JP2007307767A - キャリア箔付銅箔、キャリア箔付銅箔の製造方法、キャリア箔付表面処理銅箔及びそのキャリア箔付表面処理銅箔を用いた銅張積層板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前記課題を解決するために、キャリア箔の表面に接合界面層を介して銅箔層を有するキャリア箔付銅箔であって、当該接合界面層は物理蒸着法で形成した単独の炭素層又は金属層と炭素層とからなる複合層であり、当該銅箔層は物理蒸着法で形成したことを特徴とするキャリア箔付銅箔を採用する。また、当該キャリア箔付銅箔の銅箔層の表面に物理蒸着法で形成した防錆処理、シランカップリング剤処理から選択された1種又は2種以上の表面処理を施したキャリア箔付表面処理銅箔を採用することも好ましい。
【選択図】図1
Description
工程B: 前記接合界面層の上に物理蒸着法で銅箔層を構成する銅箔層形成工程。
この比較例1は、実施例1と対比するためのものであり、実施例1と同様の製造方法を採用し、工程Aで形成する接合界面層(炭素層)の厚さを1nmと50nmとの2種類の試料を製造し、これらの試料を用いて比較用のキャリア箔付銅箔を製造した。ここで、接合界面層(炭素層)の厚さが1nmの比較用キャリア箔付表面処理銅箔(比較用試料1−1)と接合界面層(炭素層)の厚さが50nmの比較用キャリア箔付表面処理銅箔(比較用試料1−2)とする。
この比較例においては、実施例2と同様の図3に示した層構成を持つキャリア箔付電解銅箔を製造した結果について説明する。ここでは、実施例と同様のキャリア箔を用い、平均粗さ(Ra)0.21μmの光沢面側へ5μ厚の電解銅箔層を形成した。以下、各工程の順に従って、製造条件の説明を行う。
実施例1と比較例1との対比: 実施例1では、本件発明に係るキャリア箔付銅箔に求められる特性として、加熱前にはキャリア箔の引き剥がしが出来ないが加熱後に容易に引き剥がせるという特性が得られている。しかし、比較例1の結果から分かるように、接合界面層を構成する炭素層が薄すぎると、比較用試料1−1から分かるように常態でも加熱後でもキャリア箔の剥離は出来ず、ピーラブルタイプのキャリア箔付銅箔は得られない。また、接合界面層を構成する炭素層が厚すぎると、比較用試料1−2から分かるように常態でもキャリア箔の剥離が可能であり、しかも、その引き剥がし強度が極めて軽いため、ハンドリングしただけでキャリア箔が剥離したり、レイアップしてプレスするときのプレス圧によってズレが生じる等の不具合の発生の危険性が高まる。
1’ キャリア箔付両面銅箔
2 キャリア箔
3 銅箔層
4 接合界面層
4a 金属層
4b 炭素層
5 防錆処理層
6 シランカップリング剤処理層
10 キャリア箔付表面処理銅箔
Claims (16)
- キャリア箔の表面に接合界面層を介して銅箔層を有するキャリア箔付銅箔であって、
当該接合界面層は物理蒸着法で形成した炭素層を含み、且つ、物理蒸着法で形成した銅箔層を備えることを特徴とするキャリア箔付銅箔。 - 前記接合界面層を構成する炭素層は、厚さ2nm〜30nmのグラファイト構造を備えるものである請求項1に記載のキャリア箔付銅箔。
- 前記接合界面層は物理蒸着法で形成した金属層を含み、前記炭素層と当該金属層とからなる請求項1に記載のキャリア箔付銅箔。
- 前記金属層は、厚さ1nm〜50nmのチタンで構成されたものである請求項3に記載のキャリア箔付銅箔。
- 前記接合界面層は、炭素層と金属層とのトータル厚さが2nm〜60nmである請求項3又は請求項4に記載のキャリア箔付銅箔。
- 常態においては、キャリア箔と接合界面層と銅箔層とが固着した状態にある請求項1〜請求項5のいずれかに記載のキャリア箔付銅箔。
- 180℃×30分間以上の加熱熱量を負荷した後のキャリア箔の引き剥がし強度が10gf/cm〜50gf/cmである請求項1〜請求項6のいずれかに記載のキャリア箔付銅箔。
- 前記キャリア箔は、その厚みが12μm〜210μmである請求項1〜請求項7のいずれかに記載のキャリア箔付銅箔。
- 請求項1〜請求項8のいずれかに記載のキャリア箔付銅箔の銅箔層の表面に物理蒸着法で形成した防錆処理、シランカップリング剤処理から選択された1種又は2種以上の表面処理を施したキャリア箔付表面処理銅箔。
- 請求項1〜請求項8のいずれかに記載のキャリア箔付銅箔の製造方法であって、
以下の工程A及び工程Bを含むことを特徴とするキャリア箔付銅箔の製造方法。
工程A: キャリア箔の表面に、物理蒸着法を用いて接合界面層として単独の炭素層又は金属層と炭素層と複合層のいずれかを形成する接合界面層形成工程。
工程B: 前記接合界面層の上に物理蒸着法で銅箔層を形成する銅箔層形成工程。 - 前記工程Aの物理蒸着法は、スパッタリング蒸着法を用いるものである請求項10に記載のキャリア箔付銅箔の製造方法。
- 前記工程Bの物理蒸着法は、電子ビーム蒸着法及び/又はスパッタリング蒸着法を用いるものである請求項10に記載のキャリア箔付銅箔の製造方法。
- 前記工程Aで物理蒸着法を用いて形成する金属層は、チタン層である請求項10〜請求項12のいずれかに記載のキャリア箔付銅箔の製造方法。
- 請求項9に記載のキャリア箔付表面処理銅箔の製造方法であって、前記キャリア箔付銅箔の銅箔層の上に物理蒸着法を用いて防錆処理層を形成することを特徴としたキャリア箔付表面処理銅箔の製造方法。
- 防錆処理層の上にシランカップリング剤処理層を形成する請求項14に記載のキャリア箔付表面処理銅箔の製造方法。
- 請求項9に記載のキャリア箔付表面処理銅箔を用いて得られる銅張積層板。
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