JP2007335083A - 電子線ホログラフィ観察装置 - Google Patents
電子線ホログラフィ観察装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007335083A JP2007335083A JP2006161783A JP2006161783A JP2007335083A JP 2007335083 A JP2007335083 A JP 2007335083A JP 2006161783 A JP2006161783 A JP 2006161783A JP 2006161783 A JP2006161783 A JP 2006161783A JP 2007335083 A JP2007335083 A JP 2007335083A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron
- biprism
- electron microscope
- sample
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H5/00—Holographic processes or apparatus using particles or using waves other than those covered by groups G03H1/00 or G03H3/00 for obtaining holograms; Processes or apparatus for obtaining an optical image from them
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/151—Electrostatic means
- H01J2237/1514—Prisms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/248—Components associated with the control of the tube
- H01J2237/2485—Electric or electronic means
- H01J2237/2487—Electric or electronic means using digital signal processors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/2614—Holography or phase contrast, phase related imaging in general, e.g. phase plates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【課題】 透過型電子顕微鏡を用いた電子線ホログラフィ観察は、要求する空間分解能を実現させるための電子光学系の条件探索が複雑であり、電子顕微鏡の操作に不慣れな者にとっては長時間を費やす作業である。
【解決手段】 基本的な電子顕微鏡本体に加え、ホログラフィ観察において要求する空間分解能を入力する手段と、入力された値及び装置固有のパラメータから要求された空間分解能を実現する電子線バイプリズム及び試料位置を算出するための計算装置及び、得られた計算結果を実現するためのこれら二つの位置を移動させる機構を設ける。
【選択図】 図4
Description
(1)電子線バイプリズムの偏向角度θを調整する。
(2)対物レンズの焦点距離 f を調整する。
の2つの手法によって行われている。そこで以下では、従来の電子線ホログラフィ法における、典型的な電子光学系の調整フローについて説明する。
また、干渉縞間隔Δxの値は、以下の式2を用いて表すことができる。
前記(式1)(式2)に示すとおり、干渉縞間隔と干渉領域とバイプリズム電圧との関係は、他のパラメータを変えない限り、どちらか一方を定めると一意に定まる。そのため、一定以上の干渉領域を維持したままで、干渉縞間隔を粗くしたり狭くしたいといったことが、従来の装置では実現できなかった。
本実施例では、本発明のホログラフィ電子法を透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope; TEM)に適用した例について説明する。
図3には、本実施例の透過型電子顕微鏡の外観構成を模式的に示した。図3に示した透過型電子顕微鏡は、大まかには、電子顕微鏡筒37,当該電子顕微鏡筒37が据え付けられる台38,電子顕微鏡筒37の各部に電圧または電流を供給する電源ユニット36,撮像された透過電子顕微鏡像を写すテレビモニタ32,電源ユニット36を制御する制御部28等により構成される。
前記移動機構は試料ホルダ22を対物レンズ磁極67から遠ざけることで、試料周辺を磁場ゼロもしくは試料位置と磁場の強さの相対関係を事前に計測しておくことによって、試料を任意の磁場環境中で観察することも可能である。この機能は、磁場の影響を強く受ける磁性体試料の観察の際には試料内の磁気的な情報を損なうことなく観察が可能と言った副次的なメリットを生ずる。
次に、ステップ92で、Δxの実現に必要なバイプリズム電圧(Vp)が計算される。Vpは、対物レンズの焦点距離f 、入射電子線の波長λ、電子線バイプリズム単位電圧あたりの偏向角度γ、干渉縞間隔Δx、対物レンズ−電子線バイプリズム間距離l を用いて、以下の式3により計算することができる。また、この時のバイプリズム電圧の上限は印加によって生成される干渉領域wが干渉領域の最大値wmaxを越えない範囲に設定される。
この時、Δlの移動動作はΔaの移動動作の後で実行されるように、制御シーケンスを構成する。その理由は、前述のようにΔaの変化には対物レンズの正焦点となる焦点距離の変化を伴うため、Δa移動動作実行の直後に対物レンズの焦点距離を調整して、正焦点像を見ながら作業を行うためである。
(実施例2)
本実施例では、本発明を走査型透過電子顕微鏡(Scanning Transmission Electron Microscope; STEM)への適用例について説明する。図9には、本発明に係る自動調整機能を実装したSTEMの装置構成の概観図を示す。STEMの場合には、対物レンズ5によって形成された収束電子線を試料面上を走査させるための偏向コイル70とこれを制御する走査制御電源71が組み込まれる。また、電子線バイプリズム6の位置がTEMの場合と異なり照射レンズ21の上方となるが、それ以外の構成要素は、図3に示した装置とほぼ同じである。
Claims (11)
- 試料に対して電子線を照射する電子銃と、
該試料を載置する試料ホルダと、
前記試料を透過した電子線の通過位置に配置された電子線バイプリズムと、
前記試料ホルダと電子線バイプリズムの間に配置された対物レンズと、
前記試料ホルダ、電子線バイプリズムおよび対物レンズとを格納する電子線鏡筒と、
前記電子線バイプリズムによって分割された電子線の干渉縞もしくは前記試料の透過電子像を記録する手段とを備え、
更に、前記電子線バイプリズムの電子線の進行方向に対する位置を調整する位置調整手段と、
前記電子線バイプリズムの移動量を計算する情報処理手段とを備えたことを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項1に記載の電子顕微鏡装置において、
前記試料ホルダの位置調整手段を備え、
前記情報処理手段は、該試料ホルダの移動量の計算機能を備えたことを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項1に記載の電子顕微鏡装置において、
前記情報処理装置は、前記干渉縞の間隔に基づく空間分解能と干渉縞の形成領域とをもとに、前記電子線バイプリズムの移動量を計算することを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項1に記載の電子顕微鏡装置において、
前記情報処理装置は、前記干渉縞の間隔に基づく空間分解能と干渉縞の形成領域とをもとに、前記電子線バイプリズムおよび試料ホルダの移動量を計算することを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項4に記載の電子顕微鏡装置において、
前記情報処理装置は、前記試料ホルダの位置変化に伴って生ずる対物レンズの倍率の変化を当該位置変化量から算出する機能を備え、
更に、算出された倍率変化に計算される前記透過電子像の倍率を表示するディスプレイを備えることを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項3に記載の電子顕微鏡装置において、
前記電子線バイプリズムと前記試料ホルダの位置調整に際しては、
試料ホルダ位置を移動し、
移動後の試料位置にて対物レンズの像が正焦点像となるように対物レンズの焦点距離を調整し、
該対物レンズの焦点距離の調整後に前記電子線バイプリズム位置を移動する順序で、
前記電子線バイプリズムと前記試料ホルダ位置調整動作を実行することを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項1に記載の電子顕微鏡装置において、
前記電子線バイプリズムは、電子線が照射されるワイヤと該ワイヤを保持するワイヤホルダと、該ワイヤホルダが載置されるワイヤホルダマウントにより構成され、
該ワイヤホルダを前記電子顕微鏡筒外から出し入れするワイヤホルダ移送手段と、該ワイヤホルダ移送手段を導入するために電子顕微鏡筒に設けられたフィードスルーとを備えたことを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項1に記載の電子顕微鏡装置において、
前記位置調整手段は、
前記電子線バイプリズムを内部に格納する電子線バイプリズムエレベータと、
前記電子線バイプリズムを、該電子線バイプリズムエレベータ内で上下動させる手段とを備えることを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項8に記載の電子顕微鏡応用装置において、
前記電子線バイプリズムは、電子線が照射されるワイヤと該ワイヤを保持するワイヤホルダ部と、該ワイヤホルダ部が載置されるワイヤホルダマウントにより構成され、
前記電子線バイプリズムエレベータは、内部にネジ山を備え、
前記ワイヤホルダマウントは、該ネジ山と嵌合するネジ部を端部に有し、
更に、前記ワイヤホルダとワイヤホルダマウントを載置するステージを有し、
該ステージを回転駆動する回転導入器を備えることを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項9に記載の電子顕微鏡応用装置において、
前記回転導入器の回転数を前記情報処理手段により制御することを特徴とする電子顕微鏡応用装置。 - 請求項10に記載の電子顕微鏡応用装置において、
前記回転導入器の単位回転角と、前記電子線バイプリズムの移動量とを格納する記憶手段を備えることを特徴とする電子顕微鏡応用装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006161783A JP4978065B2 (ja) | 2006-06-12 | 2006-06-12 | 電子顕微鏡応用装置 |
US11/746,096 US7791023B2 (en) | 2006-06-12 | 2007-05-09 | Electron holography system |
EP07009442.0A EP1868224A3 (en) | 2006-06-12 | 2007-05-10 | Electron beam holography observation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006161783A JP4978065B2 (ja) | 2006-06-12 | 2006-06-12 | 電子顕微鏡応用装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007335083A true JP2007335083A (ja) | 2007-12-27 |
JP4978065B2 JP4978065B2 (ja) | 2012-07-18 |
Family
ID=38457742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006161783A Expired - Fee Related JP4978065B2 (ja) | 2006-06-12 | 2006-06-12 | 電子顕微鏡応用装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7791023B2 (ja) |
EP (1) | EP1868224A3 (ja) |
JP (1) | JP4978065B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010026867A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 株式会社日立製作所 | 電子線装置 |
JP2010086882A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Fujitsu Ltd | 電子線装置及びその調節方法 |
JP2010153315A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Hitachi Ltd | 電子線装置および電子線装置における浮遊磁場測定方法 |
JP2010160909A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Hitachi Ltd | 電子線バイプリズムを用いた電子線装置および電子線バイプリズムを用いた電子線装置における浮遊磁場測定方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0713276D0 (en) * | 2007-07-09 | 2007-08-15 | Medical Res Council | Transmission electron microscope |
JP5438937B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2014-03-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置 |
EP2365514B1 (en) * | 2010-03-10 | 2015-08-26 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Twin beam charged particle column and method of operating thereof |
JP5380366B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2014-01-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 透過型干渉顕微鏡 |
JP6051596B2 (ja) * | 2012-05-24 | 2016-12-27 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 干渉電子顕微鏡 |
JP6130185B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-05-17 | 日本電子株式会社 | 試料導入装置および荷電粒子線装置 |
CN105223048B (zh) * | 2014-06-18 | 2018-07-24 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 利用电子全息技术表征磁性纳米材料微观磁结构的方法 |
US10054777B2 (en) * | 2014-11-11 | 2018-08-21 | California Institute Of Technology | Common-mode digital holographic microscope |
CN115342918A (zh) * | 2021-05-14 | 2022-11-15 | 刘承贤 | 可携式观察微流道用环型萤光光路系统及其运作方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5894254U (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-25 | 株式会社日立製作所 | 電子線ホログラフイ−用光学装置 |
JPH0414744A (ja) * | 1990-05-09 | 1992-01-20 | Hitachi Ltd | 電子線ホログラフィ装置 |
JPH1140097A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-12 | Hitachi Ltd | 電子線干渉装置 |
JP2002117800A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Jeol Ltd | 電子線バイプリズム装置を備えた電子顕微鏡 |
JP2003149362A (ja) * | 2001-11-16 | 2003-05-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 移動装置 |
WO2005066998A1 (ja) * | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Riken | 干渉装置 |
WO2005098896A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Riken | 電子線干渉装置および電子顕微鏡 |
JP2006024921A (ja) * | 2000-02-22 | 2006-01-26 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビームによる検査方法および検査装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS561608B2 (ja) * | 1974-04-27 | 1981-01-14 | ||
JPS58214257A (ja) * | 1982-06-08 | 1983-12-13 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡等の磁区観察装置 |
JP3276816B2 (ja) * | 1995-09-12 | 2002-04-22 | 日本電子株式会社 | 電子線バイプリズム |
US6252339B1 (en) * | 1998-09-17 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Removable bombardment filament-module for electron beam projection systems |
JP2000306977A (ja) * | 1999-04-26 | 2000-11-02 | Sendai Nikon:Kk | 搬送方法及び搬送装置、並びに露光装置 |
US6950195B2 (en) * | 2000-03-30 | 2005-09-27 | Hitachi, Ltd. | Interference measuring device |
US6791095B2 (en) * | 2002-03-21 | 2004-09-14 | Hermes-Microvision (Taiwan) Inc. | Method and system of using a scanning electron microscope in semiconductor wafer inspection with Z-stage focus |
JP2005011478A (ja) * | 2003-04-24 | 2005-01-13 | Ricoh Co Ltd | 回折格子とその作製方法及び複製方法並びにその回折格子を用いた光ヘッド装置及び光ディスクドライブ装置 |
US7176459B2 (en) * | 2003-12-25 | 2007-02-13 | Ebara Corporation | Electron beam apparatus |
JP4852249B2 (ja) * | 2005-02-03 | 2012-01-11 | 独立行政法人理化学研究所 | 荷電粒子線装置および干渉装置 |
JP4523448B2 (ja) * | 2005-02-23 | 2010-08-11 | 独立行政法人理化学研究所 | 荷電粒子線装置および干渉装置 |
-
2006
- 2006-06-12 JP JP2006161783A patent/JP4978065B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-05-09 US US11/746,096 patent/US7791023B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-05-10 EP EP07009442.0A patent/EP1868224A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5894254U (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-25 | 株式会社日立製作所 | 電子線ホログラフイ−用光学装置 |
JPH0414744A (ja) * | 1990-05-09 | 1992-01-20 | Hitachi Ltd | 電子線ホログラフィ装置 |
JPH1140097A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-12 | Hitachi Ltd | 電子線干渉装置 |
JP2006024921A (ja) * | 2000-02-22 | 2006-01-26 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビームによる検査方法および検査装置 |
JP2002117800A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Jeol Ltd | 電子線バイプリズム装置を備えた電子顕微鏡 |
JP2003149362A (ja) * | 2001-11-16 | 2003-05-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 移動装置 |
WO2005066998A1 (ja) * | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Riken | 干渉装置 |
JP2005197165A (ja) * | 2004-01-09 | 2005-07-21 | Institute Of Physical & Chemical Research | 干渉装置 |
WO2005098896A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Riken | 電子線干渉装置および電子顕微鏡 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010026867A1 (ja) * | 2008-09-02 | 2010-03-11 | 株式会社日立製作所 | 電子線装置 |
JP5324584B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2013-10-23 | 株式会社日立製作所 | 電子線装置 |
JP2010086882A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Fujitsu Ltd | 電子線装置及びその調節方法 |
JP2010153315A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Hitachi Ltd | 電子線装置および電子線装置における浮遊磁場測定方法 |
JP2010160909A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Hitachi Ltd | 電子線バイプリズムを用いた電子線装置および電子線バイプリズムを用いた電子線装置における浮遊磁場測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080067375A1 (en) | 2008-03-20 |
EP1868224A3 (en) | 2014-03-12 |
EP1868224A2 (en) | 2007-12-19 |
US7791023B2 (en) | 2010-09-07 |
JP4978065B2 (ja) | 2012-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4978065B2 (ja) | 電子顕微鏡応用装置 | |
JP7264539B2 (ja) | 電子顕微鏡下で研究される試料へのドリフト補正の自動化されたアプリケーション | |
JP3951590B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2011514641A (ja) | 試料ホルダアセンブリ | |
JP5449679B2 (ja) | 電子線観察装置および試料観察方法 | |
JP5883658B2 (ja) | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 | |
JP4988662B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2012013703A (ja) | 電子回折断層撮影の方法 | |
US20160118216A1 (en) | Method for measuring a distance of a component from an object and for setting a position of a component in a particle beam device | |
JP4337832B2 (ja) | 電子線を用いた観察装置及び観察方法 | |
EP0686994B1 (en) | Defect observing electron microscope | |
US20080283748A1 (en) | Electron microscope | |
US7847249B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
US20130163076A1 (en) | Transmission interference microscope | |
WO2014195998A1 (ja) | 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法 | |
JP7287957B2 (ja) | 放射線検出装置、コンピュータプログラム及び位置決め方法 | |
JP6163063B2 (ja) | 走査透過電子顕微鏡及びその収差測定方法 | |
KR20180109687A (ko) | 하전 입자 빔 장치 | |
JP3870141B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
WO2023243063A1 (ja) | 透過型荷電粒子ビーム装置、及びロンチグラム撮像方法 | |
US20230282443A1 (en) | Transmission charged particle beam apparatus, and method of aligning such a transmission charged particle beam apparatus | |
JP7394535B2 (ja) | 粒子線分析装置 | |
US11837434B2 (en) | Setting position of a particle beam device component | |
JP3746641B2 (ja) | 透過型電子顕微鏡 | |
JP3717202B2 (ja) | 電子顕微鏡及びその軸合わせ方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081114 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110719 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110915 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120124 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120301 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120321 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120403 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150427 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |