JP2007250740A - 光集積素子及び光モジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】光集積素子及び光モジュールにおいて、ワイヤによるインダクタンスの増加を抑制するとともに、各SOAの電極に接続される電気配線間の電気的特性のバラツキを従来のものよりも低く抑えることができるようにする。
【解決手段】光集積素子1を、一の端面1Aに設けられた複数の入力ポート10のそれぞれに接続される複数の入力光導波路7Aと、出力ポート11に接続される一の出力光導波路7Bと、複数の入力光導波路7Aを伝搬してきた信号光を一の出力光導波路7Bに光結合させる光カプラ8と、複数の入力光導波路7Aのそれぞれに備えられ、表面に電極5Aを有する複数の半導体光増幅器5からなる半導体光増幅器ゲートアレイ6とを備えるものとし、複数の電極5Aから入力ポート10及び出力ポート11を有しない端面1C,1Dまで延びるように、素子表面に形成された複数の信号線12を備えるものとして構成する。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば半導体光増幅器(SOA:Semiconductor Optical Amplifier)ゲートアレイスイッチを備えるものに用いて好適の光集積素子及び光モジュールに関する。
近年、急激に増え続けるネットワークトラフィックに対応するため、ルータ等の伝送装置は更なる大容量化が要求されている。
しかし、現在使用されている電気ルータ装置(データを電気信号で交換し、伝送する装置)では、処理速度や消費電力の面で大容量化の限界が近づいている。
このため、更なる大容量化が可能な光ルータ装置(データを信号光で交換し、伝送する装置)への期待が高まっている。
光ルータ装置を実現するためには、信号光を光のまま高速でスイッチングする高速光スイッチが必要になる。
例えば図5に示すように、SOAゲートアレイスイッチ50は、複数のSOA51に対する電流注入の有無によって光出力をon/offすることができ、高速(ナノ秒オーダ)でスイッチングを行なうことが可能であるため、高速光スイッチとして非常に有望である。
このようなSOAゲートアレイスイッチ50は、図5に示すように、複数のSOA51を備えるSOAゲートアレイ素子52と、光ファイバアレイ53と、光カプラ54とを備える。
そして、SOAゲートアレイ素子52の複数のSOA51の全てに信号光が入力された状態で、複数のSOA51のうち一つのSOA51のみに選択的に電流を注入することで(電流が注入されているものをON状態とする)、複数の入力信号光の中からいずれか一の信号光が選択されて、光ファイバアレイ53(ここではレンズファイバアレイ)を構成するいずれか一の光ファイバ、光カプラ54を介して、一の出力信号光が出力されるようになっている。
ところで、SOAゲートアレイ素子52は、一般に、以下のようにして実装される。
まず、SOAゲートアレイ素子(チップ)52を、ジャンクション面を上面にしてキャリア上にボンディングする。
そして、図6に示すように、SOAゲートアレイ素子52を構成する複数のSOA51のそれぞれに対して電流注入を行なえるように、素子上面に形成されている各SOA51の電極と、SOAゲートアレイ素子52の側面近傍に実装された配線基板55上に形成されている配線とを、ワイヤーボンディングによって電気的に接続する。
また、SOAゲートアレイ素子52の光入出力部を構成するアレイ光導波路と外部の光ファイバアレイとを光学的に接続するために、図6に示すように、SOAゲートアレイ素子の光入力側及び光出力側の端面近傍に、それぞれ、レンズアレイ56(レンズファイバアレイの場合もある)を実装し、チップ52とレンズアレイ56とを光学的に接続する。
なお、例えば非特許文献1には、SOAゲートアレイの実装方法の一例が記載されている。
一方、非特許文献2及び特許文献1には、同一半導体基板上に、SOAゲートアレイ、光分岐器又は光合分波器、光導波路をモノリシック集積した素子構造が記載されている。
Alexis Lestra et al. "Monolithic Integration of Spot-Size Converters with 1.3-μm Lasers and 1.55-μm Polarization Insensitive Semiconductor Optical Amplifiers", IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS, VOL. 3, No. 6, pp1429-1440, December 1997 K.Hamamoto et al. "Insertion-loss-free 1×4 optical switch fabricated using bandgap-energy-controlled selective MOVPE", ELECTRONICS LETTERS, Vol. 32 , No.24, pp2265-2266, 21 November 1996 特開2000−208862号公報
ところで、上述のように、SOAゲートアレイ素子を実装する際には、光ファイバアレイとの光学的な接続のために、図6に示すように、例えば1mm以下の寸法のSOAゲートアレイ素子52の両端に例えば1mm以下の間隔でレンズアレイ56を実装することが必要になる。また、レンズアレイ56を構成する複数のレンズ間で、均一で良好な光結合をとる必要もある。
また、複数のSOA51に対する電流注入のために、長さの異なる複数のワイヤ57を用いて、各SOA51の電極と配線基板55上に形成されている配線とを電気的に接続することも必要になる。
このようなモジュール化のための実装作業は非常に煩雑である。
特に、チャネル数が増加した場合には、素子両端のレンズアレイ56(又はレンズファイバアレイ)によって挟まれた限られた空間内に多数のワイヤ57を張る必要があるため、ワイヤ間の干渉、ワイヤ57とレンズアレイ56との干渉、ワイヤ57の長尺化によるインダクタンスの増加などが問題となる。
一方、非特許文献2及び特許文献1に記載されているような構成を採用することで、素子長が長くなるとともに、素子片側での光学的な接続(光結合)が1つ(1ch)に低減されるため、ワイヤーボンディングを行なうためのスペースが広がり、また、ワイヤ間の干渉も抑えられる。また、素子片側での光結合が1つであるため、光結合をとる作業が比較的容易になる。
しかしながら、チャネル数が増加した場合に、ワイヤが長くなり、インダクタンスが増加してしまうという課題を解決することはできない。また、各SOAの電極に接続されるワイヤの長さが異なるため、電気的特性(例えばインピーダンスなど)のバラツキが大きく、各SOAを共通のドライバ回路で駆動する場合に、均一で良好な光ゲート特性や高速電気信号特性が得られないという課題もある。
本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、ワイヤによるインダクタンスの増加を抑制するとともに、各SOAの電極に接続される電気配線間の電気的特性のバラツキを従来のものよりも低く抑えることができるようにした、光集積素子及び光モジュールを提供することを目的とする。
このため、本発明の光集積素子は、一の端面に設けられた複数の入力ポートのそれぞれに接続される複数の入力光導波路と、出力ポートに接続される一の出力光導波路と、複数の入力光導波路を伝搬してきた信号光を一の出力光導波路に光結合させる光カプラと、複数の入力光導波路のそれぞれに備えられ、表面に電極を有する複数の半導体光増幅器からなる半導体光増幅器ゲートアレイとを備える光集積素子であって、複数の電極から光集積素子の入力ポート及び出力ポートを有しない端面まで延びるように、光集積素子の表面に形成された複数の信号線を備えることを特徴としている。
好ましくは、出力ポートは、入力ポートが設けられている一の端面の反対側の端面に設ける。また、出力光導波路に、出力信号光を増幅するための半導体光増幅器を設けるのが好ましい。
本発明の光モジュールは、上記の光集積素子と、複数のレンズからなるレンズアレイと、複数の配線を有する配線基板とを備え、レンズアレイが、複数のレンズのそれぞれが複数の入力ポートに光学的に接続されるように、光集積素子の一の端面に対向する位置に配置されており、配線基板が、光集積素子の入力ポート及び出力ポートを有しない端面に対向する位置に配置されていることを特徴としている。
また、上記の光集積素子において、出力光導波路を、曲がり導波路を含むものとし、複数の入力ポートと出力ポートとが、一の端面に沿って直列に並ぶように設け、複数の信号線を同一の長さにし、一の端面の反対側の端面まで延びるように形成するのが好ましい。
また、本発明の光モジュールは、この好ましい態様の光集積素子と、複数のレンズからなるレンズアレイと、複数の配線を有する配線基板とを備え、レンズアレイが、レンズアレイを構成する一のレンズが一の出力ポートに光学的に接続され、かつ、一のレンズ以外のレンズのそれぞれが複数の入力ポートに光学的に接続されるように、光集積素子の一の端面に対向する位置に配置されており、配線基板が、光集積素子の一の端面の反対側の端面に対向する位置に配置されていることを特徴としている。
したがって、本発明の光集積素子及び光モジュールによれば、ワイヤによるインダクタンスの増加を抑制することができ、また、各SOAの電極に接続される電気配線間の電気的特性のバラツキを従来のものよりも低く抑えることができるという利点がある。
以下、図面により、本発明の実施の形態にかかる光集積素子及び光モジュールについて説明する。
[第1実施形態]
まず、本発明の第1実施形態にかかる光集積素子及び光モジュールについて、図1〜図3を参照しながら説明する。
以下、本発明を、例えば半導体光増幅器(SOA)ゲートアレイスイッチに適用した場合を例に説明する。
本実施形態にかかるSOAゲートアレイスイッチ(光モジュール)は、例えば図1に示すように、実装基板(図示せず)上に、SOAゲートアレイ集積素子(光集積素子)1と、複数の配線を有する配線基板2と、複数のレンズからなるレンズアレイ3とを実装したものとして構成される。
ここで、SOAゲートアレイ集積素子1は、図1に示すように、単一半導体基板4上に、複数のSOA5(スイッチ用SOA)を並列に配置されたSOAゲートアレイ(光スイッチ素子)6、光導波路7、光カプラ8、出力される信号光(出力信号光)を増幅するためのSOA9(増幅用SOA)を集積した素子である。
ここでは、光導波路7は、一の端面1Aに設けられた入力ポート10に接続される複数の入力光導波路7A及び出力ポート11に接続される一の出力光導波路7Bを含むものとして構成される。本実施形態では、入力ポート10が設けられている一の端面1Aの反対側の端面1Bに出力ポート11が設けられている。
また、図1に示すように、複数の入力光導波路7Aのそれぞれに、表面に電極5Aを有する複数のSOA5が備えられている。また、出力光導波路7BにSOA9が備えられている。そして、出力光導波路7Bに設けられているSOA9によって出力信号光が増幅されて、出力ポート11に光学的に接続される光ファイバ又は石英導波路(図示せず)に出力されるようになっている。なお、ここでは、出力光導波路7BにSOA9を設けているが、このSOA9は設けなくても良い。
また、光カプラ8は、複数の入力光導波路7Aを伝搬してきた信号光を一の出力光導波路7Bに光結合させるものである。
本実施形態では、SOAゲートアレイ集積素子1の表面には、図1に示すように、SOAゲートアレイ6を構成する複数のSOA5の電極5Aのそれぞれに接続されるように複数の信号線12が形成されている。これらの信号線12は、入力ポート10及び出力ポート11を有しない端面1C,1Dまで延びている。つまり、各信号線12は、SOA5の電極5Aから素子側面(ここでは両側面1C,1D)まで引き出されている。このため、信号線を引出配線ともいう。
なお、ここでは、信号線12は、SOA5の電極5AからSOAゲートアレイ集積素子1の両側面1C,1Dまで延びているが、これに限られるものではなく、例えば素子の片側側面のみに延びるようにしても良い。つまり、電極5A及び信号線12のパターン(電極パターン)は、SOA5の電極5Aから入力ポート10及び出力ポート11を有しない端面1C,1Dまで延びている限り、任意に変更しても良い。
そして、配線基板2は、SOAゲートアレイ集積素子1の入力ポート10及び出力ポート11を有しない端面(ここでは両側面1C,1D)に対向する位置に配置されている。さらに、SOAゲートアレイ集積素子1の表面に形成され、素子側面1C,1Dまで引き出されている複数の信号線12と、配線基板2に形成されている複数の配線とが、それぞれ、同一長さのワイヤ13で接続されている。
このように、ワイヤ13の長さを等しくすることができ、また、素子表面に形成された複数の信号線12の長さの差は設計によって比較的小さく抑えることができるため、全体として、各SOA5の電極5Aに接続される電気配線(信号線及びワイヤ)間の電気的特性のバラツキを従来のものよりも低く抑えることができる。
ここでは、各SOA5が、それぞれ、素子側面1C,1Dまで引き出されている信号線12を介して、ワイヤ13によって外部の配線基板2に電気的に接続されることになるため、ワイヤ13の長さを短くすることができ、ワイヤ13によるインダクタンスの増加を抑制することができる。
また、レンズアレイ3は、複数のレンズのそれぞれが複数の入力ポート10に光学的に接続されるように、SOAゲートアレイ集積素子1の一の端面1Aに対向する位置に配置されている。そして、例えば光ファイバアレイを構成する複数の光ファイバ(又は石英導波路を構成する光導波路)及びレンズアレイ3を構成する複数のレンズを介して伝搬してきた信号光が、SOAゲートアレイ集積素子1の複数の入力ポート10のそれぞれに光結合(並列光結合)して入力されるようになっている。
次に、本実施形態にかかる光集積素子(SOAゲートアレイ集積素子)の製造方法について、図2,図3を参照しながら説明する。
まず、n型のInP基板20上に、n−InPクラッド層21(例えば厚さ200nm)、i−InGaAsP下部SCH層22(例えば厚さ100nm)、i−InGaAsP活性層23(例えば、厚さ50nm、発光波長1.55μm)、i−InGaAsP上部SCH層24(例えば厚さ100nm)、p−InPクラッド層25(例えば厚さ200nm)を、例えば有機金属気相成長(MOCVD;Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法でエピタキシャル成長させる。
次に、SOAゲートアレイ領域(各SOA領域)のみにSiO2マスクを形成し、光導波路領域及び光カプラ領域におけるp−InPクラッド層25からi−InGaAsP下部SCH層22までのエピタキシャル成長層を、例えばウエットエッチングにより除去する(図2参照)。
続いて、上記SiO2マスクを用いて、例えばMOVPE法によって、光導波路領域及び光カプラ領域を形成すべく、i−InGaAsPコア層26(例えば、厚さ250nm、発光波長1.3μm)及びp−InPクラッド層27(例えば厚さ200nm)を、バットジョイント成長させる(図3参照)。
次に、SiO2マスクを除去し、再び、例えばMOVPE法によって、p−InPクラッド層25(例えば厚さ1500nm)、InGaAsP層(例えば厚さ150nm)及びInGaAs層(例えば厚さ300nm)を順に積層してなるコンタクト層30、ウエハ全面に成長させる。
次いで、ウエハ表面に例えばSiO2によって光導波路パターン(光導波路領域、光カプラ領域及びSOAゲートアレイ領域を含む)を形成し、これをマスクとして、例えばICP−RIE(Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching)法(誘導結合型プラズマ反応性イオンエッチング法)等のドライエッチング法によって、例えば高さ3.0μm程度の導波路メサ構造28を形成する(図2,図3参照)。
続いて、導波路メサ構造28の両側面に、例えばMOVPE法によって、高抵抗InP埋込層[SI(Semi-Insulating)−InPブロック層]29を堆積させ、高抵抗InP埋込層29による電流狭窄構造を形成する(図2,図3参照)。
その後、SOAゲートアレイ6を構成する各SOA5の活性層23の直上に、一般的な半導体レーザと同様の構造を有する電極5Aを形成する(図2参照)。
本実施形態では、この電極5Aを形成する際に、例えば図1に示すように、例えば金メッキによるSOA信号線パターンを形成する。つまり、各SOA5の電極5Aから素子側面1C,1Dまで引き出されるように、複数の信号線12を形成する。
このようにして電極5A及び信号線12を形成した後、劈開によってチップ切り出しを行ない、光入出力部となる端面(入力ポートや出力ポートを有する端面1A、1B)に、端面反射によるリップル抑制のため、無反射コーティングを施す。これにより、図1に示すようなSOAゲートアレイ集積素子1が作製される。
したがって、本実施形態にかかる光集積素子及び光モジュールによれば、ワイヤ13によるインダクタンスの増加を抑制することができ、また、各SOA5の電極5Aに接続される電気配線間の電気的特性のバラツキを従来のものよりも低く抑えることができるという利点がある。これにより、良好で均一な光結合特性及び高速電気特性の両立を可能にしたSOAゲートアレイスイッチを実現できることになる。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態にかかる光集積素子及び光モジュールについて、図4を参照しながら説明する。
本実施形態にかかる光集積素子(SOAゲートアレイ集積素子)及び光モジュール(SOAゲートアレイスイッチ)は、上述の第1実施形態のものに対し、出力ポートの位置及び出力光導波路の形状、信号線のパターン形状、配線基板の配置が異なる。
つまり、本実施形態では、図4に示すように、SOAゲートアレイ集積素子1に備えられる出力光導波路7Bが、出力信号光をその伝搬方向を180°変えて入力ポート10が設けられている一の端面1Aへ導くための曲がり導波路を含むものとして構成されている。そして、SOAゲートアレイ集積素子1の入力ポート10が設けられている一の端面1Aに出力ポート11も設けられており、入力ポート10と出力ポート11とが一の端面1Aに沿って直列に並ぶように配置されている。なお、図4では、上述の第1実施形態(図1参照)と同一のものには同一の符号を付している。
このため、レンズアレイ3Aは、図4に示すように、レンズアレイ3Aを構成する一のレンズが一の出力ポート11に光学的に接続され、かつ、一のレンズ以外のレンズのそれぞれが複数の入力ポート10に光学的に接続されるように、SOAゲートアレイ集積素子1の一の端面1Aに対向する位置に配置されている。
そして、レンズアレイ3Aを構成する複数のレンズを介して入力される光が複数の入力ポート10のそれぞれに光結合するとともに、一の出力ポート11からレンズアレイ3Aを構成する一のレンズを介して出力されるようになっている。つまり、単一のレンズアレイ3A(又はファイバアレイ)によって、信号光を入力するための光結合及び信号光を出力するための光結合の全光入出力結合が行なわれるようになっている。
このように、本実施形態では、図4に示すように、SOAゲートアレイ集積素子1における全光結合(即ち、全ての光学的な接続)が一の端面1Aで行なわれるようになっている。このため、SOAゲートアレイ集積素子1の一の端面1Aを、光入出力端面という。
また、本実施形態では、図4に示すように、複数の入力光導波路7Aのそれぞれに設けられているSOAゲートアレイ6を構成する複数のSOA5(前段SOA)と、出力光導波路7Bに設けられているSOA9(後段SOA)とは、SOAゲートアレイ集積素子1の一の端面1Aに沿って一列に並べて配置されている。つまり、信号光の伝搬経路上に直列に配置される前段SOA5と後段SOA9とが、素子長手方向に沿って並列に(即ち、素子幅方向に沿って直列に)並べて配置されている。
上述のように、SOAゲートアレイ集積素子1の一の端面1Aで全光結合を行なうようにし、従来のものよりも、モジュールの光結合箇所を減らして、図4に示すように、SOAゲートアレイ集積素子1の一の端面1Aの反対側の端面1Bで配線基板2との電気的な接続を行なうようにしている。これにより、ワイヤ13とレンズアレイ3Aとの干渉を抑制することができる。
このため、本実施形態では、図4に示すように、配線基板2は、SOAゲートアレイ集積素子1の一の端面1Aの反対側の端面1Bに対向する位置に配置されている。
また、本実施形態では、複数の信号線12が、SOAゲートアレイ集積素子1の表面に形成され、各SOA5の電極5Aから一の端面1A(光入出力端面)の反対側の端面1B(入力ポート10及び出力ポート11を有しない端面)まで直線状に延びている。つまり、各信号線12は、並列な直線パターンになっている。この場合、各信号線12の長さは同一になり、素子表面に形成される電極・信号線パターンが共通化されている。
そして、各SOA5の電極5Aから光入出力端面1Aの反対側の端面1Bまで引き出されている複数の信号線12と、配線基板2に形成されている複数の配線とが、それぞれ、同一長さのワイヤ13で接続されている。
本実施形態では、各SOA5の電極5Aに接続される電気配線(信号線及びワイヤ)の長さが等しくなるため、電気配線間の電気的特性のバラツキを非常に低く抑えることができる。
なお、その他の構成の詳細及び製造方法は、上述の第1実施形態のものと同じであるため、ここでは説明を省略する。なお、本実施形態にかかるSOAゲートアレイ集積素子1を製造するには、上述の第1実施形態におけるSOAゲートアレイ集積素子の製造方法において、導波路パターン及びSOAの電極パターンを変更すれば良い。
したがって、本実施形態にかかる光集積素子及び光モジュールによれば、上述の第1実施形態のものと同様に、ワイヤ13によるインダクタンスの増加を抑制することができ、また、各SOA5の電極5Aに接続される電気配線間の電気的特性のバラツキを従来のものよりも低く抑えることができるという利点がある。これにより、良好で均一な光結合特性及び高速電気特性の両立を可能にしたSOAゲートアレイスイッチを実現できることになる。
[その他]
なお、上述の各実施形態では、電流狭窄構造として、高抵抗InP埋込層29による半絶縁性埋込ヘテロ構造(SI−BH;Semi-Insulating Buried Heterostructure)を有するものを例に説明しているが、この部分の構造はこれに限られるものではなく、例えば、pn埋込構造(pn−BH;Buried Heterostructure)、リッジ構造、半絶縁性平面埋込ヘテロ構造(SI−PBH;Semi-Insulating Planar Buried Heterostructure)などの電流狭窄構造を用いても良く、このような場合も同様の効果を持つ素子を作製可能である。
また、光導波路や光カプラの構造についても、上記構造以外にハイメサ構造等を採用することもできる。例えばハイメサ構造を採用することで、曲がりの大きい光導波路を実現できることになる。
さらに、上述の各実施形態では、SOA5の活性層23としてi−InGaAsP活性層を用いたものを例に説明しているが、これに限られるものではなく、例えば、材料・組成、厚さなどを変更しても良いし、MQW(Multiple Quantum Well)構造や量子ドット構造などを採用して様々な機能を付加しても良く、このような場合も同様の効果を持つ素子を作製可能である。また、光導波路や光カプラのコア構造についても同様である。
また、本発明は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形することができる。
本発明の第1実施形態にかかる光集積素子(光モジュール)の構成を示す模式図である。 本発明の第1実施形態にかかる光集積素子(SOAゲートアレイ集積素子)の製造方法を説明するための模式図であって、SOA領域を示す断面図である。 本発明の第1実施形態にかかる光集積素子(SOAゲートアレイ集積素子)の製造方法を説明するための模式図であって、光導波路領域又は光カプラ領域を示す断面図である。 本発明の第2実施形態にかかる光集積素子(光モジュール)の構成を示す模式図である。 従来のSOAゲートアレイスイッチの構成を説明するための模式図である。 従来のSOAゲートアレイの実装時の課題を説明するための模式図である。
符号の説明
1 SOAゲートアレイ集積素子(光集積素子)
1A 一の端面
1B 一の端面の反対側の端面
1C,1D 側面(入力ポート及び出力ポートを有しない端面)
2 配線基板
3 レンズアレイ
4 半導体基板
5 SOA
5A 電極
6 SOAゲートアレイ(光スイッチ素子)
7 光導波路
7A 入力光導波路
7B 出力光導波路
8 光カプラ
9 SOA
10 入力ポート
11 出力ポート
12 信号線
13 ワイヤ
20 n型InP基板
21 n−InPクラッド層
22 i−InGaAsP下部SCH層
23 i−InGaAsP活性層
24 i−InGaAsP上部SCH層
25 p−InPクラッド層
26 i−InGaAsPコア層
27 p−InPクラッド層
28 導波路メサ構造
29 高抵抗InP埋込層(SI−InPブロック層)
30 InGaAsP/InGaAsコンタクト層

Claims (6)

  1. 一の端面に設けられた複数の入力ポートのそれぞれに接続される複数の入力光導波路と、
    出力ポートに接続される一の出力光導波路と、
    前記複数の入力光導波路を伝搬してきた信号光を前記一の出力光導波路に光結合させる光カプラと、
    前記複数の入力光導波路のそれぞれに備えられ、表面に電極を有する複数の半導体光増幅器からなる半導体光増幅器ゲートアレイとを備える光集積素子であって、
    前記複数の電極から前記光集積素子の前記入力ポート及び前記出力ポートを有しない端面まで延びるように、前記光集積素子の表面に形成された複数の信号線を備えることを特徴とする、光集積素子。
  2. 前記出力ポートが、前記入力ポートが設けられている一の端面の反対側の端面に設けられていることを特徴とする、請求項1記載の光集積素子。
  3. 前記出力光導波路が、曲がり導波路を含み、
    前記複数の入力ポートと前記出力ポートとが、前記一の端面に沿って直列に並ぶように設けられており、
    前記複数の信号線が、同一の長さを有し、前記一の端面の反対側の端面まで延びるように形成されていることを特徴とする、請求項1記載の光集積素子。
  4. 前記出力光導波路に、出力信号光を増幅するための半導体光増幅器を備えることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光集積素子。
  5. 請求項1,2,4のいずれか1項に記載の光集積素子と、
    複数のレンズからなるレンズアレイと、
    複数の配線を有する配線基板とを備え、
    前記レンズアレイが、前記複数のレンズのそれぞれが前記複数の入力ポートに光学的に接続されるように、前記光集積素子の前記一の端面に対向する位置に配置されており、
    前記配線基板が、前記光集積素子の前記入力ポート及び前記出力ポートを有しない端面に対向する位置に配置されていることを特徴とする、光モジュール。
  6. 請求項3又は4記載の光集積素子と、
    複数のレンズからなるレンズアレイと、
    複数の配線を有する配線基板とを備え、
    前記レンズアレイが、前記レンズアレイを構成する一のレンズが前記一の出力ポートに光学的に接続され、かつ、前記一のレンズ以外のレンズのそれぞれが前記複数の入力ポートに光学的に接続されるように、前記光集積素子の前記一の端面に対向する位置に配置されており、
    前記配線基板が、前記光集積素子の前記一の端面の反対側の端面に対向する位置に配置されていることを特徴とする、光モジュール。
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