JP2007309995A - 感光性組成物から構成されるドライフィルムおよび該ドライフィルムにより構成されるインクジェットヘッド - Google Patents
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Abstract
【課題】 耐アルカリ性の高い、カチオン重合エポキシ系感光性組成物をドライフィルム化して、貫通孔や凹部を有する基板上へのパターン形成を可能にする。該ドライフィルムを用いて、信頼性に優れたインクジェットヘッドを提供する。
【解決手段】 バインダーとして、エポキシ環を有するフェノキシ樹脂を5〜60wt%混合し、膜の皮膜性を高める。
【選択図】 図1
【解決手段】 バインダーとして、エポキシ環を有するフェノキシ樹脂を5〜60wt%混合し、膜の皮膜性を高める。
【選択図】 図1
Description
本発明は、感光性ドライフィルムに関するものであり、且つ極めて高い解像性を有しまた該感光性材料によるパターンが極めて耐熱性及び耐溶剤性に優れるドライフィルムに関するものであり、さらに、該ドライフィルムを用いたインクジェットヘッドに関するものである。
従来、マイクロマシーン用の微細な立体構造物の形成に関しては、ポリメチルメタクリレート(PMMA)をレジストに適用し、シンクロトロン放射光による厚膜で微細なパターンを形成し、該パターンを用いて電鋳により形成する手段がLIGAプロセスとして適用されている。しかしながら、該プロセスでは、シンクロトロン放射光光源が極めて高価であることと、X-線マスクの形成が極めて煩雑な工程を要する課題を有していた。
該プロセスに対して、近年、ビスフェノール-A-ノボラック-エポキシ樹脂とカチオン光重合開始剤との構成からなるSU-8がIBM社より報告され(J.VAC.Sci.Technol. B13(6) 3012)、微細な構造物を形成している。該SU-8は極めてアスペクト比の高い微細なパターンが形成できるとともに、該パターンは耐熱性、および耐薬品性が優れ、そのままマイクロマシン用構造物として適用することが可能である。
更に、該パターンはその優れた耐熱性および耐薬品性の観点より、インクジェットヘッドの構造部材として適用することが可能である。
従来例としては、例えば特許文献1と特許文献2をあげることが出来る。
特開平8−288645号公報
特開2003−195486号公報
前述したSU-8は各研究機関で各種用途への適用が検討されているが、ドライフィルム化が困難である為、その使用方法が制限されている。本発明は、該課題に対して、SU-8に代表される光カチオン重合エポキシレジストのドライフィルムを提供することを目的としている。
SU-8に代表される、低分子エポキシオリゴマーと光カチオン重合開始剤とから構成される感光性樹脂組成物は、極めて解像性が高く、また高いアスペクト比の膜厚パターンを形成できる。これは、微細な構造をフォトリソグラフィーにより形成するマイクロマシンおよびインクジェットヘッドに対しては極めて効果的な材料といえる。しかしながら、該感光性樹脂組成物をフィルム上に担持して構成されるドライフィルム化を行う場合には、極めて困難となる。
すなわち、低分子エポキシオリゴマーは皮膜の凝集力が低く、転写時に皮膜を全部基材に転写できず、皮膜の凝集破壊が生じてしまう。また、ドライフィルムの形成に関しても、フィルム上への塗布時に均一な塗膜が形成できない等の問題を有している。
エポキシ樹脂の汎用的なバインダーとしては、フェノキシ樹脂を挙げることができるが、該フェノキシ樹脂はエポキシ環を有しないため、微細パターンの形成時に現像液によって溶出してパターンにクラックが生じる場合が多い。
これらの問題は通常、高分子成分の添加により対策されるが、通常のエポキシ樹脂は分子の高分子化することが困難であるため、主材のエポキシ樹脂と相溶性が高いバインダーを見出すことが極めて難しい。
上記課題に対して、本発明者らが鋭意検討を行い本発明に至った。
主材のエポキシ樹脂としては、エポキシ等量が600以下であり、融点が50℃以上のものが好ましい。エポキシ等量が低く分子量が小さければ、パターンの解像性は極めて高いものとなり、スカム等の発生もほとんどない。また融点が50℃以上であれば、レジスト塗膜が環境下で軟化することがなく、ドライフィルムの巻き圧による塗膜の皺なども発生しない。これらエポキシ樹脂としては、前記したSU-8に適用されるEPON(登録商標) SU-8(シェルケミカル社)が最も好適に使用できるが、脂環式エポキシ樹脂EHPE-3150(ダイセル化学工業)等も好適に適用できる。また、同様なビスフェノール-ノボラックエポキシ樹脂として、
エピコート(登録商標)157S70、157H70シリーズ(油化シェルエポキシ社)オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂としてエピコート(登録商標)180S65、180H65シリーズ(油化シェルエポキシ社)も適用できる。
エピコート(登録商標)157S70、157H70シリーズ(油化シェルエポキシ社)オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂としてエピコート(登録商標)180S65、180H65シリーズ(油化シェルエポキシ社)も適用できる。
また、汎用的なビスフェノール-A型において、融点が50℃以上の品番はエピコート(登録商標)1001(油化シェルエポキシ社)以上のグレードになるが、これらビスフェノール-A-エポキシ樹脂はエポキシ等量が前述したエポキシ樹脂より、比較的高いため分子量分散度を小さくする必要がある。すなわち、パターン形成において、現像時に低分子成分が不具合を起こさないように所望の分子量分布を調整する必要がある。成分が反応しきれず、現像時に現像液に溶解して、微細パターンにクラックが発生したり、皮膜の剥離に至る。これら汎用的なエポキシ樹脂は使用する目的に応じて、そのまま使用しても良いし、また分子量分散度を狭めて用いても構わない。
またバインダーとしては、汎用的なエポキシ樹脂のバインダーであるフェノキシ樹脂を適用しても構わないが、該フェノキシ樹脂はエポキシ環を有しないため、微細なパターン形成においては、現像時にフェノキシ樹脂が溶出してパターンにクラックが入ったりパターンの剥離が起こる。もっとも好適にはエポキシ環を有するフェノキシ樹脂としてエピコート(登録商標)1256、エピコート(登録商標)4250、エピコート(登録商標)4275、エピコート(登録商標)YL6557等を使用することが望ましい。該フェノキシ樹脂は前記したように分子内にエポキシ環を残存しており主材のエポキシ樹脂と化学反応し重合することより、現像時の溶出が起こらない。もっとも、これらフェノキシ樹脂のエポキシ環含有量は少ないため、感度が非常に低く、少ない光照射量にてパターニングする場合は、低分子成分を除去して使用することが好ましい。
上市されている上記フェノキシ樹脂の分子量分散度は4〜5程度あるため、3以下に分子量分布を低下させて使用することにより好適なパターンを形成できる。
これら分子量分散度の低減は、汎用的な分別法にて行うことが可能であり、例えばメチルエチルケトン等の溶剤に前記した樹脂を溶解し、シクロヘキサンやイソプロパノール等の非溶剤を添加することによって再沈殿せしめて実施することが可能である。
バインダーの選択に際しては、エポキシ樹脂との相溶性が大きな選択の基準となる。EPON(登録商標) SU-8エポキシ樹脂に対しては、汎用的なビスフェノールタイプのフェノキシ樹脂は、相溶しないため、上記したエピコート(登録商標)4250やエピコート(登録商標)4275等のビスフェノールF型フェノキシを適用することが望ましい。
これらバインダーのエポキシ主材に対する含有量は5〜50部の比率が好ましい。バインダーの添加量を多くすれば、ドライフィルム作成時の塗布膜厚の均一性や高速塗布が可能であり、また転写特性およびビア上への膜形成も容易になるものの、感度や解像性の低下を引き起こす。汎用的には5〜20部が更に好ましい範囲として使用できる。
またエポキシ樹脂としては脂環式エポキシ樹脂EHPE−3150を用いる場合、該樹脂はフェノキシ樹脂との相溶性が極めて高く、バインダーである該フェノキシ樹脂の種類の選択性が高まり、より皮膜特性の良いドライフィルムを形成できる。
光カチオン重合開始剤としては、VA族のオニウム塩、VIA族のオニウム塩および芳香族ハロニウム塩から選択される芳香族錯塩を適用することができる。
これら錯塩は、紫外線や電子線、X-線の照射によりエポキシ環を開環重合せしめる成分を発生する。該光カチオン重合開始剤の添加量はエポキシ樹脂およびバインダーの総量に対して0.5〜10重量%、更に好ましくは1.0〜5重量%添加して使用できる。
好ましい芳香族錯塩の光開始剤は、芳香族ヨードニウム錯塩と芳香族スルフォニウム錯塩を挙げることができる。芳香族ヨードニウム錯塩の光重合開始剤としては、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボーレート、フェニルー4−メチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ(4−ヘプチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ(3−ニトロフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォフェート、ジ(4−クロロフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(ナフチルヨードニウムテトラフルオロボーレート)、ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート、ジ(4−フェノキシフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボーレート、フェニル−2−チエニルオニウムヘキサフルオロフォスフェート、3,5−ジメチルピラゾリル−4−フェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、2,2−ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボーレート、ジ(2,4−ジクロロフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(4−ブロモフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(4−メトキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(3−カルボキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(3−メトキシスルフォニルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(4−アセタミドフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(2−ベンゾエチエニル)ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート等を挙げることができる。本発明に最も好適に使用できる芳香族ヨードニウム塩としては、ジアリールヨードニウムヘキサフルオロフォスフェートあるいはジアリールヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートである。これら錯塩は汎用的な有機溶剤に対する溶解性が高く、エポキシ樹脂等とも広範囲に相溶し、また光に対する感度も極めて高い特性を有している。
また、本発明に使用できるスルフォニウム錯塩の例としては、トリフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、メチルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、ジメチルフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルナフチルスルフォニウムヘキサフルオロアルセナート、トリスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、アニシルジフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−ブトキシフェニルジフェニウルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、4−クロロフェニスジフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(4−フェノキシフェニル)スルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(4−エトキシフェニル)メチルスルフォニウムヘキサフルオロアルセナート、4−アセトキシ−フェニルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、トリス(4−チオメトキシフェニル)スルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、ジ(メトキシスルフォニル)メチルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ(メトキシフトチル)メチルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、ジ(カルボキシフェニル)メチルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、4−アセタミドフェニルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、ジメチルナフチルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート、トリフルオロメチルジフェニルスルフォニウムテトラフルオロボーレート、メチル(n―メチルフェノチアジル)スルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニルメチルベンジルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート等を挙げることができる。
本発明に最も好適に使用できる芳香族スルフォニウム錯塩としては、トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフェートのようなトリアリール置換された錯塩である。これらトリアリール置換された錯塩は保存安定性に優れ、また各種の染料による波長増感が可能である。一般的な芳香族ヨードニウムあるいはスルフォニウム錯塩の吸収波長は、300nm以下にあり、芳香環を有するエポキシ樹脂を用いた場合に吸収波長が一致して厚膜のパターニングができない場合が多い。このような場合、紫外あるいは可視光線に吸収を有する染料を添加して、該波長の光でパターニングすることが可能となる。
カチオンを生成可能な光重合開始剤として商業的に入手可能な組成物は旭電化工業より上市されるSP−170やSP−172(トリアリールスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート)である。
これら感光性組成物には通常適用される、フィラーとしてシリカ、タルク、ガラスフィラー、硫酸バリウム、ピロジェニックシリカ等を添加して、粘度やチクソ性を調整しても構わない。また各種顔料やカーボン等の着色剤を添加することも構わない。更には基材との密着を向上する目的で、各種シランカップリング剤を添加して使用することも可能である。
これら感光性組成物は、汎用的なプラスチックフィルム上に塗布してドライフィルムとして使用される。プラスチックフィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、あるいは該フィルム上にシリコーン樹脂を塗布、硬化せしめる離型処理を施した物が汎用的に使用できるが、ポリイミド、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ弗化ビニリデン等何れのフィルムを用いても構わない。
これら感光性組成物は汎用的な有機溶剤に溶解し、上記したフィルム上に塗布してドライフィルムとして使用される。
有機溶剤としては、エポキシ樹脂、バインダーおよび光カチオン重合開始剤等の組成物を溶解するものであれば何れも適用できる。また、塗布手段としてはグラビアコート法、ロールコート法、ナイフコート法、スロットダイ法等の汎用的塗布手段を用いることができる。
塗布形成したドライフィルムは通常巻き取られて使用されるが、感光性組成物のフィルムへの裏移りを防止するため、カバーフィルムを組成物表面にラミネートして巻き取ることが好ましい。これらカバーフィルムは組成物への密着性に劣るプラスチックフィルムを使用することが好ましく、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等の炭化水素系のフィルム、表面にシリコーン樹脂等で離型処理したフィルム、テフロン(登録商標)や弗化ビニリデン等のフッ素を有するフィルム等が好適に使用される。
前記ドライフィルムを用いて、マイクロマシンの一例として、インクジェットヘッドを作成した。図2に該ドライフィルムを用いて形成されるインクジェットヘッドの外観模式図を示す。図3では、インク吐出部の断面図を示す。図4では、更に吐出効率を向上させた形態を示しており、吐出エレメントは、天板部材2、可動部材20、密着向上層21、上方変位規制部材22、ヒーター基板5から成り立っている。該ヒーター基板5には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体が加熱され、インクが発泡したときのエネルギーで該可動部材20を可動させる。該上方変位規制部材22にて該可動部材20の上方変位を規制することにより発泡エネルギーの効率化をはかっている。図2において、天板部材2の液室およびインク供給孔はSi異方性エッチングやブラスト加工により形成される。
サーマルインクジェットのみならず、凸部、凹部を有する基板を用いて作成するインクジェットヘッドへ適用できることは言うまでもない。また、パターニングにて形成される形状であれば、インク流路のみならずインクジェットヘッドの構造部材として適用できることは言うまでもない。
以下、実施例を以って本発明を更に詳細に説明するが、本発明がこれら実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
本発明によれば、光カチオン重合エポキシ樹脂レジストをドライフィルム化することにより、厚膜にて均一なパターンが形成できる。また、貫通孔や凹部を有するパターン上にもパターン形成可能である。該光カチオン重合エポキシ系レジストは、極めて高アスペクト比のシャープなパターン形成が可能であるとともに、アルカリ溶液や有機溶剤に対しても膨潤や剥離のないパターン形成が可能である。さらに、該ドライフィルムをインクジェットヘッドに適用することにより、長期信頼性に優れるインクジェットヘッドを提供することが可能となる。
(実施例1)
ダイセル化学工業株式会社製脂環式エポキシ樹脂EHPE−3150を70部、油化シェルエポキシ株式会社製フェノキシ樹脂エピコート(登録商標)1256を30部、光カチオン重合開始剤として旭電化工業株式会社製SP−170を1部、シランカップリング剤として日本ユニカー株式会社製A−187を5部の比率で配合し、溶剤として100部のシクロヘキサノンに溶解せしめた。該溶液を膜厚25μmのPETフィルム(帝人株式会社製)にグラビアコート法にて25μmの膜厚になるように塗布した。塗布装置は廉井精機株式会社製マイクログラビアコート装置を用いて、グラビアメッシュ#170、フィルム送り速度は2m/min、乾燥温度は100℃とした。また乾燥後のフィルムは旭化成工業株式会社製ポリエチレンフィルムPAC-3を塗布面にラミネートして巻き取った。該ドライフィルムをラミネーターにてシリコンウエハー上に転写した。転写圧力は、4kg/cm^2、転写温度は100℃、送り速度は0.2m/minの条件にて実施した。ウエハーが室温になるのを待って、基材のPETフィルムを剥離し、キヤノン製ミラープロジェクションマスクアライナーMPA−600FAにてパターン露光を行った。露光量は2J/cm^2とした。その後、ホットプレートにて90℃にて3分間ベークを行った後、エチルセロソルブアセテートに3分間浸漬して現像を行った。
ダイセル化学工業株式会社製脂環式エポキシ樹脂EHPE−3150を70部、油化シェルエポキシ株式会社製フェノキシ樹脂エピコート(登録商標)1256を30部、光カチオン重合開始剤として旭電化工業株式会社製SP−170を1部、シランカップリング剤として日本ユニカー株式会社製A−187を5部の比率で配合し、溶剤として100部のシクロヘキサノンに溶解せしめた。該溶液を膜厚25μmのPETフィルム(帝人株式会社製)にグラビアコート法にて25μmの膜厚になるように塗布した。塗布装置は廉井精機株式会社製マイクログラビアコート装置を用いて、グラビアメッシュ#170、フィルム送り速度は2m/min、乾燥温度は100℃とした。また乾燥後のフィルムは旭化成工業株式会社製ポリエチレンフィルムPAC-3を塗布面にラミネートして巻き取った。該ドライフィルムをラミネーターにてシリコンウエハー上に転写した。転写圧力は、4kg/cm^2、転写温度は100℃、送り速度は0.2m/minの条件にて実施した。ウエハーが室温になるのを待って、基材のPETフィルムを剥離し、キヤノン製ミラープロジェクションマスクアライナーMPA−600FAにてパターン露光を行った。露光量は2J/cm^2とした。その後、ホットプレートにて90℃にて3分間ベークを行った後、エチルセロソルブアセテートに3分間浸漬して現像を行った。
以上の結果、良好な形状のレジストパターンが形成できた。
(実施例2)
図1に示すような貫通孔形成したシリコンウエハー上に実施例1で作成したドライフィルムにてパターン形成を行った。酸化膜を1μm厚形成したシリコンウエハーを用いて、ポジ型レジストOFPR−800(東京応化工業製)を酸化膜上にパターン形成した。該レジストパターンをマスクとしてフッ酸にて酸化膜をエッチングした。該酸化膜をマスクに20wt%TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)溶液にて60℃で12時間エッチングすることによりシリコンウエハーに貫通孔を形成した。なお、シリコンウエハーは結晶方位(110)のウエハーを用いた。
図1に示すような貫通孔形成したシリコンウエハー上に実施例1で作成したドライフィルムにてパターン形成を行った。酸化膜を1μm厚形成したシリコンウエハーを用いて、ポジ型レジストOFPR−800(東京応化工業製)を酸化膜上にパターン形成した。該レジストパターンをマスクとしてフッ酸にて酸化膜をエッチングした。該酸化膜をマスクに20wt%TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)溶液にて60℃で12時間エッチングすることによりシリコンウエハーに貫通孔を形成した。なお、シリコンウエハーは結晶方位(110)のウエハーを用いた。
該貫通孔を形成したウエハー上に実施例1にて作成したドライフィルムをラミネートして実施例1と同様のプロセスにてパターン形成した。本実施例においても、良好なレジストパターンが形成できた。
(実施例3)
実施例1に対して、フェノキシ樹脂のみを変更して実施した。フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のエピコート(登録商標)4250を用いて同様の検討を行ったところ、良好なパターン形成ができた。
実施例1に対して、フェノキシ樹脂のみを変更して実施した。フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のエピコート(登録商標)4250を用いて同様の検討を行ったところ、良好なパターン形成ができた。
(実施例4)
実施例1に対して、フェノキシ樹脂のみを変更して実施した。フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のエピコート(登録商標)4275を用いて、バインダーとEHPE50部づつ、その他の成分を同様にしてパターン形成を行ったところ、良好なパターン形成ができた。
実施例1に対して、フェノキシ樹脂のみを変更して実施した。フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のエピコート(登録商標)4275を用いて、バインダーとEHPE50部づつ、その他の成分を同様にしてパターン形成を行ったところ、良好なパターン形成ができた。
(実施例5)
エポキシ樹脂としてシェルケミカル社のEPON(登録商標) SU−8を90部、フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のE4250を10部、光カチオン重合開始剤としてSP−170を1部、シランカップリング剤としてA−187を5部、溶剤としてシクロヘキサノンを100部混合し、実施例1と同様にしドライフィルムを作成しパターン形成を行ったところ、良好なパターンが形成できた。
エポキシ樹脂としてシェルケミカル社のEPON(登録商標) SU−8を90部、フェノキシ樹脂として油化シェルエポキシ社のE4250を10部、光カチオン重合開始剤としてSP−170を1部、シランカップリング剤としてA−187を5部、溶剤としてシクロヘキサノンを100部混合し、実施例1と同様にしドライフィルムを作成しパターン形成を行ったところ、良好なパターンが形成できた。
なお、本実施例に類似してエピコート(登録商標)4250を20、30部と増量したところ、パターン形成はできるものの、パターン形状は良好なものではなかった。これはEPON(登録商標) SU−8とフェノキシ樹脂の相溶性が低い為である。
(実施例6)
本実施例は汎用的なビスフェノール-A型エポキシ樹脂である、油化シェルエポキシ社のエピコート(登録商標)1001を適用した例を記述する。該エポキシをそのまま実施例1と同様にしてパターン形成を行っても構わないが、微細なパターンにクラックが入るため分子量分布を狭くした後適用を行った。
本実施例は汎用的なビスフェノール-A型エポキシ樹脂である、油化シェルエポキシ社のエピコート(登録商標)1001を適用した例を記述する。該エポキシをそのまま実施例1と同様にしてパターン形成を行っても構わないが、微細なパターンにクラックが入るため分子量分布を狭くした後適用を行った。
エピコート(登録商標)1001をエチルメチルケトンに20wt%の濃度にて溶解し、そのままイソプロピルアルコールを添加して樹脂を沈殿せしめた。このとき、樹脂の再沈殿の比率が初期重量に対して約80%となるようにイソプロピルアルコールの添加量を調整した.再沈殿したエポキシ樹脂をそのままオーブンにて乾燥し、実施例1と同様にしてパターンを形成を行った。なお、フェノキシ樹脂にはエピコート(登録商標)1256を適用した。本実施例においても良好なパターンを形成することができた。
(実施例7)
インクジェットヘッドは、ヒーター基板5、天板部材2、オリフィスプレート4等から構成されている。ヒーター基板5には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体と等間隔に液流路を形成するために流路壁9を実施例1で作成したドライフィルムを用いて形成した(106)。天板部材2は異方性エッチングにより液室およびインク供給孔を形成した後、得られた天板部材2とヒーター基板5を接合した後オリフィスプレート4を接合し、図2、図3記載のインクジェットヘッドを作成した。流路壁9(106)の高さは、ドライフィルムの膜厚に良好に対応するとともに、天板部材2と良好な接着性を示した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示した。さらに、強アルカリインクに対しても、耐性を有し、長期間保存後に印字した結果も良好であった。
インクジェットヘッドは、ヒーター基板5、天板部材2、オリフィスプレート4等から構成されている。ヒーター基板5には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体と等間隔に液流路を形成するために流路壁9を実施例1で作成したドライフィルムを用いて形成した(106)。天板部材2は異方性エッチングにより液室およびインク供給孔を形成した後、得られた天板部材2とヒーター基板5を接合した後オリフィスプレート4を接合し、図2、図3記載のインクジェットヘッドを作成した。流路壁9(106)の高さは、ドライフィルムの膜厚に良好に対応するとともに、天板部材2と良好な接着性を示した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示した。さらに、強アルカリインクに対しても、耐性を有し、長期間保存後に印字した結果も良好であった。
(実施例8)
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例3を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例3を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
(実施例9)
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例4を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例4を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
(実施例10)
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例5を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例5を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
(実施例11)
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例6を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例7に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例6を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
(実施例12)
インクジェットヘッドは、ヒーター基板1、天板部材2、オリフィスプレート4等から構成されている。ヒーター基板1には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体と等間隔に液流路を形成するために流路壁9が形成されている。天板部材2は異方性エッチングにより液室およびインク供給孔を形成した後、実施例1にて作成したドライフィルムをラミネートした。所望の形状をマスクにしMPA−600FA(キヤノン製)にて該ドライフィルム層にλ=365nmのUV光を2J/cm^2照射し密着構造層21を形成した後、さらにドライフィルムをラミネートし、上方変位規制部材22の形状になるようUV光を照射しPEB後、現像することにより上方変位規制部材22の形状を得た。得られた天板部材2とヒーター基板1を接合した後オリフィスプレート4を接合し、図2、図4記載のインクジェットヘッドを作成した。上方変位規制部材22の高さは、ドライフィルムAの膜厚に良好に対応するとともに、密着向上層21の膜厚も均一であり、流路5と良好な接着性を示した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示した。さらに、強アルカリインクに対しても、耐性を有し、長期間保存後に印字した結果も良好であった。
インクジェットヘッドは、ヒーター基板1、天板部材2、オリフィスプレート4等から構成されている。ヒーター基板1には気泡を発生させるために利用される発熱抵抗体が半導体プロセスにて複数配置されている。該発熱抵抗体と等間隔に液流路を形成するために流路壁9が形成されている。天板部材2は異方性エッチングにより液室およびインク供給孔を形成した後、実施例1にて作成したドライフィルムをラミネートした。所望の形状をマスクにしMPA−600FA(キヤノン製)にて該ドライフィルム層にλ=365nmのUV光を2J/cm^2照射し密着構造層21を形成した後、さらにドライフィルムをラミネートし、上方変位規制部材22の形状になるようUV光を照射しPEB後、現像することにより上方変位規制部材22の形状を得た。得られた天板部材2とヒーター基板1を接合した後オリフィスプレート4を接合し、図2、図4記載のインクジェットヘッドを作成した。上方変位規制部材22の高さは、ドライフィルムAの膜厚に良好に対応するとともに、密着向上層21の膜厚も均一であり、流路5と良好な接着性を示した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示した。さらに、強アルカリインクに対しても、耐性を有し、長期間保存後に印字した結果も良好であった。
(実施例13)
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例3を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例3を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
(実施例14)
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例4を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例4を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
(実施例15)
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例5を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例5を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
(実施例16)
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例6を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
実施例12に対して、ドライフィルムのみを変更して実施した。ドライフィルムとして実施例6を用いて、インクジェットヘッドを作成した。該ヘッドは液漏れもなく、良好な印字結果を示し、強アルカリインクに対しても優れた耐性を有し、長期間保存後の印字結果も良好であった。
101 基材フィルム
102 感光性組成物
103 カバーフィルム
104 シリコンウエハー
105 シリコン酸化膜
106 レジストパターン
107 貫通孔
1 基板
2 天板
4 オリフィスプレート
5 発熱素子
9 液流路壁
12 オリフィス
20 可動部材
21 密着向上層
22 上方変位規制部材
102 感光性組成物
103 カバーフィルム
104 シリコンウエハー
105 シリコン酸化膜
106 レジストパターン
107 貫通孔
1 基板
2 天板
4 オリフィスプレート
5 発熱素子
9 液流路壁
12 オリフィス
20 可動部材
21 密着向上層
22 上方変位規制部材
Claims (18)
- 少なくとも、エポキシ樹脂とエポキシ環を有するフェノキシ樹脂およびカチオン重合開始剤とから構成される光硬化性組成物及び該組成物をフィルム上に塗布して構成される感光性ドライフィルム。
- エポキシ環を有するフェノキシ樹脂の含有量がエポキシ樹脂に対して5wt%以上60wt%以下であることを特徴とする請求項1記載の感光性ドライフィルム。
- エポキシ樹脂がエポキシ等量600以下で且つ融点が60℃以上であることを特徴とする請求項1、2記載の感光性ドライフィルム。
- エポキシ樹脂がビスフェノール-A-ノボラックエポキシであることを特徴とする請求項1,2,3記載の感光性ドライフィルム。
- エポキシ樹脂が脂環式エポキシであり且つ融点が60℃以上であることを特徴とする請求項1,2,3記載の感光性ドライフィルム。
- エポキシ環を有するフェノキシ樹脂がビスフェノール-F型であることを特徴とする請求項1,2,3,4,5記載の感光性ドライフィルム。
- 発熱抵抗体を有する基板と、液流路を形成するための天板部材と、液体を吐出する吐出孔と、該吐出孔に連通するとともに、液体に気泡を発生させる気泡発生領域を有する液流路を備え、該発熱抵抗体の気泡発生時のエネルギーにより液体を吐出するインクジェットヘッドにおいて、
少なくとも、エポキシ樹脂とエポキシ環を有するフェノキシ樹脂およびカチオン重合開始剤とから構成される光硬化性組成物及び該組成物をフィルム上に塗布して構成される感光性ドライフィルムを用いて構成されるインクジェットヘッド。 - エポキシ環を有するフェノキシ樹脂の含有量がエポキシ樹脂に対して5wt%以上60wt%以下であることを特徴とする請求項7記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ樹脂がエポキシ等量600以下で且つ融点が60℃以上であることを特徴とする請求項7,8記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ樹脂がビスフェノール-A-ノボラックエポキシであることを特徴とする請求項7,8,9記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ樹脂が脂環式エポキシであり且つ融点が60℃以上であることを特徴とする請求項7,8,9記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ環を有するフェノキシ樹脂がビスフェノール-F型であることを特徴とする請求項7,8,9,10,11記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- 発熱抵抗体を有する基板と、液流路を形成するための天板部材と、液体を吐出する吐出孔と、該吐出孔に連通するとともに、液体に気泡を発生させる気泡発生領域を有する液流路と、気泡の成長に伴い変位する可動部材と、可動部材の変位を規制する上方変位規制部材とを備え、該発熱抵抗体の気泡発生時のエネルギーにより液体を吐出するインクジェットヘッドにおいて、
少なくとも、エポキシ樹脂とエポキシ環を有するフェノキシ樹脂およびカチオン重合開始剤とから構成される光硬化性組成物及び該組成物をフィルム上に塗布して構成される感光性ドライフィルムを用いて構成されるインクジェットヘッド。 - エポキシ環を有するフェノキシ樹脂の含有量がエポキシ樹脂に対して5wt%以上60wt%以下であることを特徴とする請求項13記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ樹脂がエポキシ等量600以下で且つ融点が60℃以上であることを特徴とする請求項13,14記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ樹脂がビスフェノール-A-ノボラックエポキシであることを特徴とする請求項13,14,15記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ樹脂が脂環式エポキシであり且つ融点が60℃以上であることを特徴とする請求項13,14,15記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
- エポキシ環を有するフェノキシ樹脂がビスフェノール-F型であることを特徴とする請求項13,14,15,16,17記載の感光性ドライフィルムを用いたインクジェットヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006136489A JP2007309995A (ja) | 2006-05-16 | 2006-05-16 | 感光性組成物から構成されるドライフィルムおよび該ドライフィルムにより構成されるインクジェットヘッド |
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JP2006136489A JP2007309995A (ja) | 2006-05-16 | 2006-05-16 | 感光性組成物から構成されるドライフィルムおよび該ドライフィルムにより構成されるインクジェットヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007309995A true JP2007309995A (ja) | 2007-11-29 |
Family
ID=38842940
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JP2006136489A Withdrawn JP2007309995A (ja) | 2006-05-16 | 2006-05-16 | 感光性組成物から構成されるドライフィルムおよび該ドライフィルムにより構成されるインクジェットヘッド |
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Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
JP2009122211A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂転写層の形成方法及び成形体の製造方法 |
JP2010126699A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Three Bond Co Ltd | 有機el素子封止用光硬化性樹脂組成物 |
JP2020049752A (ja) * | 2018-09-26 | 2020-04-02 | キヤノン株式会社 | 樹脂層付き基板の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
JPWO2020045311A1 (ja) * | 2018-08-28 | 2020-09-03 | 住友ベークライト株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いた半導体装置 |
WO2020203648A1 (ja) * | 2019-04-01 | 2020-10-08 | 住友ベークライト株式会社 | 平坦化膜形成用の感光性樹脂組成物、電子デバイスの製造方法および電子デバイス |
-
2006
- 2006-05-16 JP JP2006136489A patent/JP2007309995A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009122211A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-04 | Nippon Kayaku Co Ltd | 感光性樹脂転写層の形成方法及び成形体の製造方法 |
JP2010126699A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Three Bond Co Ltd | 有機el素子封止用光硬化性樹脂組成物 |
JPWO2020045311A1 (ja) * | 2018-08-28 | 2020-09-03 | 住友ベークライト株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いた半導体装置 |
JP2020049752A (ja) * | 2018-09-26 | 2020-04-02 | キヤノン株式会社 | 樹脂層付き基板の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP7179554B2 (ja) | 2018-09-26 | 2022-11-29 | キヤノン株式会社 | 樹脂層付き基板の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
WO2020203648A1 (ja) * | 2019-04-01 | 2020-10-08 | 住友ベークライト株式会社 | 平坦化膜形成用の感光性樹脂組成物、電子デバイスの製造方法および電子デバイス |
JPWO2020203648A1 (ja) * | 2019-04-01 | 2021-04-30 | 住友ベークライト株式会社 | 平坦化膜形成用の感光性樹脂組成物、電子デバイスの製造方法および電子デバイス |
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