JP2007509889A5

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Publication number: JP2007509889A5
Application number: JP2006537190A
Authority: JP
Filing date: 2004-10-28
Publication date: 2007-12-06
Anticipated expiration: 2024-10-28

Description

立体保護基としての適切なかさ高い（立体的に広がりのある）置換基には、好ましくは、例えば、ｔ−ブチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、ショウノウ、ジエチルアミノ、又はシリル残基、例として２−メチル−３−［１，３，３，３−テトラメチル−１−〔（トリメチルシリル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル−若しくは４−トリス（トリメチルシリルオキシシリルプロピルオキシ）などの置換基が挙げられる。より好ましくは、例えばｔ−ブチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、ショウノウ、又はシリル残基などの置換基である。

本発明で引用されるかさ高い置換基は、分子に立体的障害を与える置換基であって、そのようなかさ高い（立体的に広がりのある）置換基は、立体保護基として、例えば、ジエチルアミノ、ｔ−ブチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、ショウノウ、又はシリル残基、例えば２−メチル−３−［１，３，３，３−テトラメチル−１−［（トリメチルシリル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル−又は４−トリス（トリメチルシリルオキシシリルプロピルオキシ）が挙げられる。

Claims

ａ）少なくとも１個のポリシロキサンに基づくＵＶフィルタ、
ｂ）発色団が適切なかさ高い（立体的に広がりのある）置換基を含有する少なくとも１個の追加のＵＶフィルタ、
ｃ）成分ａ）、ｂ）及びｄ）のための担体、ならびに場合により
ｄ）追加のＵＶフィルタ
を含む光保護組成物
（但し、４，４’，４”−（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリルトリイミノ）−トリス−安息香酸−トリス（２−エチルヘキシルエステル）は該組成物中に存在しない）。
ポリシロキサンに基づくＵＶフィルタが、式Ｉａ又はＩｂ：

（式中、
Ｘは、Ｒ又はＡであり；
Ａは、式IIａ、IIｂ又はIIｃから選択され；

Ｒは、水素、Ｃ_１−６−アルキル又はフェニルであり；
Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立して、水素、ヒドロキシ、Ｃ_１−６−アルキル、又はＣ_１−６−アルコキシであり；
Ｒ^３は、Ｃ_１−６−アルキルであり；
Ｒ^４は、水素又はＣ_１−６−アルキルであり；
Ｒ^５及びＲ^６は、各々独立して水素又はＣ_１−６−アルキルであり；
ｒは、０から２５０であり；
ｓは、０から２０であり；
ｒ＋ｓは、少なくとも３であり；
ｔは、０から１０であり；
ｖは、１から１０であり；
ｖ＋ｔは、少なくとも３であり；そして
ｎは、１から６まである）
の化合物（但し、ｓが０である場合、少なくとも一つのＸはＡである）である、請求項１に記載の光保護組成物。
Ｘが、メチルであり、
Ａが、式IIａ又はIIｂの基であり、
Ｒが、メチルであり、
Ｒ^１及びＲ^２が、各々水素であり、
Ｒ^３が、エチルであり、
Ｒ^４が、水素であり、
Ｒ^５及びＲ^６が、水素であり、
ｒが、約６０の統計的平均値であり、
ｓが、約４の統計的平均値であり、
ｎが、１である、
請求項２に記載の光保護組成物。
ＵＶフィルタのかさ高い（立体的に広がりのある）置換基が、ジエチルアミノ、ｔ−ブチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、ショウノウ若しくはシリル残基、例えば、２−メチル−３−［１，３，３，３−テトラメチル−１−［（トリメチルシリル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル−又は４−トリス（トリメチルシリルオキシシリルプロピルオキシ）である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光保護組成物。
かさ高い置換基を含有するＵＶフィルタが、２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）−安息香酸ヘキシルエステル、４−メチルベンジリデンショウノウ、３−ベンジリデンショウノウ、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ホモサラート、ベンジリデンショウノウスルホン酸、メチレンビス−ベンゾトリアゾテトラメチルブチルフェノール、又はドロメトリゾールトリシロキサンからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光保護組成物。
追加のＵＶフィルタｄ）が、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、ベンゾフェノン−３及び／又はベンゾフェノン−４、ＴｉＯ_２、ならびにＺｎＯから選択される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光保護組成物。
全てのＵＶフィルタａ）の合計量が、全てのＵＶフィルタｂ）とｄ）との合計量より低いか又は等しい、請求項１に記載の光保護組成物。
日焼け防止指数の総ＵＶフィルタ量に対する比率を増加させる方法であって、
ａ）室温（２５℃）で液体であるＵＶフィルタの量を減らすために、ポリシロキサンに基づくＵＶフィルタを添加し、それによって総ＵＶフィルタ量を減らこと、
ｂ）かさ高い基を含有するＵＶフィルタを添加すること、及び場合により、
ｃ）光保護組成物の日焼け防止指数を増加させるため、室温（２５℃）で液体でないＵＶフィルタを添加すること、
を含む、方法。
室温（２５℃）で液体であるＵＶフィルタが、オクトクリレン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ、ｐ−メトキシケイ皮酸イソアミル、及びオクチルジメチルＰＡＢＡからなる群より選択される、請求項８に記載の方法。
かさ高い置換基を含有するＵＶフィルタが、２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）−安息香酸ヘキシルエステル、４−メチルベンジリデンショウノウ、３−ベンジリデンショウノウ、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ホモサラート、ベンジリデンショウノウスルホン酸、メチレンビス−ベンゾトリアゾテトラメチルブチルフェノール、又はドロメトリゾールトリシロキサンからなる群より選択される、請求項８〜９のいずれか１項に記載の方法。
室温（２５℃）で液体でないＵＶフィルタが、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、エチルヘキシトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ベンゾフェノン−３及び／又はベンゾフェノン−４、ＴｉＯ_２、ならびにＺｎＯからなる群より選択される、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法。