JP2007280502A - 磁気ヘッドスライダ - Google Patents

Abstract

【課題】再生素子の近傍にヒータを配置し、ヘッド固体毎に浮上量を調整できる磁気ヘッドスライダにおいて、ヒータ発熱による浮上量変化は最大化し、記録電流発熱による浮上量変化は最小化したい、という二つの要望がある。
【解決手段】磁気ヘッドスライダ１のアルチック基板１ａ上に形成された薄膜ヘッド部分１ｂは、記録素子２、再生素子３、ヒータ４、それらを隔てるアルミナ絶縁膜５０、それぞれの素子への電気配線膜、成膜全体を保護するアルミナ保護絶縁膜５２などから構成される。この構成では、ヒータ発熱による浮上量変化を最大化し、記録電流発熱による浮上量変化は最小化するために、アルチック基板１ａ上に記録素子２を先に形成し、記録素子２の上から再生素子３を形成する。更に望ましくは、記録素子２と再生素子３及びヒータ４との間に、低熱伝導率の材料からなる断熱層９を設ける。
【選択図】図１

Description

本発明は、磁気ディスク装置の高記録密度化を実現するための磁気ヘッドスライダに係わり、特に磁気ディスクと磁気ヘッドの距離を調整する機能を持った磁気ヘッドスライダに関する。

磁気ディスク装置は、回転する磁気ディスクと、記録再生素子を搭載しサスペンションを備える磁気ヘッド支持機構によって支持され、磁気ディスクの径方向に位置決めされる磁気ヘッドスライダを有し、磁気ヘッドスライダが相対的に磁気ディスク上を走行して磁気ディスク上に記録された磁気情報を読み書きする。前記磁気ヘッドスライダは空気潤滑軸受として空気のくさび膜効果によって浮上し、磁気ディスクと直接は固体接触しないようになっている。磁気ディスク装置の高記録密度化と、それによる装置の大容量化あるいは小型化を実現するためには、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの距離、すなわちスライダ浮上量を縮め、線記録密度を上げることが有効である。

従来からスライダ浮上量の設計においては、加工ばらつきや使用環境温度差、記録時と再生時との浮上量差、などによる浮上量低下を見込み、最悪条件でもスライダとディスクが接触しないように、浮上量マージンを設けてきた。ヘッド個体毎に、または使用環境に応じて浮上量を調整する機能を設けたスライダを用いれば上記マージンをなくし、スライダとディスクの接触を防ぎつつ記録再生素子の浮上量を大幅に縮めることができる。例えば、特許文献１には、薄膜抵抗体から成るヒータを記録素子と再生素子の近傍に設け、スライダの一部を必要に応じて加熱して熱膨張、突出させ、記録素子及び再生素子と磁気記録媒体との距離を調整するスライダ構造が提案されている。

特開２００５−１３５５０１号公報

上述した、ヒータによる熱膨張突出を利用した浮上量調整については、ヒータの単位発熱あたりの浮上変化量が大きい方が望ましい。単位発熱あたりの浮上変化量が大きければ、再生素子やヒータ自身への熱負荷が小さくて済む、ヒータへの電源供給機能を持つＬＳＩの能力が小さくて済む、装置全体の消費電力が小さくて済む、などの理由からである。一方、ヒータではなく、ライトコイルを流れる記録電流発熱によっても、記録再生素子の近傍が突出し、記録再生素子の浮上量は変化（低下）する。この、記録電流発熱による浮上変化量は、小さい方が望ましい。ヒータによって浮上量調整しなくても、記録時と再生時の浮上量差が小さく信頼性および記録再生性能が高いスライダにおいて、ヒータを用いるとしても少ない電力で済む、などの理由からである。

すなわち、ヒータ発熱による浮上量変化は最大化し、記録電流発熱による浮上量変化は最小化したい、という二つの要望がある。しかし、二つの浮上量変化は基本的に同じ熱突出原理を用いているために、上記二つの要望はトレードオフの関係となり、同時に実現することが難しい。例えば、アルミナ・炭化チタン焼結体（以下アルチックと略す）基板上に最初に形成されるベースアルミナ層を厚くすると、ヒータ発熱による浮上量変化を増加させることができる一方で、記録電流発熱による浮上量変化も大きくなってしまう。また、熱突出によって新たに空気軸受面で生じる空気圧力の割合が小さいステップ軸受設計にすると、スライダの浮き上がりが抑制され、ヒータ発熱による浮上量変化を増加させることができる。しかし、記録電流発熱による浮上量変化も同様に大きくなってしまう。従って、トレードオフを起こさず、上記二つの要望を同時に実現できるヘッド構成が求められている。

本発明の目的は、ヒータ発熱による浮上量変化は大きく、記録電流発熱による浮上量変化は小さい磁気ヘッドスライダを提供することである。

ヒータ発熱による浮上量変化を最大化すると同時に、記録電流発熱による浮上量変化を最小化するために、本発明では、従来の磁気ヘッドとは、記録素子と再生素子の順番を逆にしている。すなわち、アルチック基板上に記録素子を先に形成し、記録素子の上から再生素子を形成している。
本発明の代表的な磁気ヘッドスライダにおいては、スライダの素子形成面に形成された記録素子と、再生素子と、ヒータと、これらを隔てる絶縁層とを有し、スライダの素子形成面から記録素子までの距離が、スライダの素子形成面から再生素子及びヒータまでの距離よりも小さくされている。
さらに、記録素子とヒータとの間に、伝熱を遮断する効果を持った、低熱伝導率の材料からなる断熱層を挟むのが望ましい。

本発明によれば、浮上量調整機能を有する磁気ヘッドスライダにおいて、ヒータ発熱による浮上量変化は大きく、記録電流発熱による浮上量変化は小さくすることができる。

本発明の実施形態に係わる磁気ヘッドスライダおよびこれを用いた磁気ディスク装置について、図面を用いて以下説明する。なお、異なる図面で同じ番号は同じ構成部品を示している。
まず図７を参照して本発明の実施例による磁気ヘッドスライダが搭載される磁気ディスク装置の概略構成を説明する。磁気ディスク装置１３は、磁気情報が格納されスピンドルモータによって回転する磁気ディスク１０と、記録再生素子を搭載しロードビーム１５によって支持および径方向位置決めされる磁気ヘッドスライダ１を有し、磁気ヘッドスライダ１が相対的に磁気ディスク１０上を走行して磁気ディスク上に記録された磁気情報を読み書きする。磁気ヘッドスライダ１は空気潤滑軸受として空気のくさび膜効果によって浮上し、磁気ディスク１０と直接は固体接触しないようになっている。磁気ディスク装置１３の高記録密度化と、それによる装置の大容量化あるいは小型化を実現するためには、磁気ヘッドスライダ１と磁気ディスク１０の距離、すなわちスライダ浮上量を縮め、線記録密度を上げることが有効である。近年、スライダ浮上量は１０ｎｍ程度あるいは１０ｎｍ以下まで縮められている。

磁気ヘッドスライダ１は、板ばね状のロードビーム１５に取り付けられており、ロードビーム１５によって磁気ディスク面への押し付け荷重を与えられ、ロードビーム１５とともにボイスコイルモータ１６によって磁気ディスク１０の径方向にシーク動作し、磁気ディスク面全体で記録再生を行う。磁気ヘッドスライダ１は、装置の停止時あるいは読み書き命令が一定時間無い時に、磁気ディスク１０上からランプ１４上に待避する。なお、ここではロード・アンロード機構を備えた装置を示したが、装置停止中は磁気ヘッドスライダ１が磁気ディスク１０のある特定の領域で待機するコンタクト・スタート・ストップ方式の磁気ディスク装置でも本発明の効果は同様に得られる。

図２は第一の実施例による磁気ヘッドスライダ１の浮上面側から見た斜視図である。磁気ヘッドスライダ１は、アルミナ・炭化チタン焼結体（アルチック）の基板（スライダ）１ａと、スライダ１ａの素子形成面１ｃに形成された薄膜ヘッド部分１ｂからなる。ウエハ状態で、スパッタリング、めっき、研磨などの工程を繰り返して、薄膜ヘッド部分１ｂを基板１ａの素子形成面１ｃ上に積層した後に、ダイシングによってウエハからバー上のブロックに切断し、所定の加工を施した後、ブロックから磁気ヘッドスライダ１を多数切り出す。磁気ヘッドスライダ１は例えば長さ１．２５ｍｍ、幅１．０ｍｍ、厚さ０．３ｍｍのほぼ直方体形状をしており、空気軸受面５、空気流入端面１１、空気流出端面１２、両側の側面、背面の計６面から構成される。空気軸受面５は研磨によって平滑に仕上げる。なお、スライダの寸法は前記以外に、更に小型で長さ０．８５ｍｍ、幅０．７ｍｍ、厚さ０．２３ｍｍのものなどがある。小型スライダにおいても本発明の効果は同様に得られる。

空気軸受面５にはイオンミリングやエッチングなどのプロセスによって微細な段差（ステップ軸受）が設けられており、図示されていないディスクと対向して空気圧力を発生し、背面に負荷される荷重を支える空気軸受の役目を果たしている。なお、図では段差は強調して描かれている。

空気軸受面５には前記のように段差が設けられ、実質的に平行な３種類の面に分類される。最もディスクに近いレール面６、レール面６より約１００ｎｍ乃至２００ｎｍ深いステップ軸受面である浅溝面７、レール面６より約１μｍ深くなっている深溝面８の３種類である。ディスクが回転することで生じる空気流が、空気流入端面１１側のステップ軸受である浅溝面７からレール面６へ進入する際に、先すぼまりの流路によって圧縮され、正の空気圧力を生じる。一方、レール面６や浅溝面７から深溝面８へ空気流が進入する際には流路の拡大によって、負の空気圧力が生じる。

磁気ヘッドスライダ１は、空気流入端面１１側の浮上量が空気流出端面１２側の浮上量より大きくなるような姿勢で浮上するように設計されている。従って流出端近傍の浮上パッド（レール面）６がディスクに最も接近する。流出端近傍では、レール面６が周囲の浅溝面７、深溝面８に対して突出しているので、スライダピッチ姿勢およびロール姿勢が一定限度を超えて傾かない限り、レール面６が最もディスクに近づくことになる。記録素子２および再生素子３は、レール面６の薄膜ヘッド部分１ｂに属する部分に形成されている。ロードビームから押し付けられる荷重と、空気軸受面５で生じる正負の空気圧力とがうまくバランスし、記録素子２および再生素子３からディスクまでの距離を１０ｎｍ程度あるいはそれ以下の適切な値に保つよう、ステップ軸受の形状が設計されている。

なお、ここでは空気軸受面５が実質的に平行な３種類の面６、７、８から形成される二段ステップ軸受の磁気ヘッドスライダについて説明したが、４種類以上の平行な面から形成される三段以上のステップ軸受の磁気ヘッドスライダでも本発明は同様の効果が得られる。

図１は磁気ヘッドスライダ１の、空気流出端面１２近傍の断面図である。また、図４は従来の磁気ヘッドスライダの、空気流出端面１２近傍の断面図である。図１に示すように、磁気ヘッドスライダ１のアルチック基板１ａの素子形成面１ｃ上に積層された薄膜ヘッド部分１ｂは、記録素子２、再生素子３、ヒータ（加熱素子）４、それらを隔てるセラミックス（この場合はアルミナ）絶縁層５０、およびそれぞれの素子への電気配線膜（図示せず）などから構成される。記録素子２は、下部磁極２１と、浮上面側に磁気ギャップ２２を形成し後部で下部磁極２１に磁気的に接続されている上部磁極２３と、下部磁極２１と上部磁極２３の間に層間絶縁層２４を介して形成されたコイル２５とで構成されている。再生素子２は、下部シールド３１、ギャップ層３２、ギャップ層３２の中に形成されている磁気抵抗効果素子３３、上部シールド３４とで構成されている。磁気抵抗効果素子３３は、ＧＭＲ(Giant Magnetoresistive)素子、ＴＭＲ(Tunneling Magnetoresistive)素子などである。ヒータ４はパーマロイ等の薄膜抵抗体であり、再生素子３の上部（近傍）に配置されている。

ヒータ発熱による浮上量変化を最大化すると同時に、記録電流発熱による浮上量変化を最小化するために、本実施例では、従来の磁気ヘッドとは、記録素子２と再生素子３の順番を逆にしている。図１に示す実施例と、図４に示す従来例との違いは、記録再生素子が、従来例では基板１ａに近い方から再生素子３、記録素子２の順に配置されているのに対し、本実施例では基板１ａに近い方から記録素子２、再生素子３の順に配置されている点である。すなわち、アルチック基板１ａ上に記録素子２を先に形成し、記録素子２の上から再生素子３を形成している。

アルチック基板１ａは、アルミナなど磁気ヘッドを構成する他の材料に比べて熱伝導に優れ、大量の熱を吸収拡散する。従来の磁気ヘッドに比べて、記録素子２をアルチック基板１ａに近づけることにより、記録素子２の近傍で発生する記録電流発熱が素早く基板１ａに吸収され、記録電流起因の熱突出を従来の磁気ヘッドより小さくできる。また、従来の磁気ヘッドに比べて、ヒータ４をアルチック基板１ａから遠ざけることにより、ヒータ発熱が基板１ａに逃げるのを抑制し、単位ヒータ発熱あたりの熱突出を従来の磁気ヘッドに比べて大きくできる。

図３は、本発明の第二の実施例による磁気ヘッドスライダ１の、空気流出端面１２近傍の断面図である。本実施例では、ヒータ４および再生素子３と、記録素子２との間に、伝熱を抑制することを目的として、周囲のアルミナ絶縁層５０よりも低熱伝導率の材料により形成された断熱層９を設けている。断熱層９の役割は、第一に、記録電流起因の発熱を、スライダ流出端側（図の右方向）に伝えず、基板１ａ側（図の左方向）にできるだけ多く伝えることにより、早く冷やして熱突出を小さくすることである。第二に、ヒータ４からの発熱を、基板１ａ側（図の左方向）にできるだけ伝えないようにし、スライダ流出端側（図の右方向）に多く熱が留まるようにさせることによって、ヒータ発熱による突出を大きくすることである。

すなわち、断熱層９は、第一の実施例で記録再生素子の順番を従来のヘッド構造とは逆にした効果を、更に増幅させる役割を持っている。従来の記録再生素子の順番、すなわちアルチック基板１ａ上に再生素子３を先に形成し、再生素子３の上から記録素子２を形成した場合には、記録素子２と、再生素子３（およびヒータ４）の間に断熱層９を挟んでも、効果はまったく得られないどころか、逆に記録電流起因の発熱を大きく、ヒータ発熱による突出を小さくしてしまう。低熱伝導率材料の例としては、二酸化ケイ素、樹脂などがある。

図５および図６に、伝熱シミュレーションおよび変形シミュレーションによって計算した本発明の効果を示す。図示したのは、記録電流起因の突出量と、ヒータ発熱による再生素子位置突出量である。ここでは従来構造の磁気ヘッドスライダ、本発明の第一の実施例による磁気ヘッドスライダ１、本発明の第二の実施例による磁気ヘッドスライダ１を比較した。図５に示すように記録発熱起因の熱突出に関しては、従来構造による熱突出よりも第一の実施例による熱突出の方が小さく、優れている。また、第二の実施例による熱突出は更に小さく、より優れている。図６に示すようにヒータ発熱による再生素子位置突出量に関しては、従来構造による熱突出よりも第一の実施例による熱突出の方が大きく、優れている。また、第二の実施例による熱突出は更に大きく、格段に優れている。
なお、ヒータ４の位置に関しては、図１および図３では再生素子３の上部（図の右側）に配したが、再生素子３の後部（図の上側）でもよく、再生素子３の近傍である限り、ヒータ４がどこにあっても本発明の効果は得られる。

次に、ウエハ上に、薄膜磁気ヘッド部分１ｂを形成する方法を説明する。まず、ウエハ上にアルミナ等からなる下地絶縁層５３を形成し、次に下地絶縁層５３上に記録素子２の下部磁極２１を形成し、アルミナ等からなる磁気ギャップ膜２２、記録素子２の上部磁極２３を形成する。また、上部磁極２３に磁界を発生させるための電流を流すコイル２５、コイル２５から引き出された記録用引き出し線、及びコイル２５を包む絶縁膜２４を形成する。下部磁極２１および上部磁極２３は、バックギャップ部（奥）で磁気的に接続されている。

次に、アルミナ等からなる絶縁層５０を介して下部シールド３１、アルミナ等からなるギャップ層（下部）３２を形成し、さらに、再生素子２の主要部である磁気抵抗効果素子３３と、磁気抵抗効果素子３３の磁気信号を引き出すための一対の電極（図示せず）を形成する。次に、アルミナ等からなるギャップ層（上部）３２、上部シールド３４を形成する。さらに、アルミナ等からなる絶縁層５０を形成する。

次に、金属の薄膜抵抗体からなるヒータ４およびヒータ４に電流を供給するための引き出し線（図示せず）を形成する。例えば材質がパーマロイで、厚さが０．５μｍ、幅が４．５μｍの細線を、奥行き６０μｍ、幅６０μｍの領域に蛇行させ、間隙はアルミナで埋めて形成すれば、抵抗値は約５０Ωとなる。

次に、以上の素子群を保護絶縁するためのアルミナ等からなる保護絶縁層５２を、成膜した素子全体を覆うように形成し、最後に保護絶縁層５２の表面に、コイル２５へ電流を外部より入力するための記録素子２の端子（図示せず）と、磁気信号を外部へ伝達するための再生素子３の端子（図示せず）と、ヒータ４に電流を外部より入力するためのヒータ端子（図示せず）を形成する。

図３に示した第二の実施例の場合は、記録素子２と再生素子３の間に断熱層９を形成するわけであるが、上記第一の実施例の形成方法において、記録素子２を形成した後、アルミナ等からなる絶縁層５０を形成し、絶縁層５０の上に記録素子２全体を覆う大きさの樹脂あるいは二酸化ケイ素からなる断熱層９を形成する。次に断熱層９の上にアルミナ等からなる絶縁膜５０を形成し、上記第一の実施例の形成方法と同様にして、再生素子３、ヒータ４及び保護絶縁層５２を形成する。

次に、ウエハから個々の磁気ヘッドスライダ１に切断するまでの工程と、磁気ディスク装置への組み込みまでの工程を説明する。薄膜磁気ヘッド部分１ｂをウエハ上に複数個同時に形成した後、ウエハをダイシングによりバー状のブロックに切断する。次に、ブロックの切断面を研磨加工して浮上面を形成し、洗浄を行う。続いて、浮上面にディスクとの短時間かつ軽微な接触が起こっても摩耗しないよう、また浮上面における薄膜素子部の腐食を防ぐため、厚さ数ｎｍの炭素保護膜を形成する。次に、スライダを安定にさせるためのレール面６、浅溝面７、深溝面８を浮上面に形成し、バー状のブロックを個々の磁気ヘッドスライダ１に切断する。再び洗浄を行い、磁気ヘッドスライダ１を完成させる。その後、完成した磁気ヘッドスライダ１を磁気ヘッド支持機構の一部をなすジンバルに接着し、配線組立てを行い、洗浄を行う。最後に磁気ディスク装置に組み込む。なお、磁気記録方式は、長手記録方式でも垂直記録方式でもどちらでも良い。

次に、上記実施例による磁気ヘッドスライダの浮上量調整方法について説明する。
浮上量調整手続きは、設計時、出荷前検査時、使用時の三段階に大きく分けられる。設計時は予想される最高の環境温度で、予想される最低の気圧で、連続ライトの時に、ばらつき下限の磁気ヘッドスライダのみが磁気ディスクと接触するよう設計する。すなわち、浮上量調整を伴わない従来のスライダ設計と同様である。携帯機器用の磁気ディスク装置では環境温度の高低差が激しく、サーバ用の磁気ディスク装置では連続ライト時の磁極の発熱で熱突出が起こって浮上量が低下するのが激しいなど、用いられる機器によって設計条件が異なる。

出荷前の検査時には、個々の磁気ヘッドスライダの浮上量を検査し、メモリに記憶する。浮上調整量は供給電力に比例するので、まず供給電力をゼロ状態にしておき、その後徐々に供給電力を増やしていって、スライダとディスクの接触を検知したら、その時の供給電力と、浮上調整量と供給電力の間の比例係数から、当該磁気ヘッドスライダの浮上量を計算するという方法である。接触を検知する方法は、接触摩擦力によって磁気ヘッドスライダがピボット回りに微小回転しオフトラックが起こるオフトラック信号（ポジションエラーシグナル）を監視する方法、などがある。なお、スライダ浮上量の個別ばらつきだけでなく、磁気ディスクの内中外周などのゾーン差、記録時と再生時の差も同時にメモリに記憶すると更に浮上量調整の精度を上げることができる。

使用時は、基本的にはコンピュータなどのクライアント側からリードライト命令を受けた時、セレクトされたアクティブな磁気ヘッドスライダのみに、当該スライダの浮上量に応じた電力を供給する。アイドル状態の磁気ヘッドスライダには電力を供給しない。アクティブな磁気ヘッドスライダに供給される電力量は、浮上調整量と供給電力の間の比例係数を用い、連続ライト時には減らし、高環境温度時には減らし、低環境温度時には増やす。環境温度情報は装置に付属の温度センサから得ることができる。

上記、出荷前に個々のスライダの浮上量を検査する手続きは省くことができる。代替方法を以下に示す。エラーレートやオーバライトなどの記録再生性能に目標値を設け、ヒータ通電量を増やしながら記録再生性能を測定してゆき、ある制限値のヒータ通電量より小さな通電量で目標記録再生性能を達成できればその値を当該ヘッドスライダの設定通電量とする。目標記録再生性能に達しないうちにヒータ通電量制限値に達してしまったら当該製品は不良として分解再組立てに回す。

なお、元の浮上隙間、環境温度差、記録時と再生時の浮上量差がノミナル値、バラツキも含めて統計的に既知であれば、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの接触可能性をできるだけ小さく保ちつつ、記録再生性能は十分得られる通電量を設定することができる。

以上述べたように、本発明によれば、ヒータ発熱による浮上量変化は増加させ、記録電流発熱による浮上量変化は減少させる、という二つの要望を同時に実現することができる。その結果、磁気ヘッドスライダの低浮上化と、更には磁気ディスク装置の高記録密度化を実現することができる。

第一の実施例による磁気ヘッドスライダの空気流出端付近の断面図である。 第一の実施例による磁気ヘッドスライダを浮上面から見た斜視図である。 第二の実施例による磁気ヘッドスライダの空気流出端付近の断面図である。 従来の磁気ヘッドスライダの空気流出端付近の断面図である。 記録電流発熱による突出量シミュレーション結果を示す図である ヒータ発熱による突出量シミュレーション結果を示す図である 本発明の磁気ヘッドスライダが搭載される磁気ディスク装置の構成図である。

符号の説明

１…磁気ヘッドスライダ、１ａ…基板（スライダ）、１ｂ…薄膜ヘッド部分、１ｃ…素子形成面、２…記録素子、３…再生素子、４…ヒータ、５…空気軸受面、６…レール面、７…浅溝面、８…深溝面、９…断熱層、１０…磁気ディスク、１１…空気流入端面、１２…空気流出端面、１３…磁気ディスク装置、１４…ランプ、１５…ロードビーム、１６…ボイスコイルモータ、２１…下部磁極、２２…磁気ギャップ、２３…上部磁極、２４…層間絶縁層、２５…コイル、３１…下部シールド、３２…ギャップ層、３３…磁気抵抗効果素子、３４…上部シールド、５０…絶縁層、５２…保護絶縁層、５３…下地絶縁層。

Claims (10)

1. スライダと、
   該スライダの素子形成面に形成された記録素子と、再生素子と、ヒータと、これらを隔てる絶縁層とを有する薄膜ヘッド部分と、を有し、
   前記スライダの素子形成面から前記記録素子までの距離が、当該素子形成面から前記再生素子及び前記ヒータまでの距離よりも小さいことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
2. 前記薄膜ヘッド部分は、前記素子形成面に前記記録素子、再生素子が積層され、該再生素子の近傍に前記ヒータが配置されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
3. 前記薄膜ヘッド部分は、前記素子形成面に前記記録素子、再生素子が積層され、該再生素子の後部に前記ヒータが配置されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
4. 前記薄膜ヘッド部分は、前記素子形成面に前記記録素子、再生素子、ヒータが積層されていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダ。
5. スライダと、
   該スライダの素子形成面に形成された記録素子と、断熱層と、再生素子と、ヒータと、これらを隔てる絶縁層とを有する薄膜ヘッド部分と、を有し、
   前記スライダの素子形成面から前記記録素子までの距離が、当該素子形成面から前記再生素子及び前記ヒータまでの距離よりも小さく、
   前記断熱層が前記絶縁層よりも低い熱伝導率を有し、前記記録素子と前記再生素子及び前記ヒータとの間に設けられていることを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
6. 前記薄膜ヘッド部分は、前記素子形成面に前記記録素子、断熱層、再生素子が積層され、該再生素子の近傍に前記ヒータが配置されていることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドスライダ。
7. 前記薄膜ヘッド部分は、前記素子形成面に前記記録素子、断熱層、再生素子が積層され、該再生素子の後部に前記ヒータが配置されていることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドスライダ。
8. 前記薄膜ヘッド部分は、前記素子形成面に前記記録素子、断熱層、再生素子、ヒータが積層されていることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドスライダ。
9. 前記絶縁層はアルミナであり、前記断熱層は樹脂であることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドスライダ。
10. 前記絶縁層はアルミナであり、前記断熱層は二酸化ケイ素であることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッドスライダ。

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