JP4627309B2 - 半導体製造装置、半導体製造方法及び被処理基板ホルダ - Google Patents
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Description
2 外部反応管
3 内部反応管
4 ボート
12 ウェーハ
14 断熱板
20 縦型ウェーハホルダ
21 ボート載置台
Claims (5)
- 被処理基板をヒータにより加熱して処理する縦型炉と、該縦型炉内で上部に被処理基板及び下部に断熱板を保持する被処理基板ホルダと、を有する半導体製造装置において、前記被処理基板ホルダは、複数本の支柱を有し、該支柱が全長に亘って前記被処理基板及び前記断熱板の周縁部を保持するための溝を有し、前記下部を開放構造としたことを特徴とする半導体製造装置。
- 被処理基板をヒータにより加熱して処理する縦型炉と、該縦型炉内で被処理基板及び断熱板を保持する被処理基板ホルダと、を有する半導体製造装置において、前記被処理基板ホルダは、複数本の支柱を有し、前記支柱には全長に亘って前記被処理基板及び前記断熱板の周縁部を保持するための溝が刻設され、前記支柱の下部に前記断熱板が装填され、且つ、前記支柱の下部を開放構造としたことを特徴とする半導体製造装置。
- 複数本の支柱を有し、該支柱が全長に亘って被処理基板及び断熱板の周縁部を保持するための溝を有し、前記支柱の下部を開放構造とした被処理基板ホルダの前記支柱の上部に前記被処理基板及び下部に前記断熱板を保持した後、前記被処理基板ホルダを縦型炉内に装入し、該縦型炉内で前記被処理基板をヒータにより加熱して処理することを特徴とする半導体製造方法。
- 被処理基板をヒータにより加熱して処理する縦型炉内で上部に被処理基板及び下部に断熱板を保持する被処理基板ホルダであって、複数本の支柱を有し、該支柱が全長に亘って前記被処理基板及び前記断熱板の周縁部を保持するための溝を有し、前記下部を開放構造としたことを特徴とする被処理基板ホルダ。
- 被処理基板をヒータにより加熱して処理する縦型炉内で被処理基板及び断熱板を保持する被処理基板ホルダであって、複数本の支柱を有し、前記支柱には全長に亘って前記被処理基板及び前記断熱板の周縁部を保持するための溝が刻設され、前記支柱の下部に前記断熱板が装填され、且つ、前記支柱の下部を開放構造としたことを特徴とする被処理基板ホルダ。
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2007
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