JP2007266472A - 窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007266472A JP2007266472A JP2006091815A JP2006091815A JP2007266472A JP 2007266472 A JP2007266472 A JP 2007266472A JP 2006091815 A JP2006091815 A JP 2006091815A JP 2006091815 A JP2006091815 A JP 2006091815A JP 2007266472 A JP2007266472 A JP 2007266472A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitride semiconductor
- semiconductor layer
- void
- forming
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Led Devices (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】
出発基板上に出発基板表面を選択的に露出する端部から連続したパターンの犠牲膜を形成する。犠牲膜を含んだ出発基板上にボイド窒化物半導体層を形成する。ボイド窒化物半導体層の上に素子形成用窒化物半導体層を形成する。素子形成用窒化物半導体層上に支持基板を取り付けた後、犠牲膜を除去して出発基板をボイド窒化物半導体層から剥離させる。
【選択図】
図3
Description
次に、図3(D)に示すように、発光層7の上に、p型窒化物半導体層8を形成する。まず、マグネシウム(Mg)を添加したp型アルミガリウムナイトライド(AlGaN)層を成長させる。TMGを8.1μmol/min、トリメチルアルミニウム(TMA)を7.56μmol/min、NH3を4.4LM供給し、水素と窒素の混合雰囲気下で、基板温度を870℃にして5分間、厚さ40nmまでp型AlGaN層を成長させる。添加するMgのGaNに対する分子(原子)数の比Mg/GaNは0.0184である。
2 犠牲膜形成層
3 レジスト
4 第1窒化物半導体層
5 ボイド窒化物半導体層
6 n型窒化物半導体層
7 発光層
8 p型窒化物半導体層
9、13、14 支持基板
10 n型電極
11 p型電極
12 窒化物半導体層
2h 開口
2s 犠牲膜
5b ボイド
1A 表面
4B ボイド形成層
5A 界面
D 窒化物半導体発光装置
W1、W2、W3 窒化物半導体ウエハ
Claims (15)
- (a)出発基板上に該出発基板表面を選択的に露出する端部から連続したパターンの犠牲膜を形成する工程と、
(b)前記犠牲膜を含んだ出発基板上に第1窒化物半導体層をエピタキシャル成長温度より低い温度で成長させる工程と、
(c)前記第1窒化物半導体層をエピタキシャル成長温度以上の温度で加熱処理し、結晶性の向上した多数の島状ないしポーラス状のボイド形成層を形成する工程と、
(d)前記ボイド形成層の上に第2窒化物半導体層を成長させ、ボイド窒化物半導体層を形成する工程と、
(e)前記ボイド窒化物半導体層の上に素子形成用窒化物半導体層を形成する工程と、
(f)前記素子形成用窒化物半導体層上に支持基板を取り付けた後、前記犠牲膜を除去して前記出発基板を前記ボイド窒化物半導体層から剥離させる工程と
を含む窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置の製造方法。 - 前記出発基板としてサファイア、炭化珪素(SiC)、窒化ガリウム(GaN)を用いる請求項1に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置の製造方法。
- 前記犠牲膜の除去は、端部からのケミカルエッチングにて行う請求項1または2に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置の製造方法。
- 前記犠牲膜として酸化珪素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化チタン(TiO2)、窒化珪素(Si3N4)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)のいずれかを用いる請求項1〜3のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置の製造方法。
- 前記加熱処理の時間が約2分〜約40分である請求項1〜4のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置の製造方法。
- 前記第1窒化物半導体層の厚さが200nm〜400nmである請求項1〜5のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置の製造方法。
- さらに、
(g)前記ボイド窒化物半導体層に第2の支持基板を取り付けて前記素子形成用窒化物半導体層上に取り付けた支持基板を外す工程と
を含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置の製造方法。 - 露出面もしくは基板との界面に端部から連続したパターンの凹部を有する多孔性のボイド窒化物半導体層と、
前記ボイド窒化物半導体層上に形成された素子形成用窒化物半導体層と、
前記ボイド窒化物半導体層の下もしくは前記素子形成用窒化物半導体層の上に取り付けられた支持基板と
を有する窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。 - 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドは窒化物半導体ではない請求項8に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。
- 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドの屈折率が前記素子形成用窒化物半導体層の屈折率よりも小さい請求項8または9に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。
- 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドは屈折率が約1の気体である請求項8〜10のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。
- 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドの大きさが150nm〜300nmである請求項
8〜11のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。 - 前記ボイド窒化物半導体層のボイド密度が1E+8個/cm2〜1E+9個/cm2である請求項8〜12のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。
- 前記ボイド窒化物半導体層を形成する材料は組成式AlxInyGa1−x−yN[0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1]の窒化物半導体である請求項8〜13のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。
- 前記素子形成用窒化物半導体層を形成する材料は組成式AlxInyGa1−x−yN[0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1]の窒化物半導体である請求項8〜14のいずれか1項に記載の窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006091815A JP5187610B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006091815A JP5187610B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007266472A true JP2007266472A (ja) | 2007-10-11 |
JP5187610B2 JP5187610B2 (ja) | 2013-04-24 |
Family
ID=38639138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006091815A Expired - Fee Related JP5187610B2 (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5187610B2 (ja) |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010001192A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体デバイス、窒化物半導体基板及びその製造方法 |
JP2010153450A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体素子の製造方法、積層構造体の製造方法、半導体ウエハおよび積層構造体。 |
JP2011071449A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Showa Denko Kk | 半導体発光素子の製造方法 |
JP2011192752A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JP2011238786A (ja) * | 2010-05-11 | 2011-11-24 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JP2012031047A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-02-16 | Ritsumeikan | 結晶成長方法および半導体素子 |
KR101117189B1 (ko) | 2011-01-06 | 2012-03-07 | 주식회사 루미스탈 | GaN 기판 자동분리 방법 |
WO2012093758A1 (ko) * | 2011-01-04 | 2012-07-12 | (주)세미머티리얼즈 | 템플레이트, 그 제조방법 및 이를 이용한 수직형 질화물 반도체 발광소자의 제조방법 |
US20120231608A1 (en) * | 2011-03-11 | 2012-09-13 | Stanley Electric Co., Ltd. | Production process for semiconductor device |
CN102956668A (zh) * | 2011-08-23 | 2013-03-06 | 元太科技工业股份有限公司 | 用于制作软性显示设备的基板、结构及其制作方法 |
WO2013077619A1 (ko) * | 2011-11-21 | 2013-05-30 | 서울옵토디바이스주식회사 | 발광 다이오드 및 그 제조 방법 |
WO2013141561A1 (ko) * | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 서울옵토디바이스주식회사 | 에피층과 성장 기판 분리 방법 및 이를 이용한 반도체 소자 |
US8664028B2 (en) | 2011-03-11 | 2014-03-04 | Stanley Electric Co., Ltd. | Semiconductor device production process |
WO2014133267A1 (en) * | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Method of fabricating nitride substrate |
WO2014163323A1 (en) * | 2013-04-05 | 2014-10-09 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Ultraviolet light emitting device separated from growth substrate and method of fabricating the same |
JP2014207483A (ja) * | 2007-10-16 | 2014-10-30 | 晶元光電股▲ふん▼有限公司 | 二種類の材料系の分離方法 |
CN104319263A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-01-28 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 柔性显示装置的制备方法及用于制作柔性显示装置的基板 |
WO2015025631A1 (ja) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
KR101574267B1 (ko) | 2013-12-23 | 2015-12-04 | 주식회사 글로벌식스 | 반도체 발광소자용 지지 기판 및 이를 이용하는 반도체 발광소자를 제조하는 방법 |
WO2016108422A1 (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Vertical light emitting diode with v-pit current spreading member and manufacturing method of the same |
JP2018060868A (ja) * | 2016-10-03 | 2018-04-12 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ |
JP2018074111A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法 |
JP2018074109A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ |
JP2018074110A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001223165A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Hitachi Cable Ltd | 窒化物半導体及びその製造方法 |
JP2001257432A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Ricoh Co Ltd | 半導体基板の作製方法および半導体基板および半導体発光素子 |
JP2001267242A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-28 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体及びその製造方法 |
JP2004119807A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体結晶の成長方法及びそれを用いた素子 |
JP2005244201A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体発光素子及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-03-29 JP JP2006091815A patent/JP5187610B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001223165A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Hitachi Cable Ltd | 窒化物半導体及びその製造方法 |
JP2001257432A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Ricoh Co Ltd | 半導体基板の作製方法および半導体基板および半導体発光素子 |
JP2001267242A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-28 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体及びその製造方法 |
JP2004119807A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Nichia Chem Ind Ltd | 窒化物半導体結晶の成長方法及びそれを用いた素子 |
JP2005244201A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-09-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体発光素子及びその製造方法 |
Cited By (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014207483A (ja) * | 2007-10-16 | 2014-10-30 | 晶元光電股▲ふん▼有限公司 | 二種類の材料系の分離方法 |
JP2010001192A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体デバイス、窒化物半導体基板及びその製造方法 |
JP2010153450A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体素子の製造方法、積層構造体の製造方法、半導体ウエハおよび積層構造体。 |
JP2011071449A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Showa Denko Kk | 半導体発光素子の製造方法 |
JP2011192752A (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JP2011238786A (ja) * | 2010-05-11 | 2011-11-24 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体素子の製造方法 |
JP2012031047A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-02-16 | Ritsumeikan | 結晶成長方法および半導体素子 |
WO2012093758A1 (ko) * | 2011-01-04 | 2012-07-12 | (주)세미머티리얼즈 | 템플레이트, 그 제조방법 및 이를 이용한 수직형 질화물 반도체 발광소자의 제조방법 |
KR101117189B1 (ko) | 2011-01-06 | 2012-03-07 | 주식회사 루미스탈 | GaN 기판 자동분리 방법 |
US8530256B2 (en) * | 2011-03-11 | 2013-09-10 | Stanley Electric Co., Ltd. | Production process for semiconductor device |
US20120231608A1 (en) * | 2011-03-11 | 2012-09-13 | Stanley Electric Co., Ltd. | Production process for semiconductor device |
US8664028B2 (en) | 2011-03-11 | 2014-03-04 | Stanley Electric Co., Ltd. | Semiconductor device production process |
CN102956668A (zh) * | 2011-08-23 | 2013-03-06 | 元太科技工业股份有限公司 | 用于制作软性显示设备的基板、结构及其制作方法 |
WO2013077619A1 (ko) * | 2011-11-21 | 2013-05-30 | 서울옵토디바이스주식회사 | 발광 다이오드 및 그 제조 방법 |
CN104221170A (zh) * | 2012-03-19 | 2014-12-17 | 首尔伟傲世有限公司 | 用于分离外延层与生长基板的方法及使用其的半导体器件 |
US9263255B2 (en) | 2012-03-19 | 2016-02-16 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Method for separating epitaxial layers from growth substrates, and semiconductor device using same |
CN104221170B (zh) * | 2012-03-19 | 2017-02-22 | 首尔伟傲世有限公司 | 用于分离外延层与生长基板的方法及使用其的半导体器件 |
US9882085B2 (en) | 2012-03-19 | 2018-01-30 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Method for separating epitaxial layers from growth substrates, and semiconductor device using same |
WO2013141561A1 (ko) * | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 서울옵토디바이스주식회사 | 에피층과 성장 기판 분리 방법 및 이를 이용한 반도체 소자 |
KR102071034B1 (ko) | 2013-02-28 | 2020-01-29 | 서울바이오시스 주식회사 | 질화물 기판 제조 방법 |
US9252012B2 (en) | 2013-02-28 | 2016-02-02 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Method of fabricating a nitride substrate |
KR20140107797A (ko) * | 2013-02-28 | 2014-09-05 | 서울바이오시스 주식회사 | 질화물 기판 제조 방법 |
WO2014133267A1 (en) * | 2013-02-28 | 2014-09-04 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Method of fabricating nitride substrate |
US9520533B2 (en) | 2013-04-05 | 2016-12-13 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Ultraviolet light emitting device separated from growth substrate and method of fabricating the same |
WO2014163323A1 (en) * | 2013-04-05 | 2014-10-09 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Ultraviolet light emitting device separated from growth substrate and method of fabricating the same |
WO2015025631A1 (ja) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
CN104603959A (zh) * | 2013-08-21 | 2015-05-06 | 夏普株式会社 | 氮化物半导体发光元件 |
JP5997373B2 (ja) * | 2013-08-21 | 2016-09-28 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
JPWO2015025631A1 (ja) * | 2013-08-21 | 2017-03-02 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体発光素子 |
KR101574267B1 (ko) | 2013-12-23 | 2015-12-04 | 주식회사 글로벌식스 | 반도체 발광소자용 지지 기판 및 이를 이용하는 반도체 발광소자를 제조하는 방법 |
CN104319263B (zh) * | 2014-11-14 | 2017-08-25 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 柔性显示装置的制备方法及用于制作柔性显示装置的基板 |
CN104319263A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-01-28 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 柔性显示装置的制备方法及用于制作柔性显示装置的基板 |
WO2016108422A1 (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | Seoul Viosys Co., Ltd. | Vertical light emitting diode with v-pit current spreading member and manufacturing method of the same |
JP2018060868A (ja) * | 2016-10-03 | 2018-04-12 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ |
JP2018074111A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法 |
JP2018074109A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ |
JP2018074110A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社ディスコ | 発光ダイオードチップの製造方法及び発光ダイオードチップ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5187610B2 (ja) | 2013-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5187610B2 (ja) | 窒化物半導体ウエハないし窒化物半導体装置及びその製造方法 | |
JP5180050B2 (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
JP3036495B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体の製造方法 | |
JP4055304B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体の製造方法 | |
US20050260781A1 (en) | Method for manufacturing gallium nitride compound semiconductor | |
CN105103310B (zh) | 与生长衬底分离的紫外线发光装置及其制造方法 | |
JPH10321911A (ja) | 単結晶シリコン上に化合物半導体のエピタキシヤル層を製造する方法及びそれにより製造された発光ダイオード | |
JP2005019872A (ja) | 窒化物半導体の製造方法及び半導体ウエハ並びに半導体デバイス | |
TW200409383A (en) | Method for producing semiconductor crystal | |
JPH11135832A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体及びその製造方法 | |
JP2009505938A (ja) | 半導体基板並びにハイドライド気相成長法により自立半導体基板を製造するための方法及びそれに使用されるマスク層 | |
KR20070079528A (ko) | 질화물 반도체 발광 다이오드 및 이의 제조 방법 | |
WO2022145454A1 (ja) | 半導体基板、半導体デバイス、電子機器 | |
JP3744155B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体基板の製造方法 | |
WO2014068838A1 (ja) | エピタキシャルウェハ及びその製造方法 | |
KR20120004159A (ko) | 기판구조체 및 그 제조방법 | |
JP3832313B2 (ja) | 窒化物半導体の成長方法及び窒化物半導体 | |
JP3962283B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3841537B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体及びその製造方法 | |
US20070099320A1 (en) | Method for manufacturing gallium nitride compound semiconductor | |
JP4055303B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体及び半導体素子 | |
JP2005142415A (ja) | GaN系III−V族化合物半導体層の選択成長方法、半導体発光素子の製造方法および画像表示装置の製造方法 | |
JP2008282942A (ja) | 半導体素子及びその製造方法 | |
JP4140595B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体 | |
JP2003332237A (ja) | 半導体薄膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090304 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120501 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130110 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160201 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5187610 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |