JP2008016859A - 縦型ウェーハホルダ - Google Patents
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Abstract
【構成】ウェーハ12を保持して縦型炉内に装入される縦型ウェーハホルダ20を全体に亘り開放構造とし、下部所要範囲に断熱板14を装填することで、ウェーハ処理後に行われるガスチャージが完全に行われる様にし、パーティクルの原因となる反応ガスの残留を防止する。
【選択図】 図1
Description
2 外部反応管
3 内部反応管
4 ボート
12 ウェーハ
14 断熱板
20 縦型ウェーハホルダ
21 ボート載置台
Claims (3)
- 縦型炉内でウェーハをボートにより保持し該縦型炉内をヒータにより加熱して処理する半導体製造装置において、前記ボートの下方で所要枚数の断熱板を保持する断熱板保持部を開放構造とし、前記所要枚数の断熱板が、前記断熱板保持部の複数本の支柱に設けられた溝に、その周縁部が保持されるように装填可能であることを特徴とする半導体製造装置。
- 縦型炉内でウェーハをボートにより保持し該縦型炉内をヒータにより加熱して処理する半導体製造装置において、前記ボートの下方で所要枚数の断熱板を保持する断熱板保持部を開放構造とし、前記ボートと前記断熱板保持部とが一体構造をなし、且つ、前記ウェーハ及び前記断熱板が保持される溝が略全長に亘って刻設され、前記ウェーハが、前記ボートの複数本の支柱に設けられた溝に装填可能であるとともに、前記所要枚数の断熱板が、前記断熱板保持部の複数本の支柱に設けられた溝に、その周縁部が保持されるように装填可能であることを特徴とする半導体製造装置。
- ボートと該ボートの下方の断熱板保持部が開放構造となっており、且つ、前記断熱板保持部の複数本の支柱に設けられた溝に周縁部を保持されるよう断熱板を装填可能とし、該断熱板の周縁を保持する溝に前記断熱板を所要枚数装填し、前記ボートにウェーハを装填した後前記ボートを縦型炉に装入し、該縦型炉内をヒータにより加熱すると共に反応ガスを導入してウェーハの処理を行った後、反応ガスの導入を停止し、前記ボートを前記縦型炉内から引出すことを特徴とする半導体製造方法。
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2007
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