JP2007537604A - 金属メッシュ構造を含む半導体集積回路 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (32)
- 第1領域と、
第2領域と、
前記第1領域と前記第2領域の間に挿入された金属メッシュ層と
を含む半導体集積回路。 - 前記第1領域が、1つまたは複数の能動半導体デバイスを有するデバイス層を含む請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記第2領域が、回路配線を含む金属化層を含む請求項2に記載の半導体集積回路。
- 前記金属メッシュ層が、別の金属化層の少なくとも一部分の上に実装される請求項3に記載の半導体集積回路。
- 前記金属メッシュ層の導電性が、前記半導体集積回路の適切な動作を達成するために前記第1領域と前記第2領域の間に十分な容量性シールドを与える請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記金属メッシュ層の導電性が、前記半導体集積回路の適切な動作を達成するために前記第1領域と前記第2領域の間に十分な誘導性シールドを与える請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記金属メッシュ層が、金属配線によって形成され、前記金属配線が第1方向に向けられたほぼ平行な第1組配線と、第2方向に向けられたほぼ平行な第2組配線とを含み、前記第1組配線の各配線が前記第2組配線の各配線と交わり、電気的に接続され、且つ前記第2方向が前記第1方向にほぼ垂直である請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記金属メッシュが、前記第2方向内より前記第1方向内で小さなピッチを有する請求項7に記載の半導体集積回路。
- 前記金属配線が、前記第1方向内と前記第2方向内にほぼ均一に間隔を置いて配置される請求項7に記載の半導体集積回路。
- 前記第2領域が、層間誘電体材料によって分離された第1の対の導電プレートを有する第1キャパシタを含む請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記第2領域が、更に前記層間誘電体材料によって分離された第2の対の導電プレートを有する第2キャパシタを含む請求項10に記載の半導体集積回路。
- 前記第1と第2キャパシタが、整合されたキャパシタンス値となるように同等に構成される請求項11に記載の半導体集積回路。
- 前記第1領域が、ミックスド・シグナル回路を構成するアナログ回路とデジタル回路含む請求項1に記載の半導体集積回路。
- 第1領域と、
第2領域と、
前記第1領域と前記第2領域の間に置かれたシールドであって、ほぼ均一に間隔を置いて配置された開口のパターンを含む第1金属層によって形成されたシールドと
を含む半導体集積回路。 - 前記第1領域が、1つまたは複数の能動半導体デバイスを有するデバイス層を含む請求項14に記載の半導体集積回路。
- 前記第2領域が回路配線を含む第2金属層を含む請求項15に記載の半導体集積回路。
- 前記シールドが、前記第1金属層の少なくとも一部分に実装される請求項16に記載の半導体集積回路。
- 前記シールドの導電性が、前記半導体集積回路の適切な動作を達成するために前記第1領域と前記第2領域の間に十分な容量性シールドを与える請求項14に記載の半導体集積回路。
- 前記シールドの導電性が、前記半導体集積回路の適切な動作を達成するために前記第1領域と前記第2領域の間に十分な誘導性シールドを与える請求項14に記載の半導体集積回路。
- 前記第2領域が、層間誘電体材料によって分離された第1の対の導電プレートを有する第1キャパシタを含む請求項14に記載の半導体集積回路。
- 前記第2領域が、更に前記層間誘電体材料によって分離された第2の対の導電プレートを有する第2キャパシタを含む請求項20に記載の半導体集積回路。
- 前記第1と第2キャパシタが、整合されたキャパシタンス値となるように同等に構成される請求項21に記載の半導体集積回路。
- 第1信号ノードと、
第2信号ノードと、
前記第1と第2信号ノードの間の層の上に形成される金属メッシュ構造と
を含む集積回路。 - 前記金属メッシュ構造が、第1金属層の少なくとも一部分に実装される請求項23に記載の集積回路。
- 前記金属メッシュ構造の導電性が、前記集積回路の適切な動作を達成するために前記第1ノードと前記第2ノードの間に十分な容量性シールドを与える請求項23に記載の集積回路。
- 前記金属メッシュ構造の導電性が、前記集積回路の適切な動作を達成するために前記第1ノードと前記第2ノードの間に十分な誘導性シールドを与える請求項23に記載の集積回路。
- 半導体集積回路の第1領域を設けるステップと、
前記半導体集積回路の第2領域を設けるステップと、
前記第1領域と第2領域の間に金属メッシュ層を形成するステップと
を含む方法。 - 前記第1領域が、1つまたは複数の能動半導体デバイスを有するデバイス層を含む請求項27に記載の方法。
- 前記第2領域が、回路配線を含む金属化層を含む請求項27に記載の方法。
- 更に、別の金属化層の少なくとも一部分の上に前記金属メッシュ層を形成することを含む請求項29に記載の方法。
- 前記金属メッシュ層の導電性が、前記半導体集積回路の適切な動作を達成するために前記第1領域と前記第2領域の間に十分な容量性シールドを与える請求項27に記載の方法。
- 前記金属メッシュ層の導電性が、前記半導体集積回路の適切な動作を達成するために前記第1領域と前記第2領域の間に十分な誘導性シールドを与える請求項27に記載の方法。
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