JP5104346B2 - 表面欠陥検査方法及びその装置 - Google Patents
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Description
2 暗視野光学系
3 微分干渉光学系
4 制御部
5 処理部
6 XYステージ
7 接近待避機構
Claims (8)
- 被検査物の暗視野像を得る暗視野像取得部と、
前記暗視野像取得部により得られた前記暗視野像に基づいて、前記被検査物の表面における欠陥の候補を検出する欠陥候補検出部と、
前記欠陥候補検出部により検出された前記欠陥の候補を含む前記被検物の微分干渉像を得る微分干渉像取得部と、
前記微分干渉像取得部により得られた前記微分干渉像に基づいて、前記欠陥の候補がその周囲に対して凹をなすか凸をなすかを判定して、前記欠陥の候補が凹をなすと判定される場合には前記欠陥の候補を欠陥であると判定する一方で、前記欠陥の候補が凸をなすと判定される場合には前記欠陥の候補を欠陥ではないと判定する判定部と、
を備えたことを特徴とする表面欠陥検査装置。 - 前記判定部は、前記欠陥の候補が凹をなすと判定される場合には前記欠陥の候補をキズとして欠陥であると判定する一方で、前記欠陥の候補が凸をなすと判定される場合には前記欠陥の候補をゴミとして欠陥ではないと判定することを特徴とする請求項1記載の表面欠陥検査装置。
- 前記微分干渉像の倍率は前記暗視野像の倍率よりも高く、
前記微分干渉像取得部が前記欠陥候補検出部により検出された前記欠陥の候補を含む前記被検査物の微分干渉像を得るように、前記欠陥候補検出部により検出された前記欠陥の候補の位置に応じて、前記微分干渉像取得部は前記被検査物に対して相対的に移動されることを特徴とする請求項1又は2記載の表面欠陥検査装置。 - 前記微分干渉像取得部は、前記暗視野像取得部が前記暗視野像を得る際には、前記微分干渉像取得部が前記微分干渉像を得る際の位置よりも前記被検査物から遠ざかった位置に待避されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の表面欠陥検査装置。
- 前記被検査物が透明なガラス基板であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の表面欠陥検査装置。
- 被検査物の暗視野像に基づいて、前記被検査物の表面における欠陥の候補を検出する段階と、
前記欠陥の候補を含む前記被検査物の微分干渉像に基づいて、前記欠陥の候補がその周囲に対して凹をなすか凸をなすかを判定して、前記欠陥の候補が凹をなすと判定される場合には前記欠陥の候補を欠陥であると判定する一方で、前記欠陥の候補が凸をなすと判定される場合には前記欠陥の候補を欠陥ではないと判定する段階と、
を備えたことを特徴とする表面欠陥検査方法。 - 前記判定する段階では、前記欠陥の候補が凹をなすと判定される場合には前記欠陥の候補をキズとして欠陥であると判定する一方で、前記欠陥の候補が凸をなすと判定される場合には前記欠陥の候補をゴミとして欠陥ではないと判定することを特徴とする請求項6記載の表面欠陥検査方法。
- 前記被検査物が透明なガラス基板であることを特徴とする請求項6又は7記載の表面欠陥検査方法。
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