JP2007273581A - 半導体ウエーハ検査方法およびその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 得られた配線パターンのエッジと抽出された欠陥とを重ね合わせ、この状態でエッジを走査することにより、エッジ上に欠陥が存在するか否かを判定する。
【選択図】 図5
Description
また、例えば、画像データから欠陥を検出し、欠陥のサイズ、形状、色などの情報に基づいて自動的に欠陥を分類することも提案され、実用に供されてきている。
本半導体ウエーハ検査装置1は、検査対象の半導体ウエーハを支持して、互いに直交する方向、所定の回転方向に動作させる検査ステージ2、半導体ウエーハの少なくとも一部を撮像する撮像光学ユニット5、焦点合わせなどのために撮像光学ユニット5を動作させる撮像光学ユニット駆動部6、半導体ウエーハを照明するための照明用光源7、検査ステージ2、撮像光学ユニット駆動部6などを制御する制御用コンピュータ8、および撮像光学ユニット5により得られた画像を処理する画像処理用コンピュータ9を含んでいる。なお、撮像光学ユニット5は、複数の対物レンズが装着されているとともに、1つの測距センサーが装着されている回転可能なレボルバー、光学系、および検査カメラを有している。
前記画像処理用コンピュータ9は、例えば、撮像光学ユニット5により得られた画像を、予め保持している基準画像と比較して欠陥の有無を判定する第1機能を有している。前記画像処理用コンピュータ9は、また、欠陥が致命的なものか否かを判定する第2機能を有している。
具体的には、欠陥が有ると判定された画像が図7に示すように与えられた場合に、エッジ(輪郭線)を抽出し(図8参照)、ハフ変換処理などを施すことによって、エッジ(輪郭線)情報から直線成分のみを検出し(画像内の直線を検索し、それぞれ1本の直線として検出し)(図9参照)、検出された直線と抽出されたエッジとを比較することによって、直線成分のみからなるエッジ(輪郭線)を得て一時的にメモリに保持する(図10参照)。また、図7に示す画像から、欠陥のみを抽出し(図11参照)、抽出された欠陥に対して膨張処理を施して、拡大された欠陥を得て、一時的にメモリに保持する(図12参照)。
本画像処理用コンピュータ9は、画像が欠陥を有しているか否かを判定する第1判定部91と、欠陥を有している画像を保持する第1保持部92と、欠陥を有している画像から直線成分のみからなるエッジ(輪郭線)を得て一時的にメモリに保持するエッジ獲得部93と、欠陥を有している画像から欠陥のみを抽出して一時的にメモリに保持する欠陥抽出部94と、抽出された欠陥に対して膨張処理を施して一時的にメモリに保持する膨張処理部96と、得られたエッジと拡大された欠陥とを重ね合わせ、この状態でエッジを走査することにより、エッジ上に欠陥が存在するか否かを判定する第2判定部95とを含んでいる。
以上の説明から分かるように、本発明の実施形態によれば、欠陥の輝度の影響を受けることなく、しかも、配線の向きに拘らず回転処理を施すことなく、欠陥が致命的なものか否かを判定することができる。
94 欠陥抽出部
95 第2判定部
96 膨張処理部
Claims (4)
- 半導体ウエーハのパターン形成面を撮像装置にて撮像し、撮像装置から出力される画像データから欠陥を検出する半導体ウエーハ検査方法であって、
撮像装置から出力される画像データから欠陥を抽出するステップと、
撮像装置から出力される画像データから直線で構成されるパターンの輪郭を得るステップと、
欠陥と直線で構成されるパターンの輪郭とを重ね合わせておいて、直線で構成されるパターンの輪郭を走査するステップと、
直線で構成されるパターンの輪郭上に欠陥が存在するか否かを判定し、輪郭上に欠陥が存在することに応答して欠陥が致命的なものであると判定するステップと、
を含むことを特徴とする半導体ウエーハ検査方法。 - 抽出された欠陥を膨張させ、膨張された欠陥を新たに欠陥として採用するステップをさらに含む請求項1に記載の半導体ウエーハ検査方法。
- 半導体ウエーハのパターン形成面を撮像装置にて撮像し、撮像装置から出力される画像データから欠陥を検出する半導体ウエーハ検査装置であって、
撮像装置から出力される画像データから欠陥を抽出する欠陥抽出手段(94)と、
撮像装置から出力される画像データから直線で構成されるパターンの輪郭を得るエッジ獲得手段(93)と、
欠陥と直線で構成されるパターンの輪郭とを重ね合わせておいて、直線で構成されるパターンの輪郭を走査する輪郭走査手段(95)と、
直線で構成されるパターンの輪郭上に欠陥が存在するか否かを判定し、輪郭上に欠陥が存在することに応答して欠陥が致命的なものであると判定する欠陥判定手段(95)と、
を含むことを特徴とする半導体ウエーハ検査装置。 - 抽出された欠陥を膨張させ、膨張された欠陥を新たに欠陥として採用する欠陥膨張手段(96)をさらに含む請求項3に記載の半導体ウエーハ検査装置。
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JP2007273581A true JP2007273581A (ja) | 2007-10-18 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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