JP2008227163A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008227163A JP2008227163A JP2007063656A JP2007063656A JP2008227163A JP 2008227163 A JP2008227163 A JP 2008227163A JP 2007063656 A JP2007063656 A JP 2007063656A JP 2007063656 A JP2007063656 A JP 2007063656A JP 2008227163 A JP2008227163 A JP 2008227163A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction tube
- gas
- nozzle
- pod
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】
反応管内に処理ガスを導入するガスノズルの反応管貫通部での強度を増大し、外力によるガスノズルの破損、更にガスノズルの破損に起因する反応管の破損の防止しようとする。
【解決手段】
基板を収納し、処理する反応管4と、該反応管の周囲に設けられる加熱手段と、前記反応管内に処理ガスを供給するガスノズル14と、前記反応管内の雰囲気を排気する排気手段とを具備し、前記ガスノズルの少なくとも前記反応管を貫通する部分を厚肉とした。
【選択図】 図1
反応管内に処理ガスを導入するガスノズルの反応管貫通部での強度を増大し、外力によるガスノズルの破損、更にガスノズルの破損に起因する反応管の破損の防止しようとする。
【解決手段】
基板を収納し、処理する反応管4と、該反応管の周囲に設けられる加熱手段と、前記反応管内に処理ガスを供給するガスノズル14と、前記反応管内の雰囲気を排気する排気手段とを具備し、前記ガスノズルの少なくとも前記反応管を貫通する部分を厚肉とした。
【選択図】 図1
Description
本発明は、ウェーハ、ガラス基板等の基板に薄膜の生成、不純物の拡散、アニール処理、エッチング等の処理を行う基板処理装置に関するものである。
基板処理装置としては、基板を1枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置と、所定枚数一度に処理するバッチ式の基板処理装置がある。
バッチ式の基板処理装置の1つである縦型基板処理装置では、縦型処理炉を有し、該縦型処理炉内で基板保持具により、基板を水平姿勢で多段に保持して基板処理を行う。
基板処理は、処理炉内に処理ガスを導入しつつ、排気し、処理圧に保持した状態で、基板を加熱し、基板表面に薄膜の生成、不純物の拡散等が行われる。
図9は従来の基板処理装置に於ける、縦型炉1の炉口部分の断面を示している。
図9中、2はヒータベースを示しており、該ヒータベース2に中空形状の加熱装置3が立設され、該加熱装置3内に下端が開口する有天筒状の反応管4が収納され、該反応管4は耐熱性があり、基板を汚染しない材質例えば、石英製であり、処理室16を画成する。前記反応管4の下端部は、前記ヒータベース2より下方に延出し炉口部5を形成する。
該炉口部5下端の炉口6は、耐熱性があり、基板を汚染しない材質例えば、石英製のシールキャップ7によって気密に閉塞される様になっており、該シールキャップ7にはボート受台8が回転可能に設けられ、該ボート受台8にボート断熱部9を介して基板保持具であるボート11が載置される。該ボート11には、シリコンウェーハ等の基板(以下ウェーハ)12が水平姿勢で多段に装填される。
前記シールキャップ7の下側には、ボート回転機構13が設けられており、該ボート回転機構13によって前記ボート受台8が回転される様になっている。尚、前記シールキャップ7は、図示しないボートエレベータによって昇降される様になっている。
前記反応管4の前記炉口部5には半径方向から貫通し、壁面に沿って上方に延出する石英製のガスノズル14が設けられ、該ガスノズル14より処理ガスが前記処理室16に導入される。又、前記炉口部5には、排気口15が設けられ、該排気口15には図示しない排気装置が設けられ、該排気口15を介して処理後のガスが排気される様になっている。
前記ボート11に保持されたウェーハ12が前記処理室16に装入され、前記シールキャップ7によって前記炉口6が気密に閉塞され、前記加熱装置3によってウェーハ12が処理温度に過熱された状態で、前記ガスノズル14から処理ガスが導入され、又前記排気口15から排気され、前記処理室16が処理圧力に維持され基板処理が行われる。尚、処理中、前記ボート回転機構13により前記ボート受台8、前記ボート断熱部9を介して前記ボート11が回転され、ウェーハ12の処理の均一化が図られている。
次に、前記ガスノズル14について、図9、図10を参照して説明する。
該ガスノズル14は、前記炉口部5を貫通するL字形のノズル基部17と該ノズル基部17に連通し、前記反応管4内面に沿って上方に延出するノズル本体部18を有し、該ノズル本体部18は前記ノズル基部17に対して太径となっており、両者は溶接により接合されている。
前記ノズル基部17は、前記ノズル本体部18と同心の垂直部17aと該垂直部17aと直交する水平部17bとを溶接によりL字状に接合したものであり、又前記水平部17bが前記反応管4の壁面を垂直に貫通し、又貫通する箇所で前記水平部17bと前記反応管4とが溶接されている。
前記水平部17bが前記反応管4から露出する外端部には管継手19を介してフレキシブルチューブ21が接続される。
該フレキシブルチューブ21を前記水平部17bに着脱する場合に、前記管継手19を介して実施されるが、該管継手19を締付ける際等、前記水平部17bには外力が作用する。外力は、そのまま前記水平部17bに作用するので、大きな外力が作用すると、前記水平部17bを破損させる虞れがある。或は、前記反応管4自体を破損することも考えられる。
又、破損した場合には、補修ができない構造である為、前記フレキシブルチューブ21を接続する作業では、前記水平部17bに過剰な力が作用しない様に細心の注意が要求されていた。
本発明は斯かる実情に鑑み、反応管内に処理ガスを導入するガスノズルの反応管貫通部での強度を増大し、外力によるガスノズルの破損、更にガスノズルの破損に起因する反応管の破損の防止しようとするものである。
本発明は、基板を収納し、処理する反応管と、該反応管の周囲に設けられる加熱手段と、前記反応管内に処理ガスを供給するガスノズルと、前記反応管内の雰囲気を排気する排気手段とを具備し、前記ガスノズルの少なくとも前記反応管を貫通する部分を厚肉とした基板処理装置に係るものである。
本発明によれば、基板を収納し、処理する反応管と、該反応管の周囲に設けられる加熱手段と、前記反応管内に処理ガスを供給するガスノズルと、前記反応管内の雰囲気を排気する排気手段とを具備し、前記ガスノズルの少なくとも前記反応管を貫通する部分を厚肉としたので、ガスノズルに外力が作用した場合の強度が増大し、ガスノズル、反応管の破損が防止されるという優れた効果を発揮する。
以下、図面を参照しつつ本発明を実施する為の最良の形態を説明する。
図1は、本発明の第1の実施の形態を示しており、図1中、図9中で示したものと同等のものには同符号を付してある。
耐熱性があり、基板を汚染しない材質、例えば石英製のガスノズル14は、L字形のノズル基部17と該ノズル基部17から反応管4の内壁面に沿って上方に延出するノズル本体部18から構成され、該ノズル本体部18は前記ノズル基部17と同心であり、該ノズル基部17より太径となっている。
該ノズル基部17は垂直部17aと水平部17bによりL字形を形成し、該水平部17bは更に前記垂直部17aに接続される内端部22aと前記反応管4の管壁を貫通する管壁貫通部22bを有している。
前記垂直部17aと前記内端部22aは、同外径、同内径で肉厚が同じとなっており、前記管壁貫通部22bは前記内端部22aと同内径で肉厚は前記内端部22aより厚くなっている。
前記垂直部17aと前記内端部22aとは45°の境界面を介して連設され、溶接により接合されている。又、前記管壁貫通部22bの内端は前記反応管4の内壁面と面一になっており、前記内端部22aと突合された状態で溶接により接合されている。
図示していないが、前記管壁貫通部22bの外端には管継手を介してフレキシブルチューブ21が接続されている。
前記管壁貫通部22bを肉厚にすることで、該管壁貫通部22bの前記反応管4の貫通部の強度が増大する。又、前記管壁貫通部22bに外力が作用した場合、曲げモーメントは前記管壁貫通部22bと前記反応管4壁面との境界で最大となるが、前記管壁貫通部22bの前記反応管4の貫通部の強度を増大させているので、破損が防止される。
又、外力は前記管壁貫通部22bから前記反応管4に伝達されるので、前記内端部22aには殆ど伝達されない。従って、前記水平部17bの前記反応管4貫通部の強度を増大させることで、前記ノズル基部17自体の強度を増大させることとなる。
尚、前記管壁貫通部22bの肉厚は、前記内端部22aに対して2.0倍、前記反応管4の肉厚に対して2.0倍が好ましい。
次に、ノズル基部17の強度補強の一般的な方法として、リブ23を溶接する方法がある。
該リブ23を溶接した場合で、応力解析をした結果、リブ23aとリブ23bとの間に掛渡って最大応力σmax が発生する(図11(A)参照)。又、前記管壁貫通部22bを肉厚とした場合、最大応力σmax が発生するのは前記管壁貫通部22bと前記反応管4壁面との境界の最頂部のごく一部に限られ(図11(B)参照)、又最大応力値も前記リブ23を設けた場合と変らないことが得られた。従って、前記管壁貫通部22bの肉厚を増大することが強度の増大に効果的である。
又、複数のリブ23を溶接するのに対して前記管壁貫通部22bを溶接することは作業上からも容易である。
図2は、第2の実施の形態を示すものである。
水平部17bに曲げモーメントが作用した場合に、曲げモーメントの最大値は、管壁貫通部22bと反応管4壁面との境界で最大となることを考慮し、第2の実施の形態では、前記水平部17bの前記反応管4貫通部近傍に限って、肉厚としたものである。
前記水平部17bを、更に3部材で構成しており、構成する3部材は、前記反応管4壁面を貫通し、該反応管4の内側、外側に向ってそれぞれ若干突出している管壁貫通部22b、該管壁貫通部22bと同一内径を有し、該管壁貫通部22bと同心の垂直部17aと同一内径、同一外径を有する内端部22a、及び前記管壁貫通部22bと同一内径を有し、前記管壁貫通部22bと同心の外端部22cとなっている。
前記管壁貫通部22bは前記反応管4に溶接され、前記内端部22aは前記管壁貫通部22bに溶接されると共に前記垂直部17aに45°の境界面を介して溶接され、前記外端部22cは前記管壁貫通部22bに溶接されている。
前記水平部17bは、前記反応管4の前記管壁貫通部22bが肉厚となっていることで、強度が増大し、破損が防止される。更に、フレキシブルチューブ21(図9参照)が管継手19を介して接続されるのは、肉厚の薄い、前記外端部22cであり、前記フレキシブルチューブ21から大きな外力が作用した場合、強度の小さい、前記外端部22cが破損する。従って、前記反応管4には損傷が及ばない。又、前記外端部22cは、再度前記管壁貫通部22bに溶接可能であるので、補修が可能となる。尚、前記外端部22cで破損し易くなる様に、該外端部22cの所要位置に円周に沿って溝を刻設してもよい。
図3は第3の実施の形態を示すものであり、該第3の実施の形態は、第2の実施の形態の変形である。
水平部17bの反応管4を貫通する部位に、太径の管壁貫通部22bを嵌合すると共に前記水平部17bに溶接し、前記管壁貫通部22bを前記反応管4に溶接したものである。
前記管壁貫通部22bが溶接され2重管構造とすることで、前記反応管4の貫通部を実質的に肉厚としたものである。
図4は第4の実施の形態を示すものである。
第4の実施の形態では、破損時の補修を可能とするものであり、従来と同様、ノズル基部17を同一外径、同一内径の垂直部17aと水平部17bとをL字形に溶接し、該水平部17bが反応管4の管壁を貫通し、貫通部分は溶接付したものである。又、第4の実施の形態では、前記水平部17bが前記反応管4から外方に延出する部分の外壁面から所要距離離れた位置に円周に沿って溝24を刻設したものである。
該溝24を刻設することで、前記水平部17bに外力が作用した場合、前記溝24に応力が集中し、破損する場合は、前記溝24で破損する。従って、損傷が前記反応管4に及ぶことなく、前記水平部17bの補修だけで済む。
次に、本発明が実施される基板処理装置の一例を図5、図6を参照して説明する。
尚、該基板処理装置に於いて処理される基板は、一例としてシリコン等から成るウェーハが示されている。
図5及び図6に示されている様に、基板処理装置31は筐体32を備えている。該筐体32の正面壁33の正面前方部にはメンテナンス可能な様に設けられた開口部としての正面メンテナンス口34が開設され、該正面メンテナンス口34は正面メンテナンス扉35によって開閉される。
前記筐体32の前記正面壁33にはポッド搬入搬出口36が前記筐体32の内外を連通する様に開設されており、前記ポッド搬入搬出口36はフロントシャッタ(搬入搬出口開閉機構)37によって開閉され、前記ポッド搬入搬出口36の正面前方側にはロードポート(基板搬送容器受渡し台)38が設置されており、該ロードポート38は載置されたポッド39を位置合せする様に構成されている。
該ポッド39は、密閉式の基板搬送容器であり、図示しない工程内搬送装置によって前記ロードポート38上に搬入され、又、該ロードポート38上から搬出される様になっている。
前記筐体32内の前後方向の略中央部に於ける上部には、回転式ポッド棚(基板搬送容器格納棚)41が設置されており、該回転式ポッド棚41は複数個のポッド39を格納する様に構成されている。
前記回転式ポッド棚41は垂直に立設されて間欠回転される支柱42と、該支柱42に上中下段の各位置に於いて放射状に支持された複数段の棚板(基板搬送容器載置棚)43とを備えており、該棚板43はポッド39を複数個宛それぞれ載置した状態で格納する様に構成されている。
前記回転式ポッド棚41の下方には、ポッドオープナ(基板搬送容器蓋体開閉機構)44が設けられ、該ポッドオープナ44は前記ポッド39を載置し、又該ポッド39の蓋を開閉可能な構成を有している。
前記ロードポート38と前記回転式ポッド棚41、前記ポッドオープナ44との間には、ポッド搬送装置(容器搬送装置)45が設置されており、該ポッド搬送装置45は、前記ポッド39を保持して昇降可能、水平方向に進退可能となっており、前記ロードポート38、前記回転式ポッド棚41、前記ポッドオープナ44との間で前記ポッド39を搬送する様に構成されている。
前記筐体32内の前後方向の略中央部に於ける下部には、サブ筐体46が後端に亘って設けられている。該サブ筐体46の正面壁47にはウェーハ(基板)48を前記サブ筐体46内に対して搬入搬出する為のウェーハ搬入搬出口(基板搬入搬出口)49が一対、垂直方向に上下二段に並べられて開設されており、上下段のウェーハ搬入搬出口49,49に対して前記ポッドオープナ44がそれぞれ設けられている。
該ポッドオープナ44は前記ポッド39を載置する載置台51と、前記ポッド39の蓋を開閉する開閉機構52とを備えている。前記ポッドオープナ44は前記載置台51に載置された前記ポッド39の蓋を前記開閉機構52によって開閉することにより、前記ポッド39のウェーハ出入れ口を開閉する様に構成されている。
前記サブ筐体46は前記ポッド搬送装置45や前記回転式ポッド棚41が配設されている空間(ポッド搬送空間)から気密となっている移載室53を構成している。該移載室53の前側領域にはウェーハ移載機構(基板移載機構)54が設置されており、該ウェーハ移載機構54は、ウェーハを載置する所要枚数(図示では5枚)のウェーハ載置プレート55を具備し、該ウェーハ載置プレート55は水平方向に直動可能、水平方向に回転可能、又昇降可能となっている。前記ウェーハ移載機構54はボート(基板保持具)56に対してウェーハ48を装填及び払出しする様に構成されている。
前記移載室53の後側領域には、前記ボート56を収容して待機させる待機部57が構成され、該待機部57の上方には縦型の処理炉58が設けられている。該処理炉58の下端部は、炉口部となっており、該炉口部は炉口シャッタ(炉口開閉機構)59により開閉される様になっている。
前記筐体32の右側端部と前記サブ筐体46の前記待機部57の右側端部との間には前記ボート56を昇降させる為のボートエレベータ(基板保持具昇降機構)61が設置されている。該ボートエレベータ61の昇降台に連結されたアーム62には蓋体としてのシールキャップ63が水平に取付けられており、該シールキャップ63は前記ボート56を垂直に支持し、前記処理炉58の下端部を気密に閉塞可能となっている。
前記ボート56は複数本の保持部材を備えており、複数枚(例えば、50枚〜125枚程度)のウェーハ48を、その中心を揃えて水平姿勢で多段に保持する様に構成されている。
前記ボートエレベータ61側と対向した位置にはクリーンユニット65が配設され、該クリーンユニット65は、清浄化した雰囲気若しくは不活性ガスであるクリーンエア64を供給する様供給ファン及び防塵フィルタで構成されている。前記ウェーハ移載機構54と前記クリーンユニット65との間には、ウェーハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合せ装置(図示せず)が設置されている。
前記クリーンユニット65から吹出されたクリーンエア64は、ノッチ合せ装置(図示せず)及び前記ウェーハ移載機構54、前記ボート56に流通された後に、図示しないダクトにより吸込まれて、前記筐体32の外部に排気がなされるか、若しくは前記クリーンユニット65の吸込み側である一次側(供給側)に迄循環され、再び該クリーンユニット65によって、前記移載室53内に吹出される様に構成されている。
次に、本発明の処理装置の作動について説明する。
前記ポッド39が前記ロードポート38に供給されると、前記ポッド搬入搬出口36が前記フロントシャッタ37によって開放される。前記ロードポート38の上の前記ポッド39は前記ポッド搬送装置45によって前記筐体32の内部へ前記ポッド搬入搬出口36を通して搬入され、前記回転式ポッド棚41の指定された前記棚板43へ載置される。前記ポッド39は前記回転式ポッド棚41で一時的に保管された後、前記ポッド搬送装置45により前記棚板43からいずれか一方のポッドオープナ44に搬送されて前記載置台51に移載されるか、若しくは前記ロードポート38から直接前記載置台51に移載される。
この際、前記ウェーハ搬入搬出口49は前記開閉機構52によって閉じられており、前記移載室53には前記クリーンエア64が流通され、充満されている。例えば、前記移載室53にはクリーンエア64として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が20ppm以下と、前記筐体32の内部(大気雰囲気)の酸素濃度よりも遥かに低く設定されている。
前記載置台51に載置された前記ポッド39はその開口側端面が前記サブ筐体46の前記正面壁47に於ける前記ウェーハ搬入搬出口49の開口縁辺部に押付けられると共に、蓋が前記開閉機構52によって取外され、ウェーハ出入れ口が開放される。
前記ポッド39が前記ポッドオープナ44によって開放されると、ウェーハ48は前記ポッド39から前記ウェーハ移載機構54によって取出され、ノッチ合せ装置(図示せず)に移送され、該ノッチ合せ装置にてウェーハ48を整合した後、前記ウェーハ移載機構54はウェーハ48を前記移載室53の後方にある前記待機部57へ搬入し、前記ボート56に装填(チャージング)する。
該ボート56にウェーハ48を受渡した前記ウェーハ移載機構54はポッド39に戻り、次のウェーハ48を前記ボート56に装填する。
一方(上段又は下段)のポッドオープナ44に於ける前記ウェーハ移載機構54によるウェーハ48の前記ボート56への装填作業中に、他方(下段又は上段)のポッドオープナ44には前記回転式ポッド棚41から別のポッド39が前記ポッド搬送装置45によって搬送されて移載され、前記他方のポッドオープナ44によるポッド39の開放作業が同時進行される。
予め指定された枚数のウェーハ48が前記ボート56に装填されると、前記炉口シャッタ59によって閉じられていた前記処理炉58の炉口部が、前記炉口シャッタ59によって開放される。続いて、前記ボート56は前記ボートエレベータ61によって上昇され、前記処理炉58内へ搬入(ローディング)される。
ローディング後は、前記シールキャップ63によって炉口部が気密に閉塞され、前記処理炉58にてウェーハ48に所要の処理が実行される。
処理後は、ノッチ合せ装置(図示せず)でのウェーハ48の整合工程を除き、上記と逆の手順で、ウェーハ48及びポッド39は前記筐体32の外部へ払出される。
図7、図8により、本発明で使用される縦型の処理炉58について説明する。尚、本発明のガスノズル14の構造は、後述するノズル84に適用される。
本実施の形態で用いられる基板処理装置は制御部であるコントローラ71を備え、該コントローラ71により基板処理装置、及び処理炉を構成する各部の動作等が制御される。
加熱装置(加熱手段)であるヒータ72の内側に、処理室16を画成する反応管4が同心に設けられ、該反応管4はウェーハ48を処理し、所要の処理を行う。前記反応管4の下端開口は蓋体である前記シールキャップ63により気密に閉塞され、少なくとも、前記反応管4、及び前記シールキャップ63により前記処理室16を形成している。
前記シールキャップ63にはボート支持台73を介して前記ボート56が立設され、前記ボート支持台73は前記ボート56を保持する保持体となっている。該ボート56にはバッチ処理される複数のウェーハ48が水平姿勢で管軸方向に多段に装填され、前記ボートエレベータ61(図5参照)によって前記処理室16に装入され、前記ヒータ72は装入されたウェーハ48を所定の温度に加熱する。
前記処理室16へは複数種類、ここでは2種類のガスを供給する供給経路としての2本のガス供給管74a、74bが設けられる。ここでは第1ガス供給管74aからは流量制御装置(流量制御手段)である第1マスフローコントローラ75a及び開閉弁である第1バルブ76aを介し、更に後述する前記反応管4内に形成されたバッファ室77を介して前記処理室16に反応ガスが供給され、前記第2ガス供給管74bからは流量制御装置(流量制御手段)である第2マスフローコントローラ75b、開閉弁である第2バルブ76b、ガス溜め78、及び開閉弁である第3バルブ76cを介し、更に後述するガス供給部79を介して前記処理室16に反応ガスが供給されている。
前記反応管4にはガスを排気するガス排気管81により第4バルブ76dを介して排気装置(排気手段)である真空ポンプ82に接続され、真空排気される様になっている。又、前記第4バルブ76dは、開閉して前記処理室16の真空排気・真空排気停止ができ、更に弁開度を調節して圧力調整可能になっている開閉弁である。
前記反応管4の内壁とウェーハ48との間に於ける円弧状の空間には、前記反応管4の下部より上部の内壁にウェーハ48の積載方向に沿って、ガス分散空間である前記バッファ室77が設けられており、該バッファ室77のウェーハ48と隣接する壁の端部にはガスを供給する供給孔である第1ガス供給孔83aが設けられている。該第1ガス供給孔83aは前記反応管4の中心へ向けて開口している。前記第1ガス供給孔83aは、下部から上部に亘ってそれぞれ同一の開口面積を有し、更に同じ開口ピッチで設けられている。
前記バッファ室77の前記第1ガス供給孔83aが設けられた端部と反対側の端部には、前記ノズル84が、前記反応管4の下部より上部に亘りウェーハ48の積載方向に沿って配設されている。前記ノズル84には複数のガスを供給する供給孔である第2ガス供給孔83bが設けられている。該第2ガス供給孔83bの開口面積は、前記バッファ室77と前記処理室16の差圧が小さい場合には、ガスの上流側から下流側迄、同一の開口面積で同一の開口ピッチとすると良いが、差圧が大きい場合には上流側から下流側に向かって開口面積を大きくするか、開口ピッチを小さくすると良い。
本実施の形態に於いては、前記第2ガス供給孔83bの開口面積を上流側から下流側にかけて徐々に大きくしている。この様に構成することで、各第2ガス供給孔83bよりガスの流速の差はあるが、流量は略同量であるガスを前記バッファ室77に噴出させている。
該バッファ室77内に於いて、各第2ガス供給孔83bより噴出したガスの粒子速度差が緩和された後、前記第1ガス供給孔83aより前記処理室16に噴出させている。よって、各第2ガス供給孔83bより噴出したガスは、各第1ガス供給孔83aより噴出する際には、均一な流量と流速とを有するガスとすることができる。
更に、前記バッファ室77に、細長い構造を有する第1電極である第1棒状電極85及び第2電極である第2棒状電極86が上部より下部に亘って電極を保護する保護管である電極保護管87に保護されて配設され、前記第1棒状電極85又は前記第2棒状電極86のいずれか一方は整合器88を介して高周波電源89に接続され、他方は基準電位であるアースに接続されている。この結果、前記第1棒状電極85及び前記第2棒状電極86間のプラズマ生成領域91にプラズマが生成される。
前記電極保護管87は、前記第1棒状電極85及び前記第2棒状電極86のそれぞれを前記バッファ室77の雰囲気と隔離した状態で該バッファ室77に挿入できる構造となっている。ここで、前記電極保護管87の内部は外気(大気)と同一雰囲気であると、該電極保護管87にそれぞれ挿入された前記第1棒状電極85及び前記第2棒状電極86はヒータ72の加熱で酸化されてしまう。そこで、前記電極保護管87の内部は窒素等の不活性ガスを充填或はパージし、酸素濃度を充分低く抑えて前記第1棒状電極85又は前記第2棒状電極86の酸化を防止する為の不活性ガスパージ機構が設けられる。
更に、前記第1ガス供給孔83aの位置より、前記反応管4の内周を120゜程度回った内壁に、前記ガス供給部79が設けられている。該ガス供給部79は、ALD法による成膜に於いてウェーハ48へ、複数種類のガスを1種類ずつ交互に供給する際に、前記バッファ室77とガス供給種を分担する供給部である。
前記ガス供給部79も前記バッファ室77と同様にウェーハ48と隣接する位置に同一ピッチでガスを供給する供給孔である第3ガス供給孔83cを有し、下部では前記第2ガス供給管74bが接続されている。
前記第3ガス供給孔83cの開口面積は前記ガス供給部79内と前記処理室16内の差圧が小さい場合には、ガスの上流側から下流側迄同一の開口面積で同一の開口ピッチとすると良いが、差圧が大きい場合には上流側から下流側に向かって開口面積を大きくするか開口ピッチを小さくすると良い。
本実施の形態に於いては、前記第3ガス供給孔83cの開口面積を上流側から下流側にかけて徐々に大きくしている。
前記反応管4内の中央部には複数枚のウェーハ48を多段に同一間隔で載置する前記ボート56が収納されており、該ボート56は前記ボートエレベータ61(図5参照)により前記反応管4に装脱される様になっている。又処理の均一性を向上する為に前記ボート56を回転する為の回転装置(回転手段)であるボート回転機構92が設けてあり、該ボート回転機構92を回転することにより、前記ボート支持台73に保持された前記ボート56を回転する様になっている。
前記コントローラ71は、前記第1、第2マスフローコントローラ75a、75b、前記第1〜第4バルブ76a、76b、76c、76d、前記ヒータ72、前記真空ポンプ82、前記ボート回転機構92、前記ボートエレベータ61、前記高周波電源89、前記整合器88に接続されており、前記第1、第2マスフローコントローラ75a、75bの流量調整、前記第1〜第3バルブ76a、76b、76cの開閉動作、前記第4バルブ76dの開閉及び圧力調整動作、前記ヒータ72の温度調節、前記真空ポンプ82の起動・停止、前記ボート回転機構92の回転速度調節、前記ボートエレベータ61の昇降動作制御、前記高周波電源89の電力供給制御、前記整合器88によるインピーダンス制御が行われる。
次にALD法による成膜例について、半導体デバイスの製造工程の1つである、DCS及びNH3 ガスを用いてSiN膜を成膜する例で説明する。
CVD(Chemica1 Vapor Deposition)法の中の1つであるALD(Atomic Layer Deposition)法は、ある成膜条件(温度、時間等)の下で、成膜に用いる2種類(又はそれ以上)の原料となる処理ガスを1種類ずつ交互に基板上に供給し、1原子層単位で吸着させ、表面反応を利用して成膜を行う手法である。
利用する化学反応は、例えばSiN(窒化珪素)膜形成の場合ALD法ではDCS(SiH2 C12 、ジクロルシラン)とNH3 (アンモニア)を用いて300〜600℃の低温で高品質の成膜が可能である。又、ガス供給は、複数種類の反応性ガスを1種類ずつ交互に供給する。そして、膜厚制御は、反応性ガス供給のサイクル数で制御する。(例えば、成膜速度が1Å/サイクルとすると、20Åの膜を形成する場合、処理を20サイクル行う。)
先ず成膜しようとするウェーハ48を前記ボート56に装填し、前記処理室16に搬入する。搬入後、次の3つのステップを順次実行する。
(ステップ1)
ステップ1では、プラズマ励起の必要なNH3 ガスと、プラズマ励起の必要のないDCSガスとを並行して流す。先ず前記第1ガス供給管74aに設けた前記第1バルブ76a、及び前記ガス排気管81に設けた前記第4バルブ76dを共に開けて、前記第1ガス供給管74aから前記第1マスフローコントローラ75aにより流量調整されたNH3 ガスを前記ノズル84の前記第2ガス供給孔83bから前記バッファ室77へ噴出し、前記第1棒状電極85及び前記第2棒状電極86間に前記高周波電源89から前記整合器88を介して高周波電力を印加してNH3 をプラズマ励起し、活性種として前記処理室16に供給しつつ前記ガス排気管81から排気する。NH3 ガスをプラズマ励起することにより活性種として流す時は、前記第4バルブ76dを適正に調整して前記処理室16内圧力を10〜100Paの範囲であって、例えば、20Paに維持する。前記第1マスフローコントローラ75aで制御するNH3 の供給流量は1〜10slmの範囲であって、例えば5slmで供給されNH3 をプラズマ励起することにより得られた活性種にウェーハ48を晒す時間は2〜102秒である。この時のヒータ72の温度はウェーハ48が300〜600℃の範囲であって、例えば470℃になる様に設定してある。NH3 は反応温度が高い為、上記温度では反応しないので、プラズマ励起することにより活性種としてから流す様にしており、この為ウェーハ温度は設定した低い温度範囲のままで行える。
ステップ1では、プラズマ励起の必要なNH3 ガスと、プラズマ励起の必要のないDCSガスとを並行して流す。先ず前記第1ガス供給管74aに設けた前記第1バルブ76a、及び前記ガス排気管81に設けた前記第4バルブ76dを共に開けて、前記第1ガス供給管74aから前記第1マスフローコントローラ75aにより流量調整されたNH3 ガスを前記ノズル84の前記第2ガス供給孔83bから前記バッファ室77へ噴出し、前記第1棒状電極85及び前記第2棒状電極86間に前記高周波電源89から前記整合器88を介して高周波電力を印加してNH3 をプラズマ励起し、活性種として前記処理室16に供給しつつ前記ガス排気管81から排気する。NH3 ガスをプラズマ励起することにより活性種として流す時は、前記第4バルブ76dを適正に調整して前記処理室16内圧力を10〜100Paの範囲であって、例えば、20Paに維持する。前記第1マスフローコントローラ75aで制御するNH3 の供給流量は1〜10slmの範囲であって、例えば5slmで供給されNH3 をプラズマ励起することにより得られた活性種にウェーハ48を晒す時間は2〜102秒である。この時のヒータ72の温度はウェーハ48が300〜600℃の範囲であって、例えば470℃になる様に設定してある。NH3 は反応温度が高い為、上記温度では反応しないので、プラズマ励起することにより活性種としてから流す様にしており、この為ウェーハ温度は設定した低い温度範囲のままで行える。
このNH3 をプラズマ励起することにより活性種として供給している時、前記第2ガス供給管74bの上流側の前記第2バルブ76bを開け、下流側の前記第3バルブ76cを閉めて、DCSも流す様にする。これにより前記第2バルブ76b、前記第3バルブ76c間に設けた前記ガス溜め78にDCSを溜める。この時、前記処理室16内に流しているガスはNH3 をプラズマ励起することにより得られた活性種であり、DCSは存在しない。従って、NH3 は気相反応を起こすことはなく、プラズマにより励起され活性種となったNH3 はウェーハ48上の下地膜等の表面部分と表面反応(化学吸着)する。
(ステップ2)
ステップ2では、前記第1ガス供給管74aの前記第1バルブ76aを閉めて、NH3 の供給を止めるが、引続き前記第2ガス供給管74bから前記ガス溜め78へ供給を継続する。該ガス溜め78に所定圧、所定量のDCSが溜まったら上流側の前記第2バルブ76bも閉めて、前記ガス溜め78にDCSを閉込めておく。又、前記ガス排気管81の前記第4バルブ76dは開いたままにし前記真空ポンプ82により、前記処理室16を20Pa以下に排気し、残留NH3 を前記処理室16から排除する。又、この時にはN2 等の不活性ガスを前記処理室16に供給すると、更に残留NH3 を排除する効果が高まる。前記ガス溜め78内には、圧力が20000Pa以上になる様にDCSを溜める。又、前記ガス溜め78と前記処理室16との間のコンダクタンスが1.5×10−3m3/s以上になる様に装置を構成する。又、前記反応管4の容積とこれに対する必要な前記ガス溜め78の容積との比として考えると、前記反応管4の容積100l(リットル)の場合に於いては、100〜300ccであることが好ましく、容積比としては前記ガス溜め78は反応室容積の1/1000〜3/1000倍とすることが好ましい。
ステップ2では、前記第1ガス供給管74aの前記第1バルブ76aを閉めて、NH3 の供給を止めるが、引続き前記第2ガス供給管74bから前記ガス溜め78へ供給を継続する。該ガス溜め78に所定圧、所定量のDCSが溜まったら上流側の前記第2バルブ76bも閉めて、前記ガス溜め78にDCSを閉込めておく。又、前記ガス排気管81の前記第4バルブ76dは開いたままにし前記真空ポンプ82により、前記処理室16を20Pa以下に排気し、残留NH3 を前記処理室16から排除する。又、この時にはN2 等の不活性ガスを前記処理室16に供給すると、更に残留NH3 を排除する効果が高まる。前記ガス溜め78内には、圧力が20000Pa以上になる様にDCSを溜める。又、前記ガス溜め78と前記処理室16との間のコンダクタンスが1.5×10−3m3/s以上になる様に装置を構成する。又、前記反応管4の容積とこれに対する必要な前記ガス溜め78の容積との比として考えると、前記反応管4の容積100l(リットル)の場合に於いては、100〜300ccであることが好ましく、容積比としては前記ガス溜め78は反応室容積の1/1000〜3/1000倍とすることが好ましい。
(ステップ3)
ステップ3では、前記処理室16の排気が終わったら前記ガス排気管81の前記第4バルブ76dを閉じて排気を止める。前記第2ガス供給管74bの下流側の前記第3バルブ76cを開く。これにより前記ガス溜め78に溜められたDCSが前記処理室16に一気に供給される。この時前記ガス排気管81の前記第4バルブ76dが閉じられているので、前記処理室16内の圧力は急激に上昇して約931Pa(7Torr)迄昇圧される。DCSを供給する為の時間は2〜4秒設定し、その後上昇した圧力雰囲気中に晒す時間を2〜4秒に設定し、合計6秒とした。この時のウェーハ温度はNH3 の供給時と同じく、300〜600℃の範囲内の所望の温度で維持される。DCSの供給により、ウェーハ48の表面に化学吸着したNH3 とDCSとが表面反応(化学吸着)して、ウェーハ48上にSiN膜が成膜される。成膜後、前記第3バルブ76cを閉じ、前記第4バルブ76dを開けて前記処理室16を真空排気し、残留するDCSの成膜に寄与した後のガスを排除する。又、この時にはN2 等の不活性ガスを前記処理室16に供給すると、更に残留するDCSの成膜に寄与した後のガスを前記処理室16から排除する効果が高まる。又前記第2バルブ76bを開いて前記ガス溜め78へのDCSの供給を開始する。
ステップ3では、前記処理室16の排気が終わったら前記ガス排気管81の前記第4バルブ76dを閉じて排気を止める。前記第2ガス供給管74bの下流側の前記第3バルブ76cを開く。これにより前記ガス溜め78に溜められたDCSが前記処理室16に一気に供給される。この時前記ガス排気管81の前記第4バルブ76dが閉じられているので、前記処理室16内の圧力は急激に上昇して約931Pa(7Torr)迄昇圧される。DCSを供給する為の時間は2〜4秒設定し、その後上昇した圧力雰囲気中に晒す時間を2〜4秒に設定し、合計6秒とした。この時のウェーハ温度はNH3 の供給時と同じく、300〜600℃の範囲内の所望の温度で維持される。DCSの供給により、ウェーハ48の表面に化学吸着したNH3 とDCSとが表面反応(化学吸着)して、ウェーハ48上にSiN膜が成膜される。成膜後、前記第3バルブ76cを閉じ、前記第4バルブ76dを開けて前記処理室16を真空排気し、残留するDCSの成膜に寄与した後のガスを排除する。又、この時にはN2 等の不活性ガスを前記処理室16に供給すると、更に残留するDCSの成膜に寄与した後のガスを前記処理室16から排除する効果が高まる。又前記第2バルブ76bを開いて前記ガス溜め78へのDCSの供給を開始する。
上記ステップ1〜3を1サイクルとし、このサイクルを複数回繰返すことによりウェーハ上に所定膜厚のSiN膜を成膜する。
ALD装置では、ガスはウェーハ48の表面部分に化学吸着する。このガスの吸着量は、ガスの圧力、及びガスの暴露時間に比例する。よって、希望する一定量のガスを、短時間で吸着させる為には、ガスの圧力を短時間で大きくする必要がある。この点で、本実施の形態では、前記第4バルブ76dを閉めた上で、前記ガス溜め78内に溜めたDCSを瞬間的に供給しているので、前記処理室16内のDCSの圧力を急激に上げることができ、希望する一定量のガスを瞬間的に吸着させることができる。
又、本実施の形態では、ガス溜め78にDCSを溜めている間に、ALD法で必要なステップであるNH3 ガスをプラズマ励起することにより活性種として供給、及び処理室16の排気をしているので、DCSを溜める為の特別なステップを必要としない。又、処理室16内を排気してNH3 ガスを除去してからDCSを流すので、両者はウェーハ48に向かう途中で反応しない。供給されたDCSは、ウェーハ48に吸着しているNH3 とのみ有効に反応させることができる。
(付記)
又、本発明は以下の実施の態様を含む。
又、本発明は以下の実施の態様を含む。
(付記1)断面が曲率半径を有し、基板を処理する反応管と、該反応管内へ処理ガスを供給する円筒形のガスノズルと、前記反応管内の雰囲気を排気する排気手段とを備える基板処理装置であって、前記ガスノズルは、前記反応管内で前記反応管断面に対して垂直方向へ伸びる第1のノズルと、前記反応管断面に対して水平方向へ伸び、前記第1のノズルと前記反応管内で接合される第2のノズルと、前記反応管の曲面部分の壁を貫通し、前記反応管内で前記第2のノズルと接合される第3のノズルから構成され、前記第1のノズルの肉厚と前記第2のノズルの肉厚は互いに等しく、前記第3のノズルの肉厚が、前記第1のノズルの肉厚及び前記第2のノズルの肉厚より厚肉であることを特徴とする基板処理装置。
(付記2)付記1に記載の基板処理装置に於いて、前記第3のノズルは、反応管の貫通部より外側で、該貫通部の肉厚より薄肉の部分を有する基板処理装置。
(付記3)基板を収納し、処理する反応管と、該反応管の周囲に設けられる加熱手段と、前記反応管内に処理ガスを供給するガスノズルと、前記反応管内の雰囲気を排気する排気手段とを具備し、前記ガスノズルの少なくとも前記反応管を貫通する部分を厚肉とし、貫通部分より外方に延出する部分を薄肉としたことを特徴とする基板処理装置。
1 縦型炉
4 反応管
17 ノズル基部
17a 垂直部
17b 水平部
18 ノズル本体部
22a 内端部
22b 管壁貫通部
22c 外端部
48 ウェーハ
58 処理炉
71 コントローラ
82 真空ポンプ
84 ノズル
4 反応管
17 ノズル基部
17a 垂直部
17b 水平部
18 ノズル本体部
22a 内端部
22b 管壁貫通部
22c 外端部
48 ウェーハ
58 処理炉
71 コントローラ
82 真空ポンプ
84 ノズル
Claims (1)
- 基板を収納し、処理する反応管と、該反応管の周囲に設けられる加熱手段と、前記反応管内に処理ガスを供給するガスノズルと、前記反応管内の雰囲気を排気する排気手段とを具備し、前記ガスノズルの少なくとも前記反応管を貫通する部分を厚肉としたことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007063656A JP2008227163A (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007063656A JP2008227163A (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 基板処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008227163A true JP2008227163A (ja) | 2008-09-25 |
Family
ID=39845429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007063656A Pending JP2008227163A (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008227163A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9159591B2 (en) | 2012-01-03 | 2015-10-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Batch type apparatus for manufacturing semiconductor devices |
JP2019503086A (ja) * | 2015-12-22 | 2019-01-31 | シコ・テクノロジー・ゲーエムベーハーSICO Technology GmbH | 半導体産業用のシリコンのインジェクター |
-
2007
- 2007-03-13 JP JP2007063656A patent/JP2008227163A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9159591B2 (en) | 2012-01-03 | 2015-10-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Batch type apparatus for manufacturing semiconductor devices |
JP2019503086A (ja) * | 2015-12-22 | 2019-01-31 | シコ・テクノロジー・ゲーエムベーハーSICO Technology GmbH | 半導体産業用のシリコンのインジェクター |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6270575B2 (ja) | 反応管、基板処理装置及び半導体装置の製造方法 | |
KR100961594B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2009212528A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2004281853A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5546654B2 (ja) | 基板処理装置、半導体製造方法、基板処理方法、及び異物除去方法 | |
JP2006302946A (ja) | 基板処理システム | |
JP2012114200A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2006237532A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2008227163A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007027425A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2009123950A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2009272367A (ja) | 基板処理装置 | |
JP4242733B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2004039795A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5848788B2 (ja) | 基板処理装置、半導体製造方法、基板処理方法 | |
JP4938805B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4509697B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4434807B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4267434B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4364670B2 (ja) | Ald装置 | |
JP2005243737A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2011222656A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007227470A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2006287153A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2006295032A (ja) | 基板処理装置 |