JP4369447B2 - ベーク用の治具及びベーク処理装置 - Google Patents
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Description
治具要素部材を着脱自在に複数段積み重ねて構成され、
前記治具要素部材に石英製品を載置し、この治具要素部材の上に他の治具要素部材を積み重ね、当該他の治具要素部材に石英製品を載置し、こうして順次治具要素部材と石英製品とを積み重ねていくものであることを特徴とする。
下端に炉口が形成され、前記石英製品が内部に配置される非金属製の円筒状の縦型容器と、
この容器の外側に設けられ、容器内の処理雰囲気を加熱する加熱手段と、
前記炉口を開閉する蓋体と、
この蓋体の上に搭載され、石英製品が載置される非金属製の治具と、
前記蓋体を昇降する昇降手段と、
塩化水素ガスとこのガスの反応性を高めるためのガスとを含むベーク用のガスを容器内に供給するためのガス供給手段と、を備え、
前記治具は、上述したベーク用の治具であることを特徴とする。
本発明のベーク処理装置に係る実施の形態について説明する。図1は後述するベーク用の治具に載置される石英製品をベーク処理するためのベーク処理装置である。図1中の2は非金属製例えば石英により縦型の円筒状に形成された例えば内径が54cmの縦型容器である。この容器2の下端は、搬入出口(炉口)として開口され、その開口部21の周縁部にはフランジ22が一体に形成されている。前記容器2の下方には、フランジ22の下面に当接して開口部21を気密に閉鎖する、例えば石英製の蓋体23が昇降機構24により昇降自在に構成されたエレベータ25により上下方向に開閉可能に設けられている。なお、この蓋体23の上には後述するベーク用の治具が搭載される。
そして所定の時間が経過した後、ガス供給機器群31a内のバルブを閉じて塩化水素ガスの供給を停止すると共に、酸素ガスの供給流量を5L/minに設定して酸素パージを行う。この酸素パージは必要に応じて行えばよいが、このようにベーク用のガスを供給して後に酸素パージを行うことにより、塩化水素が酸化して塩素酸が生成し、石英の表面の未結合手と塩素酸とが結合して不純物となるのを抑えることができる。
続いて上述した縦型の容器2内に石英製品を搬入するためのベーク用の治具の他の形態について図8及び図9を参照しながら説明する。なお、図3及び図4に示すベーク用の治具6と同じ構成にある部分については同じ符号を付すと共にその説明を省略する。図8及び図9に示すベーク用の治具61は、5つの筒状体51,52,54,55,56を積み重ねたものであり、これらは着脱自在となっている。1段目から3段目の筒状体51,52,54には、先の実施の形態と同様の大きさ、同様の構造であり、開口部51a,52a,54aが形成されている。また3段目の筒状体54の上端面には周方向に沿ってリング状支持部54bが形成されており、このリング状支持部54bには後述する載置部である載置台54cが載置されるようになっている。
また図9に示すように4段目の筒状体55の上端面には周方向に沿って段部72が形成されており、この段部72に最上段の筒状体56の下端面が嵌合するようになっている。また図4に示すように同様にして1段目の筒状体51と2段目の筒状体52とが嵌合し、2段目の筒状体52と3段目の筒状体54とが嵌合し、3段目の筒状体54と4段目の筒状体55とが嵌合している。
また第2の実施の形態の筒状体の一部を第1の実施の形態の治具6に組み込んでベーク処理を行ってもよい。
2 容器
23 蓋体
25 エレベータ
26 ヒータ
3 ガス供給管
4 反応チューブ
41 蓋体
42 断熱ユニット
43 ウエハボート
44 インジェクタ
51〜56 筒状体
51a〜56a 開口部
6,61 ベーク用の治具
Claims (9)
- 半導体基板を反応容器内に搬入して熱処理する熱処理装置の構成部品である石英製品を、下端に炉口が形成される非金属製の筒状の縦型容器内に搬入し、当該石英製品をベーク処理するときに用いられる治具であって、
治具要素部材を着脱自在に複数段積み重ねて構成され、
前記治具要素部材に石英製品を載置し、この治具要素部材の上に他の治具要素部材を積み重ね、当該他の治具要素部材に石英製品を載置し、こうして順次治具要素部材と石英製品とを積み重ねていくものであることを特徴とするベーク用の治具。 - 前記治具要素部材は、互に積み重ねられる治具要素部材本体と、この治具要素部材本体に設けられた載置部をなす載置台とを備えていることを特徴とする請求項1記載のベーク用の治具。
- 前記載置台は治具要素部材本体に対して着脱自在であることを特徴とする請求項2に記載のベーク用の治具。
- 前記載置台は、ガス通過用の開口部が形成されていることを特徴とする請求項2または3に記載のベーク用の治具。
- 前記治具要素部材本体は筒状体であることを特徴とする請求項2ないし4のいずれか一に記載のベーク用の治具。
- 前記治具要素部材本体は、その周壁にガスを通過させるための複数のガス通過用の開口部が周方向に形成されたことを特徴とする請求項2ないし5のいずれか一に記載のベーク用の治具。
- 最上段の治具要素部材においては、石英製品が当該治具要素部材よりも上方に伸び出した状態で載置されることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一に記載のベーク用の治具。
- 最上段の治具要素部材においては、石英製品である反応容器または基板保持具を載置することを特徴とする請求項7に記載のベーク用の治具。
- 半導体基板を反応容器内に搬入して熱処理する熱処理装置であって、この熱処理装置の熱処理雰囲気に少なくとも一部が置かれる石英製品に含まれる金属を除去するためのベーク処理装置において、
下端に炉口が形成され、前記石英製品が内部に配置される非金属製の円筒状の縦型容器と、
この容器の外側に設けられ、容器内の処理雰囲気を加熱する加熱手段と、
前記炉口を開閉する蓋体と、
この蓋体の上に搭載され、石英製品が載置される非金属製の治具と、
前記蓋体を昇降する昇降手段と、
塩化水素ガスとこのガスの反応性を高めるためのガスとを含むベーク用のガスを容器内に供給するためのガス供給手段と、を備え、
前記治具は、請求項1ないし8のいずれか一に記載されたものであることを特徴とするベーク処理装置。
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