过区域的材料的厚度可以等于或不等于边界区的厚度。例如，形成开口和/或通道的蒸汽透过区域的材料的厚度可能小于边界区的厚度。换句话说，蒸汽透过区域可能是掩模的凹陷区域，由此形成这样或那样的多个开口或通道。

干燥室100包括起模销130，便于基底的取放。可以垂直地致动基底支撑件120以调节基底105和掩模125之间的间隔。同样地，可以通过掩模支撑件135来致动掩模125。用于操纵这些可调节元件的致动器(未示出)可以位于干燥室100的容积140之外。掩模支撑件135可沿着掩模125的两个相对侧设置，也可附接到用于支撑掩模125的框架(见图5)。沿掩模125的两个相对侧安置支撑件135能够在基底支撑件120和掩模125之间放置和取出基底支撑件120上的基底。掩模支撑件135从外壳102的底板136延伸到外壳102之外的位置，在此可以使用，如线性致动器(未示出)，来致动掩模支撑件135。

外部气源142在闭环控制下引入惰性气体，该惰性气体与真空源170在干燥过程中将所需的压力分布保持在容积140内。真空源170通过真空口103连接至外壳的内部，外部气源通过气口104连接至外壳的内部。示出的这些口位于外壳102的相对壁上，但可位于任何适当的位置。也可以使用其他气体，例如任选处理的清洁、干燥的空气以去除臭氧。也可以在加热、冷却或两者的情况下，对干燥室100的容积140、支撑件120和其他元件的温度进行闭环控制。因而，载液可以在压力和温度两者的驱动下从湿润区110中蒸发。控制温度和压力的装置是本领域技术人员所公知的，因此省略了详细的处理。感兴趣的读者可以参考美国专利公开号2017/0141310，其以引用的方式并入于此。

可选地包括移动或固定的配气元件145，其具有孔150，和包围掩模125和配气元件145之间的间隙的区域选择性的外围蒸汽阻挡层155，配气元件145用来引导蒸汽160从湿润区110均匀地流动。蒸汽阻挡层155既用于使从基底105上方的区域165中扩散出来的蒸汽最少，又用于减少可能干扰蒸汽160的流动或分布的气体流入。在干燥期间，真空源170通过掩模的蒸汽透过区域从湿润区110抽吸载液的蒸汽160。尽管未示出，但是一些实施例包括，例如，温控或被动式冷凝板来捕集配气元件145上方的蒸汽160。此处，气源142通常向外壳102内以及蒸汽阻挡层155周围和外部供给气流，如图1所示，但是气源142可以设置在沿外壳102的底板或在外壳102的侧壁中的任意合适的位置。

配气元件145可以具有统一大小和间距的孔或不同大小和间距的孔。例如，边缘附近的较小孔和/或分布更广的孔可逐渐增加配气元件145的边缘附近的气压和掩模125的边缘附近的气压，以增量地影响掩模125边缘的干燥条件。配气元件145中也可以使用网孔或筛网代替孔。

根据定位一个或多个致动器以移动掩模支撑件135的便利性，掩模支撑件135还可以延伸到外壳102的顶板138或侧壁139。如果需要，掩模支撑件135可以通过掩模配气元件145和顶板138进行设置，或者掩模支撑件135可以绕配气元件145布设。

掩模125由低释气材料制成，该材料具有足够的刚性以保持距离基底105上方如几毫米的均匀空隙，而不接触基底。不锈钢、铝或钛是合适的非限制性实例。也可以使用硬质塑性材料。气源142提供了可控的气流，如氮气、氩气或纯净空气，并且可以进行控制以保持这些气体和其他气体的最大规定浓度。在干燥周期期间通过以下方式来控制对湿润区110的干燥：如使用支撑件120内的加热和冷却元件131来调节支撑件120的温度以控制基底105的温度，控制腔室容积140内的压力和气体成分，以及控制掩模125和基底105之间的间隙。加热和冷却元件131可以是电阻性的或导电性的，例如加热线圈或管道以输送加热流体或冷却流体。本领域技术人员可以凭经验得出这些工艺参数的优选组合，对于特定的基底，在干燥周期期间可以改变上述任一工艺参数或全部工艺参数。尽管未示出，但是如上所述，基底支撑件120和其他元件可以包括温控元件，该温控元件用于加热和冷却基底105，并将基底105保持在恒定的温度或期望的温度分布。

图2详细描述了图1中介绍的基底105和掩模125的部分。湿润区110分为中心区110A和边缘区110B，它们均包括被限制在墨池205内的OLED湿制剂或“墨”200的像素。框架125的示出部分与边缘区110B重叠以保持边缘像素上方的蒸汽浓度在中心区110A上方的蒸汽浓度处或在其附近。边缘区110B可以延伸到所制造的设备的功能所需的区域之外，其他的外围像素用作蒸汽源以改善更多内部元件的功能。这些牺牲的像素或“虚拟”的像素在显示器上产生图像时不起作用。

图3显示了图1和图2中的基底105和掩模125的平面图。在该示例中，掩模125和湿润区110中的孔125A几何相似，否则掩模125需要裁剪以适合基底105。掩模125可以容易地从干燥室100中移出，并且可以把定制掩模替换成一个具有不同图案的基底。相对于为改善各基底之间的干燥均匀性而做出的更明显的修改而言，专门用于基底的可替换的掩模既简单又便宜。

图4详细描述了根据另一实施例的干燥室400。干燥室400在某些方面类似于图1的干燥室100，相同标识的元件相同。

干燥室400将基底105密封在由基底支撑件410和配气装置415(例如反向喷头)限定的处理空间405内，该配气装置415包含通道420和外围边界425。支撑件410和装置415中的一者或两者被垂直地致动以便于基底进入和移出。辅助处理空间430可以填充例如惰性气体或清洁干燥的空气。密封件432，例如通过O形环，在干燥过程中防止该气体与处理空间405的内容物连通。在其他实施例中，例如，可以通过侧门或孔进入处理空间405。

干燥室400通过平衡基底105上的载液蒸汽浓度来改善干燥均匀性。空间405的容积受限，以使蒸发的载液(此处显示为蒸汽160)在不到五分钟的时间内达到饱和。接近饱和的蒸汽浓度在湿润区110和干燥区115上方达到平衡，因此减少了边缘像素相对于中心像素的差别性干燥。空间405的容积被定义为载液蒸汽浓度的函数，并且随溶剂、压力和温度的不同而变化。图4的横截面未按比例绘制。例如，在基底105为九平方米的实施例中，装置415的穿孔底部可位于基底上方几毫米之内。

在通过真空源170施加低压以排空空间405之前，使空间405内的蒸汽浓度达到平衡，从而实现干燥。在一个实施例中，确定工艺变量以使得在蒸汽抽排开始之前，处理空间405内的挥发性载液的饱和度在90％以内。由于空间405的容积小，蒸汽160被快速抽排。快速抽排限制了相邻像素对干燥时间的影响，因此减少了边缘像素的畸形。在其他实施例中，以上详细描述的类型的蒸汽掩模可以包含在空间405内。配气装置415中的孔也可以修改为优先从湿润区110中抽出蒸汽的样式。

图5是根据一个实施例的掩模500的平面图。掩模500可用于调节要在干燥装置(如图1所示的装置100)中进行干燥的具有湿润区的基底的干燥分布情况。掩模500具有多个第一孔502，多个第二孔504，和一个第三孔506。所述多个第一孔502用于掩盖基底上的多个第一湿润区508，此处以虚线表示。同样地，所述多个第二孔504用于掩盖多个第二湿润区510。同样地，所述第三孔506用于掩盖多个第三湿润区512。

所述多个第一孔502中的孔具有第一尺寸和第一形状。所述多个第二孔504中的孔具有第二尺寸和第二形状。所述第三孔506具有第三尺寸和第三形状。在此，第一、第二和第三尺寸均不相同，第一、第二和第三形状均不相同。所有形状通常均为矩形，但是第一形状和第二形状具有圆角，而第三形状具有法线直角。此处，第二尺寸大于第一尺寸。第一形状具有含第一曲率半径的圆角，而第二形状具有含第二曲率半径的圆角，其中第二曲率半径小于第一曲率半径。

所述多个第一孔502具有孔间的第一间距，所述多个第二孔504具有孔间的第二间距，所述第二间距不同于所述第一间距。孔间的间距通常由湿润区之间的间距和孔的边缘覆盖范围所致。如同在他处的解释一样，孔的边缘覆盖范围由边缘区相对于中心区所需的干燥调整来确定。在此，如图5所示，当第一孔和第二孔各自的周边投影到适当地位于掩模500下方的基底上时，第一孔和第二孔各自的周边完全位于相应的待干燥的湿润区内并与之同心。因而，边缘覆盖范围在每个湿润区的四个侧面上均对称。应当注意，尽管在本申请的附图中示出的几何形状通常是矩形，但是相同的概念可以应用于其他几何形状，例如，普通的多边形、普通的椭圆和圆形以及不规则形状。

第三孔506掩盖了基底的多个湿润区的边缘，所述湿润区被小的干燥区彼此隔开，所述干燥区足够小以至于无需掩模来调节干燥速度。因此，第三孔506掩盖了与大的干燥区相邻的湿润区的边缘。因此，一个孔掩盖了多个湿润区。

图5中所示的孔的尺寸、形状和分布旨在说明可以在单个掩模中以任意组合使用干燥掩模结构的概念。单个掩模的孔可以具有相同的形状或各不相同的形状，这些形状可能通常是矩形或各种形状。尺寸和间距也可以全部相同或各不相同。

图5显示掩模500连接至支撑掩模500并允许操纵掩模500的框架514。该框架由支撑件516支撑，如虚线所示，这是因为支撑件516位于框架514的下方，在图5所示的平面图中无法直接看到。支撑件516通常类似于结合图1描述的掩模支撑件135。支撑件516位于掩模500的两个相对侧上，以便于基底的放置和从连接至框架514的侧面之间的掩模500的一端取回。

图6是根据另一个实施例的掩模600的平面图。掩模600使用多个孔来调节某些湿润区的干燥分布情况。具体地，掩模600使用多个孔以形成所述多个第一湿润区508的蒸汽透过区域。多个蒸汽透过区域602用来掩盖掩模600中的所述多个第一湿润区508。蒸汽透过区域602具有多个不同尺寸的孔，通常朝着蒸汽透过区域602的中心区增加以平衡从湿润区508的边缘到中心的干燥速度。这些孔不规则地间隔开，但是通常会有这样一种趋势，即从边缘到中心通过掩模的流量断面增加。此处，在蒸汽透过区域602的边缘附近使用小开口，在蒸汽透过区域602的中心附近使用较大的开口。开口的尺寸通常从蒸汽透过区域602的边缘到中心单调地增加，或者可选地呈线性增加。在这种情况下，最小的开口出现在蒸汽透过区域602的拐角附近，这是因为湿润区508的拐角附近的区域被最干燥的区域包围，并且会经受最快速的干燥条件。

掩模600是采用不同种类的蒸汽透过特征的实施例。此处，具有包括多个开口的蒸汽透过区域，其中包括具有单个开口的蒸汽透过区域。还具有覆盖单个湿润区的单开口蒸汽透过区域，其中包括覆盖多个湿润区的蒸汽透过区域。单个掩模中可以使用不同种类的蒸汽透过区域。蒸汽透过区域的种类包括图6所示的种类，以及多孔材料、割缝材料、由固体材料形成的含弯道的蚀刻材料、烧结材料和其他透射材料。

图7A是一部分掩模700的剖视图，这部分掩模可与本文所述的其中一种装置一起使用。该剖视图是形成掩模700的至少一部分蒸汽透过区域的开口边缘处的一部分掩模700。掩模700具有边界区702，其通常设置在下层基底的干燥区上方；以及蒸汽透过区域704，其嵌入掩模700的远端表面706。因而，蒸汽透过区域704在外壁707处与边界区702连接。蒸汽透过区域704还可以嵌入与远端表面706相对的掩模700的近端表面708。蒸汽透过区域704具有至少一个开口710。在这种情况下，开口的边缘712逐渐变窄，以实现由蒸汽透过区域704覆盖的部分基底所需的蒸发分布。锥度止于开口710周围的薄壁714。锥度是线性的，例如斜面，并且锥形区域的尺寸小于从开口710的外壁707到壁714之间的蒸汽透过区704的尺寸。锥形区域可以是弯曲的，并且可以从壁714延伸到远离开口710的任何期望距离。在一些情况下，锥形区域可以延伸到外壁707之外，到达边界区702下方的位置。此处，锥度被施加在掩模700的近端表面708上，但是替代地或附加地，锥度可以被施加到掩模700的远端表面706。图7B是根据另一实施例的一部分掩模720的剖面图。这里，蒸汽透过区域722具有开口724，该开口具有曲边726，该曲边726在开口724周围形成壁。此处的曲边726是椭圆形的，但是可以是任何期望的形状，包括抛物线形或双曲线形，以影响边缘的气流量。图7A和7B是用以证明不同的边缘效应能适用于本文所述的各种掩模的蒸汽透过区域中的开口的实例。若需要，单个蒸汽透过区域中的每个开口的边缘效应都可以不同于其他每个开口的边缘效应。单个开口的边缘效应可能会在开口周围发生变化。例如，本文所述的任何掩模的蒸汽透过区域中的单个开口可具有锥形边，其中，锥角或锥形围绕开口的圆周连续或不连续地变化。这样的开口仅在一部分开口处具有边缘效应，而开口的其余部分的边缘是简单的垂直平坦壁。边缘效应还可以与网孔和多孔材料形成的蒸汽透过区域一起使用，其中网孔或多孔材料与掩模的边界区相交。

图7C是根据另一实施例的一部分掩模740的剖面图。此处，蒸汽透过区域742的四周围绕着边界区744，壁746从掩模740的近端表面748向基底支撑件的支撑表面延伸。壁746具有面向支撑表面的平端750，在平端750和支撑表面之间形成间隙以减小沿壁746的平端750的气流断面。壁可以从蒸汽透过区域742或边界区744中的近端表面748延伸出来，或者可以从蒸汽透过区域742向边界区744重叠。壁746可以围绕蒸汽透过区域742的开口的整个外围延伸，从而部分密封基底的湿润区。该壁也可以围绕整个蒸汽透过区域742的外围延伸。该壁也可以有一部分围绕开口或整个蒸汽透过区域延伸。通过减少外围去除含溶剂气体以加速沿湿润区边缘的蒸发的机率，部分密封降低了与湿润区相邻的干燥区的干燥加速效果。应当注意，壁746可以具有弯曲端而不是平端750。

尽管已经结合具体实施例描述了客体，但是也可以设想其他实施例。例如，尽管图1中的掩模125包括各湿润区110的单孔，但是在其他实施例中，可以使用不同数量、形状和模式的孔来维持相对均匀的蒸汽浓度。因此，所附权利要求的精神和范围不应局限于前述描述。只有那些明确记载“用于……的手段”或“针对……的步骤”的权利要求应该按照《美国法典》35U.S.C.§112第6款的规定进行解释。

Claims (19)

1.一种干燥室，其包括：

设置于外壳内的基底支撑件，所述基底支撑件具有支撑表面；

具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域的掩模，所述掩模横跨于所述外壳内的所述基底支撑件的支撑表面且设置成与所述支撑表面相距可调的距离；以及

连接至所述外壳的气源；以及

连接至所述外壳的真空源。

2.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模具有延伸穿过所述外壳的掩模支撑件。

3.根据权利要求2所述的干燥室，其中所述掩模支撑件位于所述掩模的两个相对侧。

4.根据权利要求1所述的干燥室，其进一步包括在所述掩模和所述真空源之间的配气元件。

5.根据权利要求4所述的干燥室，其进一步包括外围蒸汽阻挡层，所述外围蒸汽阻挡层包围所述掩模和所述配气元件之间的间隙。

6.根据权利要求4所述的干燥室，其中所述气源在向所述蒸汽阻隔层外部提供气流的位置处与所述外壳偶联。

7.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括从所述掩模的近端表面向所述支撑表面延伸的壁。

8.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述基底支撑件包括温控元件。

9.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括刚性材料，所述刚性材料设置于所述基底上方且与所述基底隔开。

10.根据权利要求1所述的干燥室，其中每个蒸汽透过区域具有单个开口、多个开口、网孔、筛网或多孔材料。

11.一种用于干燥具有湿润区的基底的方法，所述湿润区由干燥边界域隔开且由载液润湿，所述方法包括：

将掩模相对于所述基底进行定向，所述掩模具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域；以及

通过所述掩模的所述蒸汽透过区域，从所述基底的所述湿润区吸取载液。

12.根据权利要求11所述的方法，其中将掩模相对于所述基底进行定向，使所述蒸汽透过区域定位在所述湿润区的相对侧，并将所述蒸汽阻挡区域定位在所述干燥边界域的相对侧。

13.根据权利要求12所述的方法，其进一步包括：在所属基底和所述掩模之间设置间隙。

14.根据权利要求12所述的方法，所述吸取使所述载液通过穿孔的配气元件。

15.根据权利要求14所述的方法，其中每个所述湿润区为第一形状，且每个所述蒸汽透过区域在相似的第二形状上延伸，所述方法还包括使所述湿润区相对于所述蒸汽透过区域对齐。

16.一种干燥室，其包括：

基底支撑件，其用于支撑具有由干燥边界域隔开的湿润区的基底，所述湿润区包括表现出载液蒸汽压的挥发性载液；

配气装置，其限定所述基底上方的处理空间体积的处理空间，其中所述处理空间体积在五分钟内几乎达到挥发性载液的蒸汽饱和度；以及

真空源，其从所述处理空间吸取所述挥发性载液的蒸汽。

17.根据权利要求16所述的干燥室，其进一步包括：致动器，所述致动器与所述基底支撑件和所述配气装置之一连接以装载和卸载所述基底。

18.根据权利要求16所述的干燥室，其进一步包括：包围所述基底支撑件和所述配气装置的辅助处理空间。

19.根据权利要求18所述的干燥室，其进一步包括：向所述辅助处理空间提供空气的气源。

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