JP2007509889A - ポリシロキサンに基づくuvフィルタを含有する、uvフィルタの総量が減少した光保護組成物 - Google Patents

ポリシロキサンに基づくuvフィルタを含有する、uvフィルタの総量が減少した光保護組成物 Download PDF

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Abstract

本発明は少なくとも1種のポリシロキサンに基づくUVフィルタを含有する光保護性組成物に関する。組成物は、総UVフィルタ量に対する日焼け防止指数の増加した比率を有する。これは、発色団が立体保護基として適切なかさ高い(立体的に広がりのある)置換基を含有する少なくとも1種のUVフィルタとの組合せによって達成される。

Description

傷害をもたらす日光の増加量に曝露される人々においては、日焼け止め保護剤に対する一定の需要がある。反復した日光暴露は、光老化皮膚として知られる皮膚変化という結果を生じることがありえる。光老化皮膚で示される臨床変化は、身体の日光に保護された部位の、通常の老化した皮膚のそれらとは異なる。皮膚の広範囲な日光暴露の損傷結果には、しわの増加、弾力線維症、色素の変化、前癌性及び癌性皮膚病変などがある。
したがって、UV−A(320−400nm)及び/又はUV−B(290−320nm)波長ならびにさらに短い波長(UV−Cフィルタ)の有害な影響から防御する、多くの日焼け止め用の化合物が、過去に開発されてきた。
特に成功したUVフィルタは、線形又は環式のいずれかでもよい、発色団含有ポリシロキサンに基づく、例えば、WO 93/04665、WO 94/06404、EP−B538 431、EP−A 392 883、及びEP 358 584に記載されている、最近開発されたUVフィルタである。
EP 897715において、(a)標準状態の下で固形であるUV吸収有機化合物と、(b)発色団含有ポリシロキサン又は環状シロキサン(周期的に反復するSiO−要素に基づく)との組合せを含有する日焼け止めは、有機化合物のみを含有している日焼け止めより高い光防止指数を示す。標準状態の下で固形であるUV吸収有機化合物と、発色団含有ポリシロキサン又は環状シロキサン(周期的に繰り返されているSiO−要素に基づく)との特殊な組合せとして、EP 897 715は、「Polymerfilter X」と、トリアジン化合物又は2−フェニルベンゾイミダゾール−5−スルホン酸若しくはその塩とを含む唯一の組合せを例示している。これらの有機UVフィルタは、かさ高い置換基を有していない。EP 897 715で開示されるUVフィルタの組合せは、良好な光防止指数を有するが、トリアジン化合物は難溶性であり、またEP 897 715で開示されるUVフィルタの組合せに匹敵するか、又は好ましくはより高い光防止指数を有するUVフィルタの組合せの必要はなおも存在する。かさ高い(立体的に広がりのある)置換基を有しているUV吸収有機化合物を使用するEP 897 715の全ての実施例は、かさ高い(立体的に広がりのある)置換基を有しないトリアジン化合物もまた含む。これは、かさ高い又は立体的に広がりのある置換基のみを有しているUV吸収化合物の存在が、発色団含有ポリシロキサン又は環状シロキサン(周期的に反復するSiO−要素に基づく)の光防止指数を増加させることに充分でないと考えられること、これらの組成物で追加のトリアジン化合物が存在しなければならないことを、当業者に示している。
従来技術において、発色団含有ポリシロキサン又は環状シロキサンと、他のUV吸収有機化合物とのいくつかの組合せが開示されているが、ポリシロキサン又は環状シロキサンと組合せるのに有用と考えられた全てのUV吸収有機化合物は、かさ高い又は立体的に広がりのある置換基を有していないUV吸収有機化合物である。この種の文献の典型的例として、ポリシロキサンと、トリアジンと、ジベンゾイルメタン誘導体(DBM)との組合せを開示するEP 848 945、ポリシロキサンとDBMの光安定性組成物を開示するEP−A 709 980、ならびに線形又は環状のポリシロキサンと2−フェニルベンゾイミダゾール−スルホン酸又はその塩(PBSA)との間の相乗効果を開示するEP 979 645を参照できる。
このように、従来技術文献を根拠にすると、かさ高い又は立体的に広がりのある置換基を有しない有機化合物のみが、発色団含有ポリシロキサン又は環状シロキサンと混合するのに適していると考えざるを得ない。
高い保護性能を有する光保護性組成物に対する高い要望がある一方、総UVフィルタ量を減らしながらも組成物の保護性能を維持又は増強できることに対する、皮膚病学的並びに経済的要望もまたある。本明細書中で記載した組成物の保護性能は、日焼け防止指数、耐水性、UVA保護、UVAインデックス、又はUVAバランスなどのいくつかの態様に及ぶ[EP 1291640、DIN 67502]。組成物の保護性能を維持しつつも、総UVフィルタ量を減らすことのできる方法を有することは、特に有利である。
本発明は、ベンザルマロネート型の発色団残基を有しているポリシロキサンと少なくとも1種の追加のUVフィルタとを含有している日焼け止め組成物〔ここで、発色団は適切なかさ高い(立体的に広がりのある)置換基を含有する〕が、相乗作用で強化された防止指数を提供するという予想外の発見に基づく。したがって、本出願は、光保護性組成物でのUVフィルタの総量に対する日焼け防止指数の比率を有意に増加させるための有利な方法を提供する。
好ましい実施形態において、光保護組成物は、ポリシロキサン、及び少なくとも一つのUVフィルタ(これはかさ高い置換基を含有する)に加えて、他のUVフィルタ(これは、液体であるか又は液体でないか、あるいは色素、例えば微粒子化されたZnO及び/又はTiOなどの群に属する)。
より好ましい実施態様において、UVフィルタの総量に対する日焼け防止指数の比率を一層増加させるために、室温(25℃)で液体である追加のUVフィルタの量を光保護組成物中で最小にまで減少させるか、あるいは光保護組成物は、液体でないか、又は色素、例えば微粒子化されたZnO及び/又はTiOなどの群に属する追加のUVフィルタのみを含有する。本出願の意味における用語「液体でない」は、固形であるか又は室温(25℃)で結晶化され得る溶融物であるUVフィルタを意味する。
立体保護基としての適切なかさ高い(立体的に広がりのある)置換基には、好ましくは、例えば、t−ブチル、1,1,3,3−ジメチルブチル、ショウノウ、ジエチルアミノ、又はシリル残基、例として2−メチル−3−[1,3,3,3−テトラメチル−1−〔(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル−若しくは4−トリス(トリメチルシリルオキシシリルプロピルオキシ)などの置換基が挙げられる。より好ましくは、例えばt−ブチル、1,1,3,3−ジメチルブチル、ショウノウ、又はシリル残基などの置換基である。
したがって、本願は、
a)少なくとも1個のポリシロキサンに基づくUVフィルタ、
b)発色団が適切なかさ高い(立体的に広がりのある)置換基を含有する少なくとも1個の追加のUVフィルタ、
c)成分a)、b)、及び任意のd)のための担体、及び場合により
d)追加のUVフィルタ
を含有する光保護組成物(但し、4,4’4”−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリルトリイミノ)−トリス−安息香酸−トリス(2−エチルヘキシルエステル)は存在しない)
の総UVフィルタ量に対する日焼け防止指数の比率を増加させる方法を提供する。
追加のUVフィルタは、液体であること、又は液体でないことができ、好ましい実施態様では、追加のUVフィルタは液体でない。
本発明はまた、
a)室温(25℃)において液体であるUVフィルタの量を減らために、ポリシロキサンに基づくUVフィルタを添加し、それによって総UVフィルタ量を減少させること、
b)かさ高い(立体的に広がりのある)基を含有しているUVフィルタを添加すること、及び場合により
c)室温(25℃)で液体でないUVフィルタを添加すること
を含む、光保護組成物の総UVフィルタ量に対する日焼け防止指数の比率を増加させる方法を提供する。
好ましくは、本発明の組成物はトリアジン化合物を含有せず、特に、その組成物は以下のものから選択される化合物を含有しない:
4,4’4”−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリルトリイミノ)−トリス−安息香酸−トリス(2−エチルヘキシルエステル)
2,4−ビス−{[4−(2−エチル−ヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス−{[4−(3−スルホナート)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン ナトリウム塩、
2,4−ビス−{[4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス−{[4−(2−エチル−ヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−[4−(2−メトキシエチル−カルボキシル)−フェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス−{[4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−[4−(2−エチル−カルボキシル)−フェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス−{[4−(2−エチル−ヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(1−メチルピロール−2−イル)−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス{[4−トリス(トリメチルシロキシ−シリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2,4−ビス−{[4−(2”−メチルプロペニルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、及び、
2,4−ビス−{[4−(1’,1’,1’,3’,5’,5’,5’−へプタメチルシロキシ−2”−メチル−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]−フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン。
新規の光保護性組成物は、成分a)としてポリシロキサンに基づくUVフィルタを含有する。そのような化合物は公知であり、本発明の光保護性組成物において好適に使用できるポリシロキサンに基づくUVフィルタを開示する、例えばEP−A 538 431、EP−A 358 584、EP−A 392 883、WO 94/06404、及びWO 93/04665を参照することができる。これらのポリシロキサンに基づくUVフィルタの定義及びこれらのフィルタの調製方法に関しては、上記の刊行物が参照され、その内容は参照されることで本明書に含まれる。
好適なポリシロキサンに基づくUVフィルタは、式Ia又はIb:
Figure 2007509889
(式中、
Xは、R又はAであり;
Aは、式IIa及び/又はIIb若しくはIIcから選択され:
Figure 2007509889
Rは、水素、C1−6−アルキル、又はフェニルであり;
及びRは、各々独立して、水素、ヒドロキシ、C1−6−アルキル、又はC1−6−アルコキシであり;
は、C1−6−アルキルであり;
は、水素又はC1−6−アルキルであり;
及びRは、各々独立して、水素又はC1−6−アルキルであり;
rは、0から250であり;
sは、0から20であり;
r+sは、少なくとも3であり;
tは、0から10であり;
vは、0から10であり;
v+tは、少なくとも3であり;そして、
nは、1から6であるが;
但し、sが0である場合、少なくとも1個のXはAである)
で示される線形又は環状のポリシロキサン化合物である。
用語「C1−6−アルキル」は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、ペンチル、及びネオペンチルなどの基をいう。用語「C1−6−アルコキシ」は、対応するアルコキシ基をいう。
残基Rは好ましくはメチルである。
残基R及びRは、好ましくは水素、メトキシ、又はエトキシであり、より好ましくは水素であるか、あるいはR及びRの一方は水素であり、もう一方はメチル、メトキシ、又はエトキシである。
残基Rは、好ましくはメチル又はエチルであり、より好ましくはエチルである。
好ましくは、Rは水素又はメチルであり、R及びRは水素であり、nは1である。
一般式IIa及びIIbで示される基Aを有するポリシロキサン化合物、ならびにそれらの調製は、欧州特許出願EP−A 0 538 431に記載されている。これらのポリシロキサン化合物が最も好まれる。
一般式IIcで示される基Aを有するポリシロキサン化合物及びそれらの調製は、欧州特許出願EP−A 0 358 584に記載されている。
式Iaの線形ポリシロキサン化合物において、発色団を持っている残基Aは、ポリシロキサンの末端基に結合していてもよく(X=A)、又は統計学的に分布していてもよい。
発色団を持っている残基Aが統計学的に分布している線形ポリシロキサン化合物が好まれる。前記好適なポリシロキサン化合物は発色団残基を持っている少なくとも1個の単位を有し(s=1)、sは、好ましくは約2〜約10の値、より好ましくは約4の統計的な平均を有する。ポリシロキサン化合物に存在する他のシリコーン単位のrの数は、好ましくは約5〜約150、より好ましくは約60の統計的な平均である。
総てのシロキサン単位の20%以下、好ましくは10%未満が発色団残基を持っている単位であるポリシロキサン化合物が、化粧品特性の点から好まれる。
式IIaの発色団残基Aを有するポリシロキサン単位の、式IIbの発色団残基Aを有するポリシロキサン単位に対する比は、決定的に重要でない。前記比は、約1:1〜約19:1、好ましくは約2:1〜約9:1、より好ましくは約4:1であってもよい。
化粧用の光スクリーニング組成物中のポリシロキサン化合物の濃度は、好ましくは約2〜20重量%、より好ましくは約5重量%である。
Aが式IIa又はIIbで示される基であるポリシロキサン化合物Ia又はIbは、EP−B 0 538 431に記載されたように、以下の反応スキームに従い、対応するベンザルマロナートのシリル化によって製造できる:
Figure 2007509889
上記式中、R、R、及びRは、上記に定義されたとおりである。
4−(2−プロピニルオキシ)フェニルメチレンジエチルエステルのシリル化は、脂肪族不飽和を含有する基に、ケイ素に結合した水素原子を付加するための既知の手順を採用して、実施してもよい。この種の反応は、通常、白金族金属又はこの種の金属の複合体によって触媒される。採用できる触媒の例は、カーボンに担持された白金;塩化白金酸;白金アセチルアセトネート;白金化合物の、不飽和化合物、例えばオレフィン又はジビニルジシロキサン類との錯体;ロジウム及びパラジウム化合物及び錯体;及び無機基質で支持される白金化合物の錯体である。付加反応は、減圧、大気圧、又は高圧下で実施してもよい。溶媒、例えばトルエン又はキシレンを、反応混合物中で用いることができるが、溶媒の存在は必須ではない。高い反応温度で、例えば約50℃〜約150℃で反応を実施することもまた好まれる。
特に好ましいのは、一般式Ia
(式中、
Xは、メチルを示し、
Aは、式IIa又はIIbの基を示し、
Rは、メチルを示し、
及びRは、水素、メトキシ、若しくはエトキシを示すか、又はR及びRの一方は水素であり、他方はメチル、メトキシ、若しくはエトキシであり、
は、メチル又はエチルを示し、
は、水素又はメチルを示し、
及びRは、水素を示し、
rは、約5〜150であり、
sは、約2〜約10であり、そして、
nは、1の値を有する)
の化合物である。
最も好まれるのは、一般式Ia
(式中、
Xは、メチルを示し、
Aは式IIa又はIIbの基を示し、
Rは、メチルを示し、
及びRは、水素を示し、
は、エチルを示し、
は、水素を示し、
及びRは、水素を示し、
rは、約60の統計的平均であり、
sは、約4の統計的平均であり、そして、
nは、1の値を有する)
の線形ポリシロキサンである。
これらの最も好適な線形ポリシロキサンは、商用名PARSOL SLXの下で市販されている。
かさ高い置換基を含有する分子の例は、欧州特許公報EP 1046391などに記載されたような、例えば、ブチルメトキシジベンゾイルメタン(PARSOL 1789)(I)、4−メチルベンジリデンショウノウ(PARSOL 5000)(II)、3−ベンジリデンショウノウ(Unisol S-22)、ベンジリデンショウノウスルホン酸(Mexoryl SL)、ホモサラート(Neo HELIOPAN HMS)(V)、メチレンビス−ベンゾトリアゾテトラメチルブチルフェノール(Tinosorb M)(III)、ドロメトリゾールトリシロキサン(Mexoryl XL)(IV)、ショウノウベンザルコニウムメト硫酸塩(Mexoryl SK)、及び2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシ−ベンゾイル)−安息香酸ヘキシルエステル(VI)である:
Figure 2007509889
これらのUVフィルタに関するさらなる情報は、例えば、標準的な教科書において見いだすことができる。
特に好適な化合物は、上記の化合物I、II、III、IV、及びVである。好ましくは、かさ高い置換基は、化合物II若しくはVに示したようなシクロヘキサン環構造、化合物IVに示したようなSi−基、又は化合物I及びIIIに示したような水素置換基のない炭素原子を含有する。
本発明で引用されるかさ高い置換基は、分子に立体的障害を与える置換基であって、そのようなかさ高い(立体的に広がりのある)置換基は、立体保護基として、例えば、ジエチルアミノ、t−ブチル、1,1,3,3−ジメチルブチル、ショウノウ、又はシリル残基、例えば2−メチル−3−[1,3,3,3−テトラメチル−1−[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル−又は4−トリス(トリメチルシリルオキシシリルプロピルオキシ)が挙げられる。
発色団が適切なかさ高い置換基を含有するUVフィルタの、本発明の組成物中の濃度は、好ましくは0.1〜20重量%、より好ましくは0.5〜10重量%、例えば0.5〜5重量%、例として約1又は約2重量%である。シロキサンに基づくUVフィルタと、発色団が適切なかさ高い置換基を含有するUVフィルタとの比は、達成されるべき日焼け防止指数に及ぼす効果に依存する。例えば、比は、約20:1〜約1:20、好ましくは10:1〜1:10、より好ましくは5:1〜1:5、例えば1:1である。非対称混合物もまた使用できる。
追加のUVフィルタの本発明の組成物中での濃度は、好ましくは0.1〜20重量%、より好ましくは0.5〜10重量%、例えば0.5〜5重量%、例として約1又は約2重量%である。シロキサンに基づくUVフィルタと追加のUVフィルタd)との比は、達成されるべき日焼け防止指数に及ぼす効果に依存する。例えば、比は、約20:1〜約1:20、好ましくは10:1〜1:10、より好ましくは5:1〜1:5、例えば約1:1である。非対称の混合物もまた使用できる。
これらの追加の遮蔽剤は、以下の化合物の一覧から有利には選択されるが、これらに制限されることはない:
UV B又は広域スペクトル遮蔽剤の例、すなわち最大吸収を約290及び340nmの間に有している物質であって、本発明の化合物との組合せを考慮されるものは、例えば次の有機及び無機化合物である:
アクリラート、例えば2−エチルヘキシル2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリラート〔オクトクリレン、PARSOLR(登録商標)340〕、エチル2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリラートなど;
ケイ皮酸エステル誘導体、例えば、メトキシケイ皮酸オクチル(PARSOLR MCX)、メトキシケイ皮酸エトキシエチル、メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン(PARSOLR Hydro)、及びメトキシケイ皮酸イソアミルなど、並びにシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体;
p−アミノ安息香酸誘導体、例えば、p−アミノ安息香酸、p−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、N−オキシプロピレン化されたp−アミノ安息香酸エチル、p−アミノ安息香酸グリセリル;
ベンゾフェノン類、例えばベンゾフェノン−3、ベンゾフェノン−4、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノンなど;
ベンザルマロン酸のエステル、例えば、4−メトキシベンザルマロン酸ジ(2−エチルヘキシル);
2−(4−エトキシ−アニリノメチレン)プロパン二酸のエステル、例えば、欧州特許公報EP 0895 776に記載されたような2−(4−エトキシ−アニリノメチレン)プロパン二酸ジエチルエステル;
顔料、例えば、微粒子化TiOなど。「微粒子化」なる用語は、約5nmから約200nmまで、特に約15nmから約100nmまでの粒度を指す。TiO粒子はまた、例えば酸化アルミニウム若しくは酸化ジルコニウムなどの金属酸化物によってか、又は例えばポリオール、メチコーン、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランなどの有機皮膜によって、被覆されていてもよい。そのような皮膜は周知技術である;
イミダゾール誘導体、例えば、2−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸及びその塩〔PARSOLR(登録商標)HS〕。2−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸の塩は、例えば、アルカリ塩、例えばナトリウム−若しくはカリウム塩、アンモニウム塩、モルホリン塩、モノエタノールアミン塩及びジエタノールアミン塩のような第一、第二、及び第三アミンの塩などである;
サリチル酸エステル誘導体、例えば、サリチル酸イソプロピルベンジル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸ブチル、サリチル酸オクチル(NEO HELIOPAN OS)、又はサリチル酸イソオクチルなど;
広域スペクトル又はUV Aスクリーニング剤、すなわち約320及び400nmの間で吸収最大を有する物質の例は、本発明の化合物との組合せを考慮して、例えば以下の有機及び無機化合物である;
フェニレン−1,4−ビスベンゾイミダゾールスルホン酸又は塩、例えば、2,2−(1,4−フェニレン)ビス−(1H−ベンゾイミダゾール−4,6−ジスルホン酸)(Neoheliopan AP)
顔料、例えば、微粒子化ZnO又はTiOなど。「微粒子化」なる用語は、約5nmから約200nmまで、特に約15nmから約100nmまでの粒度を指す。粒子はまた、例えば酸化アルミニウム若しくは酸化ジルコニウムなど他の金属酸化物によってか、又は例えばポリオール、メチコーン、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランなどの有機皮膜によって被覆されていてもよい。このような皮膜は周知技術である。
本発明の組成物の成分c)は、UVフィルタa)、b)及びd)のための担体である。化粧用基剤のための適切な担体は、当業者にとって公知であり、通常、その基剤は脂肪相及び水相からなる二相系である。基剤は適切に選択されて、その結果、最終組成物は、例えば液状若しくは固形の水中油型エマルション、油中水型エマルション、マルチプルエマルション、ミクロエマルション、PITエマルション、ピカリングエマルション(pickering emulsion)、ヒドロゲル、アルコール性ゲル、リポゲル(lipogel)、1相若しくは多相溶媒、軟膏、懸濁液、クリーム、又は他の組成物である。また、基剤は、無水組成物、例えば、油又はバルサム、例えば、植物性若しくは動物性油、鉱油、合成油、又はそれらの混合物を用いて提供するために、選択されてもよい。これらの組成物のために、対応する油又はその混合物が本願の組成物の成分c)の担体である。他の適切な担体は、例えば脂肪、油、ワックス、シリコーン、アルコール、及び水であり、以下に言及する好適な化粧用基剤である。石鹸及び粉末などの固形組成物もまた可能であり、適切な基剤は当業者にとって公知である。
本発明の組成物は、また、通常の化粧用の補助剤及び添加物を含有することができる。したがって、担体化合物ならびに通常の補助剤及び添加物には、防腐剤/抗酸化剤、脂肪物質/油、水、有機溶媒、シリコーン、増粘剤、軟化剤、乳化剤、追加の日焼け防止剤、消泡剤、モイスチャライザー、香料、界面活性剤、充填剤、金属イオン封鎖剤、アニオン性、カチオン、非イオン性、若しくは両性のポリマー又はそれらの混合物、噴射剤、酸性化若しくは塩基性化剤、染料、着色剤、顔料若しくはナノ顔料が挙げられ、特に、物理的に紫外線を遮ることによって光保護効果を提供することに適しているもの、又は化粧品に通常配合される他の任意成分、特に日焼け防止/抗日光組成物の生産のためのものが挙げられる。化粧用及び皮膚病学的な補助剤及び添加物の必要な量は、所望の生成物に基づき、この分野の当業者によって容易に選択されることができ、また実施例において例示されるが、本願明細書に制限されない。
抗酸化剤/防腐剤の追加の量は、通常、好まれる。本発明に基づいて、化粧品に通常配合される全ての既知の抗酸化剤が、使用できる。特に好まれるのは、アミノ酸(例として、グリシン、ヒスチジン、チロシン、トリプトファン)及びその誘導体、イミダゾール(例としてウロカニン酸)及び誘導体、ペプチド、例えば、D,L−カルノシン、D−カルノシン、L−カルノシン、及び誘導体(例としてアンセリン)、カロチノイド、カロテン(例としてα−カロテン、β−カロテン、リコペン)及び誘導体、クロロゲン酸及び誘導体、リポ酸及び誘導体(例としてジヒドロリポ酸)、アウロチオグルコース、プロピルチオウラシル及び他のチオール(例として、チオレドキシン、グルタチオン、システイン、シスチン、シスタミンならびにそのグリコシル−、N−アセチル−、メチル−、エチル−、プロピル−、アミル−、ブチル−、及びラウリル−、パルミトイル−;オレイル−、y−リノレイル−、コレステリル−、及びグリセリルエステル)及びその塩、ジラウリルチオジプロピオナート、ジステアリルチオジプロピオナート、チオジプロピオン酸及びその誘導体(エステル、エーテル、ペプチド、脂質、ヌクレオチド、ヌクレオシド、及び塩)ならびに極めて低い適合量(例として、pmol/kgからmmol/kg)のスルホキシイミン化合物(例えば、ブチオニンスルホキシイミン、ホモシステインスルホキシイミン、ブチオニンスルホン、ペンタ−、ヘキサ−、ヘプタチオニンスルホキシイミン)、加えて、(金属)−キレート化剤(例えば、α−ヒロドキシ脂肪酸、パルミチン酸、フィチン酸、ラクトフェリン)、β−ヒドロキシ酸(例えば、クエン酸、乳酸、リンゴ酸)、フミン酸、没食子酸、没食子抽出物、ビリルビン、ビリベルジン、EDTA、EGTA及びその誘導体、不飽和脂肪酸及びその誘導体(例えば、γ−リノレン酸、リノール酸、オレイン酸)、葉酸及びその誘導体、ユビキノン及びユビキノール及びそれらの誘導体、ビタミンC及び誘導体(例えば、アスコルビルパルミタート及びアスコルビルテトライソパルミタート、Mg−アスコルビルホスファート、Na−アスコルビルホスファート、及びアスコルビルアセタート)、トコフェロール及び誘導体(例えば、ビタミンE−アセタート)、天然のビタミンE、ビタミンA及び誘導体(ビタミンA−パルミタート及びビタミンA−アセタート)の混合物並びにコニフェリルベンゾアート、ルチン酸及び誘導体、α−グリコシルルチン、フェルラ酸、フルフリリデングルシトール、カルシノン、ブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、トリヒドロキシブチロフェノン、尿素及びその誘導体、マンノース及び誘導体、亜鉛及び誘導体(例としてZnO、ZnSO)、セレン及び誘導体(例えばセレノメチオニン)、スチルベン及び誘導体(例えばスチルベンオキシド、トランススチルベンオキシド)、並びに挙げられた活性成分の適切な誘導体(塩、エステル、エーテル、糖、ヌクレオチド、ヌクレオシド、ペプチド、及び脂質)からなる群より選択される抗酸化剤である。1種以上の防腐剤/抗酸化剤が、本発明の組成物の総重量の約0.01重量%〜約10重量%の量で存在してもよい。好ましくは、1種以上の防腐剤/抗酸化剤は、約0.1重量%〜約1重量%の量で存在する。
典型的に、製剤も、乳化剤及び可溶化剤などのような表面活性成分を含有する。乳化剤は、2つ以上の非混和性の成分が均一に混合させることを可能にする。さらに、乳化剤は、組成物を安定させるために作用する。O/W、W/O、O/W/O、又はW/O/Wのエマルション/ミクロエマルションを形成させるために本発明で使用してもよい乳化剤は、実施例の表に記載されたもの、並びにソルビタンオレアート、ソルビタンセスキオレアート、ソルビタンイソステアラート、ソルビタントリオレアート、ポリグリセリル−3−ジイソステアラート、オレイン酸/イソステアリン酸のポリグリセリンエステル、ポリグリセリル−6−ヘキサリシノラート、ポリグリセリル−4−オレアート、ポリグリセリル−4オレアート/PEG−8−プロピレングリコールココアート、オレアミドDEA、TEAミリスタート、TEAステアラート、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、リシノール酸カルシウム、ココヤシ酸ナトリウム、獣脂酸ナトリウム、ヒマシ油脂肪酸カリウム、オレイン酸ナトリウム、及びそれの混合物が挙げられる。更なる適切な乳化剤は、リン酸エステル及びその塩、例えば、セチルホスファート〔Amphisol(登録商標) A〕、ジエタノールアミンセチルホスファート〔Amphisol(登録商標)〕、カリウムセチルホスファート〔Amphisol(登録商標) K〕、ナトリウムグリセリルオレアートホスフェート、水添植物性グリセリドホスファート、及びその混合物である。さらにまた、1種以上の合成ポリマーを乳化剤として使用してもよい。例えば、PVP エイコセンコポリマー、アクリラート/C10−30アルキルアクリラートクロスポリマー、アクリラート/ステアレス−20メタクリラートコポリマー、PEG−22/ドデシルグリコールコポリマー、PEG−45/ドデシルグリコールコポリマー、及びその混合物である。好適な乳化剤は、セチルホスファート〔Amphisol(登録商標) A〕、ジエタノールアミンセチルホスファート〔Amphisol(登録商標)〕、カリウムセチルホスファート〔Amphisol(登録商標) K〕、PVPエイコセンコポリマー、アクリラート/C10−30−アルキルアクリラートクロスポリマー、PEG−20ソルビタンステアラート、ソルビタンイソステアラート、及びそれらの混合物である。1種以上の乳化剤は、本発明の組成物の総重量の約0.01重量%〜約20重量%の総重量で存在する。好ましくは、約0.1重量%〜約10重量%の乳化剤が使用される。
本発明の組成物の脂質相は、有利に:
鉱油及び石油系ワックス;
油、例えばカプリン酸又はカプリル酸のトリグリセリド、好ましくはヒマシ油;
油又はワックス及び他の天然若しくは合成油(好ましい実施態様では、脂肪酸とアルコール、例としてイソプロパノール、プロピレングリコール、グリセリンとのエステル、あるいは脂肪族アルコールとカルボン酸又は脂肪酸とのエステル);
アルキルベンゾアート;及び/又は
シリコーン油、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジエチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、シクロメチコーン、及びそれらの混合物
から選択されることができる。
本発明のエマルション、ミクロエマルション、オレオゲル、水分散又は脂肪分散の油相中に取り込むことができる例示的な脂肪族物質は、3〜30個の炭素原子を有する飽和及び/又は不飽和の線形又は分岐アルキルカルボン酸と、3〜30個の炭素原子を有する飽和及び/又は不飽和の線形及び/又は分岐アルコールとのエステル、並びに芳香族カルボン酸と、3−30個の炭素原子を有する飽和及び/又は不飽和の線形又は分枝アルコールとのエステルから、有利には選択される。このようなエステルは、オクチルパルミタート、オクチルココアート、オクチルイソステアラート、オクチルドデシルミリスタート、セテアリールイソノナノアート、イソプロピルミリスタート、イソプロピルパルミタート、イソプロピルステアラート、イソプロピルオレアート、n−ブチルステアラート、n−ヘキシルラウレアート、n−デシルオレアート、イソオクチルステアラート、イソノニルステアラート、イソノニルイソノナノアート、2−エチルヘキシルパルミタート、2−エチルヘキシルラウラート、2−ヘキシルデシルステアラート、2−オクチルドデシルパルミタート、ステアリルへプタノアート、オレイルオレアート、オレイルエルカート、エルシルオレアート、エルシルエルカート、トリデシルステアラート、トリデシルトリメリタート、並びにこのようなエステルの合成、半合成、又は天然の混合物、例えばホホバ油から有利に選択されることができる。
本発明の処方に使用するための適切な他の脂肪族成分には、極性油、例えばレシチン及び脂肪酸トリグリセリド、すなわち、8〜24個の炭素原子、好ましくは12〜18個の炭素原子を有する、飽和及び/又は不飽和の線形又は分枝カルボン酸のトリグリセリンエステル〔ここで、脂肪酸トリグリセリドは、合成、半合成、又は天然油(例えば、ココヤシグリセリド、オリブ油、ヒマワリ油、ダイズ油、落花生油、ナタネ油、甘扁桃油、パーム油、ココヤシ油、ヒマシ油、硬化ヒマシ油、小麦油、ブドウ種子油、マカデミアナッツ油その他)から好ましくは選択される〕;非極性油、例えば、線形及び/又は分枝炭化水素及びワックス、例として鉱油、ワセリン(ペトロラタム);パラフィン、スクアラン及びスクアレン、ポリオレフィン、水素化ポリイソブテン及びイソヘキサデカン(好ましいポリオレフィンはポリデセンである);ジアルキルエーテル、例えばジカプリリルエーテル;線形又は環状のシリコーン油、例えば、好ましくはシクロメチコーン(オクタメチルシクロテトラシロキサン;セチルジメチコーン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリ(メチルフェニルシロキサン)、ならびにそれらの混合物が挙げられる。
本発明の処方に有利に取り込まれることができる他の脂肪族成分は、イソエイコサン;ネオペンチルグリコールジへプタノアート;プロピレングリコールジカプリラート/ジカプラート;カプリル酸/カプリン酸/ジグリセリルスクシナート;ブチレングリコールカプリラート/カプラート;C12−13−アルキルラクタート;ジC12−13アルキルタルタラート;トリイソステアリン;ジペンタエリトリチルヘキサカプリラート/ヘキサカプラート;プロピレングリコールモノイソステアラート;トリカプリリン;ジメチルイソソルビッドである。特に有益なのは、C12−15−アルキルベンゾアートと2−エチルヘキシルイソステアラートとの混合物、C12−15−アルキルベンゾアートとイソトリデシルイソノナノアートとの混合物、ならびにC12−15−アルキルベンゾアートと2−エチルヘキシルイソステアラートとイソトリデシルイソノナノアートとの混合物の使用である。
本発明の製剤の油性相は、また、天然の植物性又は動物性ワックス、例えば、蜜ロウ、チャイナワックス、マルハナバチワックス、及び他の昆虫のワックス、ならびにシェーバター及びカカオ脂を含有することができる。
保湿剤は、水分補給を維持するか又は皮膚を再水和するために本発明の組成物に組み込まれてもよい。保護皮膜を提供することによって水が皮膚から蒸発するのを防止するモイスチャライザーは、皮膚軟化剤と呼ばれている。加えて、皮膚軟化剤は皮膚表面上の軟化又はすべすべさせる効果を提供し、また一般に局所使用にかなり安全と考えられている。好適な皮膚軟化剤には、鉱油、ラノリン、ペトロラタム、カプリン酸/カプリル酸トリグリセルアルデヒド、コレステロール、シリコーン、例えば、ジメチコーン、シクロメチコーン、扁桃油、ホホバ油、アボカド油、ヒマシ油、胡麻油、ヒマワリ油、やし油及びブドウ種子油、カカオ脂、オリブ油、アロエ抽出物、脂肪酸類、例えばオレイン酸及びステアリン酸、脂肪族アルコール類、例えば、セチル及びヘキサデシル(ENJAY)、ジイソプロピルアジパート、ヒドロキシベンゾアートエステル、C9−15−アルコールの安息香酸エステル、イソノニルイソノナアート、エーテル類、例えば、ポリオキシプロピレンブチルエーテル及びポリオキシプロピレンセチルエーテル、及びC12−15−アルキルベンゾアート、ならびにそれらの混合物が挙げられる。最も好適な皮膚軟化剤は、ヒドロキシベンゾアートエステル、アロエベラ、C12−15−アルキルベンゾアート、及びそれらの混合物である。皮膚軟化剤は、組成物の総量の約1重量%〜約20重量%の量で存在する。皮膚軟化剤の好適な量は、約2重量%〜約15重量%、最も好ましくは約4重量%〜約10重量%である。
水分と結合して、それにより皮膚表面に水を保持させるモイスチャライザーは、湿潤剤と呼ばれている。適切な湿潤剤は、本発明の組成物に取り込まれることができ、例えばグリセリン、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、乳酸、ピロリドンカルボン酸、尿素、リン脂質、コラーゲン、エラスチン、セラミド、レシチンソルビトール、PEG−4、及びそれらの混合物がある。追加の適切なモイスチャライザーは、水溶性及び/又は水膨潤性及び/又は水分でゲル化する多糖、例えば、ヒアルロン酸、キトサン、及び/又はフコースに豊む多糖〔Fucogel R1000(CAS-Nr. 178463-23-5)としてSOLABIA S.から販売されている〕のファミリーの高分子モイスチャライザーである。一つ以上の湿潤剤は、場合により、本発明の組成物中に、約0.5重量%〜約8重量%、好ましくは約1重量%〜約5重量%で存在する。
本発明の好適な組成物の水相は、通常の化粧用添加物、例えば、アルコール類、特に低級アルコール類、好ましくはエタノール及び/又はイソプロパノール、低級ジオール類又はポリオール類及びこれらのエーテル類、好ましくはプロピレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、エチレングリコールモノエチル−若しくはモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル−若しくは−モノエチル−若しくは−モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル−若しくはモノエチルエーテル、及び類似物、ポリマー、泡安定剤;電解質、ならびに特に1種以上の増粘剤を含有することができる。生成物の粘稠度を適切にするのを促進するため、本発明の処方において使用されてもよい増粘剤には、カルボマー、二酸化ケイ素、ケイ酸マグネシウム及び/又はケイ酸アルミニウム、蜜ロウ、ステアリン酸、ステアリルアルコール多糖及びそれらの誘導体、例えば、キサンタンガム、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリアクリルアミド、アクリラートクロスポリマー、好ましくはカルボマー、例えば、タイプ980、981、1382、2984、5984のカーボポール単独又はそれらの混合物が挙げられる。例えば乳化剤又は泡強化剤/安定剤などの成分を中和するために、本発明の組成物に含まれてもよい適切な中和剤には、限定されるものではないが、水酸化アルカリ、例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム;有機塩基、例えばジエタノールアミン(DEA)、トリエタノールアミン(TEA)、アミノメチルプロパノール、及びこれらの混合物;アミノ酸、例えばアルギニン及びリジン、ならびに任意の前述のものの任意の組合せが挙げられる。好ましくは、中和剤は、本発明の組成物の約0.01重量%〜約8重量%、好ましくは1重量%〜約5重量%の量で存在することができる。
本発明の組成物への電解質の添加は、疎水性乳化剤の挙動を変えるために必要なことがある。このように、本発明のエマルション/ミクロエマルションは、好ましくは、アニオンなどを含む1種又は数種の塩の電解質、例えばクロライド、サルファート、カルボナート、ボラート、及びアルミナートなどを含有していてもよいが、それらに制限されない。他の適切な電解質は、有機アニオン、例えば、ラクタート、アセタート、ベンゾアート、プロピオナート、タルタラート、及びシトラートに基づくことができるが、これらに制限されない。カチオンとして、好ましくは、アンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属、マグネシウムイオン、鉄イオン、若しくは亜鉛イオンが選択される。特に好適な塩は、塩化カリウム及び塩化ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸亜鉛、ならびにそれらの混合物である。電解質は、本発明の組成物中に約0.01重量%〜約8重量%の量で存在することができる。
日焼け止め組成物として、本発明の化粧用の組成物は、紫外線照射の損傷作用に対して、ヒトの表皮又は毛髪を光防止するための組成物として有用である。このような組成物は、特に、ローション剤、増粘ローション剤、ゲル、クリーム、乳液、軟膏、粉末、スプレー、フォーム、又は固形チューブスティックの形態で提供されることができ、また場合によりエアゾールとして詰めることもでき、ムース、フォーム又はスプレーの形態で提供することができる。本発明による化粧用の組成物が、紫外線に対してヒト表皮を保護するために又は日焼け止め組成物として提供される場合、それは、溶媒又は脂肪物質中の懸濁又は分散の形態で、あるいはエマルション又はミクロエマルション(特にO/W又はW/Oタイプ、O/W/O又はW/O/W−タイプ)の形態で、例えば、クリーム又は乳液、小胞分散、軟膏、ゲル、固形チューブスティック又はエアゾールムースの形態であることができる。エマルションは、また、アニオン性、非イオン性、カチオン性、又は両性の界面活性剤を含有することができる。
以下の例は、更に本発明の方法及び組成物を例示するために提供される。これらの例は、単なる説明で、いかなる形であれ本発明の範囲を制限することを目的としない。
例1:
Figure 2007509889

Figure 2007509889

Figure 2007509889
例2:
日焼け防止指数の測定は、COLIPAプロトコル(欧州化粧品・トレイタリー・香水協会、日焼け防止指数試験方法1994)に従って行った。2mg/cmの適用量を、ヒトのインビボのSPF測定値のためのCOLIPAプロトコルに従って、50cmの適用領域に使用した。以下のフィルタの組合せを、後述するように適切なモデルO/Wローションを使用して製剤化し、安定した日焼け止めローション剤を得た。
Figure 2007509889
本発明による、ポリシロキサンと、適切なかさ高い(立体的に広がりのある)置換基を含有する1種又は数種のUVフィルタとの組合せは、SPFの比例しない増加を示し、したがって光保護組成物のUVフィルタの総量に対する日焼け防止指数の有意な比率の増加を示した。この効果はまた、光保護組成物が場合により追加のUVフィルタを含有する場合、観察することもできる。

Claims (11)

  1. a) 少なくとも1個のポリシロキサンに基づくUVフィルタ、
    b) 発色団が適切なかさ高い(立体的に広がりのある)置換基を含有する少なくとも1個の追加のUVフィルタ、
    c) 成分a)、b)及びd)のための担体、ならびに場合により
    d) 追加のUVフィルタ
    を含む光保護組成物
    (但し、4,4’,4”−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリルトリイミノ)−トリス−安息香酸−トリス(2−エチルヘキシルエステル)は該組成物中に存在しない)。
  2. ポリシロキサンに基づくUVフィルタが、式Ia又はIb:
    Figure 2007509889

    (式中、
    Xは、R又はAであり;
    Aは、式IIa、IIb又はIIcから選択され;
    Figure 2007509889

    Rは、水素、C1−6−アルキル又はフェニルであり;
    及びRは、各々独立して、水素、ヒドロキシ、C1−6−アルキル、又はC1−6−アルコキシであり;
    は、C1−6−アルキルであり;
    は、水素又はC1−6−アルキルであり;
    及びRは、各々独立して水素又はC1−6−アルキルであり;
    rは、0から250であり;
    sは、0から20であり;
    r+sは、少なくとも3であり;
    tは、0から10であり;
    vは、0から10であり;
    v+tは、少なくとも3であり;そして
    nは、1から6まである)
    の化合物(但し、sが0である場合、少なくとも一つのXはAである)である、請求項1及び2のいずれか1項に記載の光保護組成物。
  3. Xが、メチルであり、
    Aが、式IIa又はIIbの基であり、
    Rが、メチルであり、
    及びRが、各々水素であり、
    が、エチルであり、
    が、水素であり、
    及びRが、水素であり、
    rが、約60の統計的平均値であり、
    sが、約4の統計的平均値であり、
    nが、1である、
    請求項3に記載の光保護組成物。
  4. UVフィルタのかさ高い(立体的に広がりのある)置換基が、ジエチルアミノ、t−ブチル、1,1,3,3−ジメチルブチル、ショウノウ若しくはシリル残基、例えば、2−メチル−3−[1,3,3,3−テトラメチル−1−[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル−又は4−トリス(トリメチルシリルオキシシリルプロピルオキシ)である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光保護組成物。
  5. かさ高い置換基を含有するUVフィルタが、2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)−安息香酸ヘキシルエステル、4−メチルベンジリデンショウノウ、3−ベンジリデンショウノウ、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ホモサラート、ベンジリデンショウノウスルホン酸、メチレンビス−ベンゾトリアゾテトラメチルブチルフェノール、又はドロメトリゾールトリシロキサンからなる群から選択される、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光保護組成物。
  6. 追加のUVフィルタd)が、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、ベンゾフェノン−3及び/又はベンゾフェノン−4、TiO、ならびにZnOから選択される、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光保護組成物。
  7. 全てのUVフィルタa)の合計量が、全てのUVフィルタb)とd)との合計量より低いか又は等しい、請求項1に記載の光保護組成物。
  8. 日焼け防止指数の総UVフィルタ量に対する比率を増加させる方法であって、
    a)室温(25℃)で液体であるUVフィルタの量を減らすために、ポリシロキサンに基づくUVフィルタを添加し、それによって総UVフィルタ量を減らこと、
    b)かさ高い基を含有するUVフィルタを添加すること、及び場合により、
    c)光保護組成物の日焼け防止指数を増加させるため、室温(25℃)で液体でないUVフィルタを添加すること、
    を含む、方法。
  9. 室温(25℃)で液体であるUVフィルタが、オクトクリレン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、PEG−25 PABA、p−メトキシケイ皮酸イソアミル、及びオクチルジメチルPABAからなる群より選択される、請求項8に記載の方法。
  10. かさ高い置換基を含有するUVフィルタが、2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)−安息香酸ヘキシルエステル、4−メチルベンジリデンショウノウ、3−ベンジリデンショウノウ、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ホモサラート、ベンジリデンショウノウスルホン酸、メチレンビス−ベンゾトリアゾテトラメチルブチルフェノール、又はドロメトリゾールトリシロキサンからなる群より選択される、請求項8〜9のいずれか1項に記載の方法。
  11. 室温(25℃)で液体でないUVフィルタが、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾール二ナトリウム、テトラスルホナートエチルヘキシトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ベンゾフェノン−3及び/又はベンゾフェノン−4、TiO、ならびにZnOからなる群より選択される、請求項8〜10のいずれか1項に記載の方法。
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