JP2007249260A - 入力装置及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】抵抗膜方式のタッチパネル等の入力装置等において、入力操作時の位置情報の検出精度の向上を図る。
【解決手段】入力装置たる抵抗膜方式のタッチパネルは、観察側に配置され座標入力面を含む前面側基板とそれに対向配置された背面側基板とを備え、その座標入力面上の位置を入力機器で押圧することで、その位置座標を入力可能に構成される。前面側基板は、ＩＴＯ等の第１の面状電極と、その上の両端部に形成され、銀等よりなる一対の配線を有する。一方、背面側基板は第２の面状電極に開口を有しないが前面側基板と略同様の構成を有する。前面側基板では、有効位置座標入力エリアの第１の面状電極に当該第１の面状電極の抵抗を大きくするように開口が形成されている。よって、一対の配線を含む配線部と第１の面状電極により構成される抵抗体のリニアリティ特性の精度（直線性）が向上し、等電位線が歪むのを防止できる結果、入力機器で押圧した位置の検出精度が向上する。
【選択図】図３

Description

本発明は、タッチパネルなどの入力装置を備えた電気光学装置に関する。

近年、パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、パームトップ・コンピュータ等の小型情報電子機器の普及に伴い、液晶表示パネル上に入力装置としてタッチパネルを搭載した電気光学装置（例えば、液晶表示装置）が広く使用されるようになっている。

このタッチパネルとしては、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）等の抵抗膜が形成された２枚の基板をスペーサを介して貼り合わせてなる抵抗膜方式のタッチパネルが知られている。この抵抗膜方式のタッチパネルは、ＩＴＯ等からなる面状電極が形成された２枚の基板を所定のギャップを有して対向配置し、その一方の基板の面状電極の端辺に信号取り出し用の配線部を形成した構造を有する。

この種のタッチパネル一体型の液晶表示装置では、透明なタッチパネルを通して液晶表示パネルの画面を視認することができ、視認された画面の指示に従ってタッチパネルを指やペン等の入力機器で触れることで、その接触部位の位置情報を入力できるようになっている（例えば、特許文献１を参照）。

特開２００３−０４３４５０号公報

上記のようなタッチパネルでは、配線部は半導体微細加工技術を用いてその厚さが薄く且つその線幅が細く形成されるため、その配線部の抵抗値は大きくなっている。このため、その配線部と面状電極により構成される抵抗体のリニアリティ特性の直線性（精度）が悪くなり、面状電極を介して一対の配線部の間に生じる等電位線が歪み、位置情報の検出精度が低下してしまうという問題がある。

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、入力操作時の位置情報の検出精度の向上を図ることが可能な抵抗膜方式のタッチパネル等の入力装置及びその製造方法、それを備える電気光学装置並びに電子機器を提供することを課題とする。

本発明の１つの観点では、入力装置は、座標入力面を含む第１の基板と、前記第１の基板に対向配置された第２の基板とを備え、前記座標入力面上の押圧された位置の座標情報を入力可能に構成されてなり、前記第１の基板及び前記第２の基板の少なくとも一方の基板は、透光性を有する導電膜と、前記導電膜と電気的に接続され、導電性を有する一対の配線とを有し、前記導電膜には、当該導電膜の抵抗を大きくするように開口が形成されている。

上記の入力装置は、例えば抵抗膜方式のタッチパネルであり、座標入力面を含む第１の基板と、その第１の基板に対向配置された第２の基板とを備え、その座標入力面上の位置を、例えば入力機器を用いて押圧することによって、その押圧した位置の座標情報を入力可能に構成されている。

そして、第１の基板及び第２の基板の少なくとも一方の基板は、透光性を有する導電膜と、その導電膜と電気的に接続され、導電性を有する一対の配線とを有する。好適な例では、電源などの電力供給源と電気的に接続された端子部を有し、前記一対の配線の一端側は各々前記端子部と電気的に接続されているのが好ましい。これにより、電力供給源側から端子部を介して一対の配線及び導電膜に電力を供給することができる。

また、好適な例では、前記導電膜は透明導電膜、例えばＩＴＯ（比抵抗は約２×１０^−４[Ω・ｍ]程度）により形成されているのが好ましい。また、導電膜は、スパッタ法又は蒸着法等の真空プロセスを用いて形成され、更にエッチング処理により、例えば約５００Å程度の薄膜状に形成されているのが好ましい。これにより、導電膜を高抵抗化膜とすることができる。また、前記一対の配線は金属膜により形成されているのが好ましい。金属膜としては、導電性の高い金属薄膜が好適であり、例えば金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、又はこれらの金属のうちのいずれか１種類以上の金属を含む合金、例えばＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金であり、その比抵抗は約３.９×１０^−６[Ω・ｍ]程度である）によって形成されているのが好ましい。また、一対の配線は、上記同様にスパッタ法又は蒸着法等の真空プロセスを用いて形成され、更にエッチング処理により薄膜状に形成され且つ細線化されて、それぞれの厚さが約０.２μｍで、それぞれの線幅が約０.１ｍｍで形成されているのが好ましい。これにより、一対の配線を低抵抗化膜とすることができる。

ここで、一対の配線が薄膜状に形成され且つ細線化されると、電力供給源からの距離に応じて、その一対の配線を含む配線部（電源入力源からの一対の配線を含む配線部）の引き回し抵抗が大きくなってしまい、そのため電圧降下（電圧ロス）も大きくなってしまう。また、これにより、低抵抗化膜たる一対の配線の抵抗値と、高抵抗化膜たる導電膜の抵抗値との相対的な大きさも小さくなる。これらにより、引き回し抵抗体の距離と、その引き回し抵抗体に印加される電圧との直線的な関係であるリニアリティ特性の直線性（精度）が悪くなって、導電膜を介して一対の配線間に生じる等電位線が歪み、座標入力面上で押圧した位置の座標情報の検出精度が低下して、正確な位置の座標情報を取得することができなくなるという問題を有する。

このような問題を改善する方法としては、一対の配線を含む配線部の厚さを厚くし且つ配線部の線幅を太くすることにより当該配線部の引き回し抵抗を小さくする、或いは、導電膜に開口を形成して、その導電膜の断面積を小さくして当該導電膜の抵抗値を大きくするなどの方法が考えられる。しかし、現実的な問題として、前者のように一対の配線を含む配線部の厚さを厚くし且つ配線部の線幅を太くすることにより、当該配線部の引き回し抵抗を小さくする方法だけでは、リニアリティ特性の直線性（精度）を改善するのにある程度限界がある。

そこで、上記の入力装置において、導電膜には、当該導電膜の抵抗を大きくするように開口を設けるようにしている。これにより、導電膜の抵抗値が大きくなり、低抵抗化膜たる一対の配線の抵抗値と、高抵抗化膜たる導電膜の抵抗値との相対的な大きさが大きくなる。よって、製造時に、必要に応じて、開口の設定数やその大きさ等を変えることで、一対の配線を含む配線部と導電膜により構成される引き回し抵抗体の抵抗値の大きさを自由に調整することが可能となり、そのリニアリティ特性の精度（直線性）を向上させることが可能となる。これにより、等電位線が歪むのを防止できる結果、座標入力面で押圧した位置の座標情報の検出精度が向上し、その正確な位置の座標情報を取得することが可能となる。

また、導電膜に開口を設けることによる副次的な効果として、開口の位置には導電膜が存在しないので、その分だけ透過率の向上を図ることができる。

好適な例では、前記座標入力面は、前記座標情報の入力に寄与する有効座標入力領域と、前記有効座標入力領域の外側に設定され、前記座標情報の入力に寄与しない非有効座標入力領域とを有し、前記導電膜は少なくとも前記有効座標入力領域に設けられ、前記開口は、前記有効座標入力領域に設けられた前記導電膜に複数設けられているのが好ましい。この場合、例えば、前記開口は、前記有効座標入力領域に設けられた前記導電膜に行列状に設けられているのが好ましい。また、開口の大きさは、入力機器等を用いて入力操作を行った場合に、有効座標入力領域内において座標情報が入力可能な大きさ、例えば入力機器の入力側の先端部等より小さい大きさに形成されているのが好ましい。そのため、開口の大きさの大きさ、即ち、開口の縦方向及び横方向の各長さは、約１０μｍ〜約１００μｍ、より好ましくは、約１０μｍ〜約５０μｍに設定されているのが好ましい。また、開口の平面形状は、矩形、円、楕円、三角などの周知の各種の平面形状を採用することができる。

上記の電気光学装置の一つの態様では、前記開口に重なる位置にはスペーサが設けられている。

ここで、上記した入力装置では、導電膜に開口が設けられているので、導電膜は凹凸形状を有している。このため、開口のある位置と、開口のない位置とでの相対的な透過率が異なってきてしまい、表示上の見栄えが変わってきてしまうという問題がある。したがって、かかる問題を改善するためには、開口を有する導電膜をできる限り平坦化することが望ましい。

そこで、この態様では、開口に重なる位置にスペーサを設けている。好適な例では、前記スペーサは、前記導電膜と略同一の厚さに形成されているのが好ましい。スペーサとしては、既知の印刷法又はフォトリソグラフィー法を用いて形成され、例えば透明アクリル樹脂等の透光性を有する材料よりなるフォトスペーサスペーサとすることができる。これにより、開口のある位置と、開口のない位置とができる限り平坦化されている。なお、この態様では、開口の全てに対応する位置にスペーサを設けることは必須ではなく、全ての開口のうち、少なくとも１つの開口と重なる位置にスペーサを設ければよい。これにより、開口のある位置と、開口のない位置とで透過率をある程度揃えることができ、表示上の見栄えが変わってきてしまうのを防止できる。

上記の電気光学装置の他の態様では、前記一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、前記開口は、前記非有効座標入力領域に設けられた前記導電膜にも複数設けられている。

この態様では、一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されている。これにより、電力供給源側から端子部を介して一対の配線及び導電膜に電力を供給することができる。

ここで、上記した各構成に比べてより一層、座標入力面の押圧された位置の座標情報の検出精度を向上するためには、かかる等電位線は一対の配線と平行な方向に延在している状態となっていることが必要である。

そこで、この態様では、開口を、非有効座標入力領域に設けられた導電膜にも複数設けている。これにより、非有効座標入力領域において、電力供給源である端子部側からその反対側にかけて導電部の抵抗値を均一化でき、等電位線の延在方向を一対の配線と平行な方向に補正（設定）することができる。よって、上記した構成と比べてより一層、座標入力面の押圧された位置の座標情報の検出精度を向上させることができる。

上記の電気光学装置の他の態様では、前記一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、前記開口は、前記非有効座標入力領域に対応する前記導電膜に複数設けられ、前記開口の数は、前記端子部側に位置する前記一対の配線の一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に減少するように設定されている。または、さらに他の態様では、前記一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、前記開口は、前記非有効座標入力領域に対応する前記導電膜に複数設けられ、前記開口の大きさは、前記端子部側に位置する前記一対の配線の一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に小さくなるように設定されている。

これらの態様では、一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されている。これにより、電力供給源側から端子部を介して一対の配線及び導電膜に電力を供給することができる。

ここで、上記した各構成に比べてより一層、座標入力面の押圧された位置の座標情報の検出精度を向上するためには、かかる等電位線は一対の配線と平行な方向に延在している状態となっていることが必要である。

そこで、これらの態様では、開口は、非有効座標入力領域に対応する導電膜に複数設けられ、その開口の数は、端子部側に位置する一対の配線の一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に減少するように設定されている。または、さらに他の態様では、開口は、非有効座標入力領域に対応する導電膜に複数設けられ、その開口の大きさは、端子部側に位置する一対の配線の一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に小さくなるように設定されている。

これらの態様により、非有効座標入力領域において、電力供給源である端子部側からその反対側にかけて導電部の抵抗値を均一化でき、等電位線の延在方向を一対の配線と平行な方向に補正（設定）することができる。よって、上記した構成と比べてより一層、座標入力面の押圧された位置の座標情報の検出精度を向上させることができる。

上記の電気光学装置の他の態様では、前記一対の配線の一端側は各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、前記一対の配線の少なくとも一方の配線の幅は、前記端子部側に位置する前記一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に大きくなるように設定されている。

この態様では、一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されている。これにより、電力供給源側から端子部を介して一対の配線及び導電膜に電力を供給することができる。

ここで、上記した各構成に比べてより一層、座標入力面の押圧された位置の座標情報の検出精度を向上するためには、かかる等電位線は一対の配線と平行な方向に延在している状態となっていることが必要である。

そこで、この態様では、一対の配線の少なくとも一方の配線の幅は、端子部側に位置する一対の配線の一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に大きくなるように設定されている。

これにより、電力供給源である端子部側からその反対側にかけて一対の配線の抵抗値を均一化でき、等電位線の延在方向を一対の配線と平行な方向に補正（設定）することができる。よって、上記した構成と比べてより一層、座標入力面の押圧された位置の座標情報の検出精度を向上させることができる。

本発明の他の観点では、液晶表示パネルに代表される電気光学パネルと、前記電気光学パネルの観察側に配置された上記の入力装置とを備える電気光学装置を構成することができる。また、本発明の更に他の観点では、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。

本発明の更に他の観点では、座標入力面上の押圧された位置の座標情報を入力可能に構成されてなる入力装置の製造方法は、前記座標入力面を含む第１の基板及び前記第１の基板に対向配置される第２の基板の少なくとも一方の基板上に、透光性を有する導電膜を形成する導電膜形成工程と、前記導電膜に電気的に接続される位置に導電性を有する一対の配線を形成する配線形成工程と、を備え、前記導電膜形成工程では、前記導電膜の抵抗を大きくするように開口を形成する。

上記の入力装置の製造方法は、座標入力面上の押圧された位置の座標情報を入力可能に構成されてなる、例えば抵抗膜方式のタッチパネルの製造方法であり、座標入力面を含む第１の基板及び前記第１の基板に対向配置される第２の基板の少なくとも一方の基板上に、透光性を有する導電膜を形成する導電膜形成工程と、その導電膜に電気的に接続される位置に導電性を有する一対の配線を形成する配線形成工程と、を備えている。特に、導電膜形成工程では、導電膜の抵抗を大きくするように当該導電膜に開口を形成する。

好適な例では、導電膜形成工程は、前記導電膜の材料として透明導電膜、例えばＩＴＯ（比抵抗は約２×１０^−４[Ω・ｍ]程度）を用い、その導電膜をスパッタ法又は蒸着法等の真空プロセスを用いて形成し、更にエッチング処理により、例えば約５００Å程度の薄膜状に形成するのが好ましい。これにより、導電膜を高抵抗化膜とすることができる。また、配線形成工程は、一対の配線を金属膜により形成するのが好ましい。金属膜の材料としては、導電性の高い金属薄膜が好適であり、例えば金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、又はこれらの金属のうちのいずれか１種類以上の金属を含む合金、例えばＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金であり、その比抵抗は約３.９×１０^−６[Ω・ｍ]程度である）であるのが好ましい。また、配線形成工程は、一対の配線を上記同様にスパッタ法又は蒸着法等の真空プロセスを用いて形成し、更にエッチング処理により薄膜状に且つ線幅を細線化し、それぞれの厚さを約０.２μｍで、それぞれの線幅を約０.１ｍｍに形成するのが好ましい。これにより、一対の配線を低抵抗化膜とすることができる。

こうして製造された入力装置は、導電膜の抵抗値が大きくなり、低抵抗化膜たる一対の配線の抵抗値と、高抵抗化膜たる導電膜の抵抗値との相対的な大きさが大きくなる。よって、この入力装置の製造方法では、必要に応じて、開口の設定数やその大きさ等を変えることで、一対の配線を含む配線部と導電膜により構成される引き回し抵抗体の抵抗値の大きさを自由に調整することが可能となり、そのリニアリティ特性の精度（直線性）を向上させることが可能となる。これにより、等電位線が歪むのを防止できる結果、座標入力面上の押圧された位置の座標情報の検出精度が向上し、その正確な位置の座標情報を取得することが可能となる。

以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。

［電気光学装置］
図１は、本発明の電気光学装置の一例であるタッチパネル一体型の液晶表示装置の概略断面図を示す。なお、図１では、紙面縦方向をＺ方向と規定し、また、紙面横方向をＹ方向と規定し、また、紙面視方向をＸ方向と夫々規定する。

本実施形態の液晶表示装置１は、主として、表示ユニットである液晶表示パネル（電気光学パネル）２と、その一方の面側（観察側）に配置されたアナログ型抵抗膜方式のタッチパネル４（入力装置）を含んで構成されている。

（液晶表示パネルの構成）
液晶表示パネル２は、透過型表示モードを有する液晶表示パネルであり、観察側に配置された前面側基板２２ａと、当該前面側基板２２ａに対向配置された背面側基板２２ｂとが枠状のシール材２３を介して貼り合わされてなり、その枠状のシール材２３で区画される領域内に液晶が封入され液晶層３２が形成されてなる。

前面側基板２２ａは、例えば硬質のガラス等の透光性を有する材料からなる基板本体２４ａを有する。液晶層３２と接触する側の基板本体２４ａの内面上には、その略一面に亘って、例えばＩＴＯなどに代表される透明導電材料よりなる前面側電極２６ａが形成されている。前面側基板２６ａの内面上には、図示しない配向膜が形成され、その配向膜には液晶分子の配向規制手段としてのラビング処理が施されている。一方、背面側基板２２ｂは、例えば基板本体２４ａと同一の材料よりなる基板本体２４ｂを有する。背面側基板２２ｂの厚さは、後述するタッチパネル４に対する入力操作時の前面側基板２２ａの変形に対して追従できる構成とするため、約０.１ｍｍ〜約０.４ｍｍ程度とすることができる。液晶層３２と接触する側の基板本体２４ｂの内面上には、上記した前面側電極２６ａと同一の材料よりなる背面側電極２６ｂがマトリクス状に形成されている。背面側電極２６ｂの内面上には、図示しない配向膜が形成され、その配向膜には液晶分子の配向規制手段としてのラビング処理が施されている。また、背面側基板２４ｂの外面上には偏光板６ｂが設けられ、その偏光版６ｂの外面上には、図示しない照明装置としてのバックライトが設けられる。そして、一対の前面側基板２２ａ及び背面側基板２２ｂの間隔（ギャップ）は、それらの内部に配置され、例えばアクリル樹脂等の透光性を有する材料よりなるスペーサ２９により均一に保持されている。例えば、一対の前面側基板２２ａ及び背面側基板２２ｂの間隔（ギャップ）は、約１μｍ〜約１０μｍ程度に規定されている。

また、前面側基板２２ａは、背面側基板２２ｂの一端側から外側へ張り出してなる張り出し領域２４ｃを有する。この張り出し領域２４ｃは、実装端子形成領域として用いられる。前面側基板２２ａの前面側電極２６ａは、液晶層３２側から張り出し領域２４ｃにかけて延在するように形成されており、端子部パターン３３の一部を構成している。また、背面側基板２２ｂの背面側電極２６ｂは、図示しない導通部材を介して、張り出し領域２４ｃの端子部パターン３３に導電接続されている。端子部パターン３３は、液晶表示パネル２を電気的に駆動するために設けられる液晶駆動用ＩＣ（ドライバＩＣ）３６との間の電気的な接続を可能にする配線パターンである。本実施形態では、張り出し領域２４ｃに形成された端子部パターン３３には、液晶駆動用ＩＣ３６がＣＯＧ（Chip On Glass）実装されて、液晶表示パネル２と液晶駆動用ＩＣ３６とが電気的に接続されている。勿論、実装形態としては、ＣＯＧ実装以外にも、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）実装等の他の形態を採用することも可能である。

なお、この液晶表示パネル２の構成及び駆動方式には特に限定はない。したがって、この液晶表示パネル２は、パッシブマトリクス駆動方式又はアクティブマトリクス駆動方式のいずれであってもよく、また、液晶の配向形態も、ＴＮ型、ＶＡＮ型、ＳＴＮ型、強誘電型、反強誘定型等の種々の公知の形態を採り得る。また、本発明では、背面側基板２２ｂに反射性を有する反射膜を設けることにより、反射型の液晶表示パネルとして構成してもよく、更に、この反射膜に開口やスリット等を形成することにより、半透過反射型の液晶表示パネルとして構成してもよい。また、本発明では、前面側基板２２ａ及び背面側基板２２ｂのいずれか一方の基板に各色のカラーフィルタを設けることにより、カラー型の液晶表示パネルとして構成しても構わない。

（タッチパネルの構成）
次に、図１乃至図３を参照して、タッチパネルの構成について説明する。

図２（ａ）は、図１に示すタッチパネルの構造を示す分解斜視図である。図２（ｂ）は、図２（ａ）における切断線Ａ−Ａ’に沿ったタッチパネルの要部断面図である。図３（ａ）は、図１の下方からタッチパネルを観察したときの、その構成要素である前面側基板８ａの構成を示す平面図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）における切断線Ｂ−Ｂ’に沿った前面側基板８ａの要部断面図を示す。なお、図１及び図３において、領域Ａ１は入力に寄与する有効位置座標入力エリア（以下、「有効位置座標入力エリアＡ１」と呼ぶ）であり、その領域Ａ１の外側の領域Ａ２は入力に寄与しない非有効位置座標入力エリア（以下、「非有効位置座標入力エリアＡ２」と呼ぶ）である。

タッチパネル４は、観察側に配置された前面側基板８ａと、当該前面側基板８ａに対向配置された背面側基板８ｂとが枠状のシール材９を介して貼り合わされてなり、その枠状のシール材９で区画される領域内に屈折率調整用の液状材料１５が封入されてなる。

前面側基板８ａは、例えば硬質のガラス等の透光性を有する材料からなる基板本体１１ａを有する。液状材料１５と接触する側の基板本体１１ａの内面上には、矩形状の平面形状を有し、例えばＩＴＯ（比抵抗は約２×１０^−４[Ω・ｍ]程度）などに代表される透光性導電膜（透明導電膜）からなる、高抵抗化膜たる第１の面状電極１２ａが形成されている。第１の面状電極１２ａは、約５００Å程度の薄膜状に形成され、その面内全域でほぼ均一な面抵抗を備えている。第１の面状電極１２ａは、基板本体１１ａの内面上において、液晶表示パネル２の有効表示領域（表示に寄与する領域）に対応する範囲を覆う位置に形成されている。

有効位置座標入力エリアＡ１に設けられた第１の面状電極１２ａには、当該第１の面状電極１２ａの抵抗を大きくするように、矩形状の平面形状を有する複数の開口１２ａｂが適宜の間隔をおいて且つ行列状に設けられている。なお、本発明では、各開口１２ａｂは有効位置座標入力エリアＡ１に位置する第１の面状電極１２ａに複数設けられていればよく、各開口１２ａｂは、必ずしも有効位置座標入力エリアＡ１に位置する第１の面状電極１２ａに行列状に設けられている必要はない。各開口１２ａｂの大きさは、入力機器３等を用いて入力操作（押圧）を行った場合に、有効位置座標入力エリアＡ１内において位置座標が検出可能な大きさ、例えば入力機器３の入力側の先端部等より小さい大きさに形成されているのが好ましい。好適な例では、開口１２ａｂの大きさ、即ち、開口１２ａｂのＸ方向の距離ｄ１及びＹ方向の距離ｄ２は、約１０μｍ〜約１００μｍ、より好ましくは、約１０μｍ〜約５０μｍに設定されているのが好ましい。また、本例では、各開口１２ａｂは矩形状に形成されているが、本発明では、各開口１２ａｂの形状に特に限定はない。したがって、各開口１２ａｂの平面形状は、矩形、円、楕円、三角などの周知の平面形状を採用することが可能である。Ｘ方向に対応する、第１の面状電極１２ａの内面上の両端部には、帯状の形状を有する一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂが夫々設けられている。第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂは、導電性の高い金属薄膜、例えば金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、又はこれらの金属のうちのいずれか１種類以上の金属を含む合金によって形成され、第１の面状電極１２ａに比較して低抵抗化膜となっている。

一方、背面側基板８ｂは、例えば基板本体１１ａと同一の材料よりなる基板本体１１ｂを有する。液状材料１５と接触する側の基板本体１１ｂの内面上には、矩形状の平面形状を有し、例えば第１の面状電極１２ａと同一の材料よりなり、高抵抗化膜たる第２の面状電極１２ｂが形成されている。第２の面状電極１２ｂは、約５００Å程度の薄膜状に形成され、その面内全域でほぼ均一な面抵抗を備えている。第２の面状電極１２ｂは、前面側基板１１ｂの内面上において、液晶表示パネル２の有効表示領域（表示に寄与する領域）に対応する範囲を覆う位置に形成されている。Ｙ方向に対応する、第２の面状電極１２ｂ上の両端部には、帯状の形状を有する一対の第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂが夫々設けられている。一対の第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂは、例えば一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂと同様に、銀合金、アルミニウム、銅などの導電性の高い金属薄膜にて形成され、第２の面状電極１２ｂに比較して低抵抗化膜となっている。

本実施形態において、前面側基板８ａの外面側（観察面側）であって、液晶表示パネル２の有効表示領域に対応する領域が座標入力面（即ち、入力機器３や指等によって直接タッチパネル上の位置を押圧して入力操作を行なう面）である。

前面側基板８ａに形成された一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂは、夫々導通部材１７を介して、背面側基板８ｂに設けられた補助用配線１８に導電接続され、さらにその補助用配線１８を介して端子部１６に導電接続されている。補助用配線１８及び端子部１６は、例えば一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂと同一の材料により形成されている。本実施形態において、第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂ並びに補助用配線１８は配線部を構成し、Ｘ方向に位置する前面側基板８ａ及び背面側基板８ｂの両端部付近において、Ｙ方向に延在するように形成されている。

なお、本実施形態では、前面側基板８ａ及び背面側基板８ｂは夫々ガラス基板を用いているため、プラスチックフィルム基板を用いた従来のタッチパネルと異なり、高温の熱処理や強酸性のエッチング溶液を使用したエッチング処理が可能である。このため、本実施形態では、位置座標を検出するためのこれらの導電膜（第１の面状電極１２ａ、第２の面状電極１２ｂ、補助用配線１８、端子部１６等）を、いずれもスパッタ法又は蒸着法等の真空プロセスを用いて形成し、更にエッチング処理により第１配線１３ａ及び１４ａ、第２配線１３ｂ及び１４ｂ、並びに補助用配線１８及び端子部１６を細線化し、狭額縁化の配線部を形成している。

例えば、配線部にＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金であり、その比抵抗は約３.９×１０^−６[Ω・ｍ]程度である）を用いた場合、従来、銀ペーストで厚さ２０μｍ、線幅０.１ｍｍで作った配線部は、ＡＰＣでは厚さ０.２μｍ、線幅０.１ｍｍで作ることが可能となる。また、銅、アルミニウム、クロムの比抵抗は、それぞれ、約６×１０^−６[Ω・ｍ]、約６×１０^−６[Ω・ｍ]、約５×１０^−５[Ω・ｍ]程度であるため、これらの金属を用いても、線幅を従来に比べて１桁から２桁程度細くすることができる。図２（ｂ）に示すように、この例において、第２の面状電極１２ｂと第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂ並びに補助用配線１８は、ＩＴＯ等からなる透光性導電膜とＡｇ等からなる金属膜とを高温条件下で順次積層し、その後、金属膜と透光性導電膜とをこの順でエッチング処理することにより形成されている。このため、第２の面状電極１２ｂ並びに第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂは低抵抗且つ緻密な膜となり、また、これらの界面抵抗も低減される。なお、図２（ｂ）において、透光性導電膜１２ｃはエッチングされずに残った透光性導電膜を示している。

本実施形態において、前面側基板８ａ、背面側基板８ｂを夫々構成する基板本体１１ａ、１１ｂには、いずれも硬質のガラス基板が使用されている。通常、入力操作（押圧）が行なわれる前面側基板８ａには、入力時（押圧時）に基板の変形を必要とすることから、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）等のプラスチックフィルム基板が使われるが、このようなプラスチックフィルム基板は、入力時（押圧時）の荷重によって大きな撓みを生じるため、繰り返し入力を行なっているうちに、前面側基板８ａの内面側に形成した第１の面状電極１２ａ、第１配線１３ａ、第２配線１３ｂにクラックが入り、入力特性が劣化してしまうとう問題がある。一方、本実施形態のように前面側基板８ａをガラス基板とした場合には、このような問題が生じないが、硬質のガラス基板はプラスチックフィルム基板に比べて柔軟性が劣るため、入力時の荷重が小さいと、十分に入力を行うことができないという問題がおこる。そこで、この問題を解消するため、本実施形態では、前面側基板８ａの厚さを約０.１ｍｍ〜０.２ｍｍ程度まで薄くしている。

また、本実施形態では、上記したように、前面側基板８ａと背面側基板８ｂとにおいて、枠状のシール材９によって囲まれた空間には、屈折率調整用の液状材料１５か封入されている。この液状材料１５としては、ガラスとの屈折率差が空気よりも小さいシリコーンオイル等の液状材料を用いることが好ましい。このような液状材料を封入すると、液晶表示パネル２側から出射された光が背面側基板８ｂと前記空間との界面、或いは、前記空間と前面側基板８ａとの界面で反射しなくなり、明るい表示を実現することができる。また、一対の前面側基板８ａ及び背面側基板８ｂの間に液状材料１５を封入することによって、これが一種のクッションとして機能し、前面側基板８ａに対して衝撃が加わったときに、それを緩和することができる。

つまり、本実施形態では、前面側基板８ａの座標入力面を他の部分よりも薄くしているため、通常のものよりも機械的な衝撃に対して弱くなっているが、このような緩衝構造を設けてその部分を補強すれば、このような弱点を補うことができる。このクッションとしての機能を考慮した場合には、液状材料１５の粘度は２ｍｍ^２／ｓ〜５０００ｍｍ^２／ｓの範囲であることが好ましい。同様の趣旨で、一対の前面側基板８ａ及び背面側基板８ｂの間に緩衝部材を設置しても良い。この緩衝部材としては、シリコーンやウレタン等の柔らかい材料｛例えば、弾性率が１×１０^４（Ｎ／ｍ^２）〜１×１０^８（Ｎ／ｍ^２）の範囲のもの）を用いることが好ましい。この緩衝構造は、前面側基板８ａ、背面側基板８ｂのギャップを制御するためのスペーサとして兼用することができる。

以上の構成を有する、タッチパネル４と液晶表示パネル２とは、透光性を有する弾性体（例えば、ガラスとの屈折率差が空気よりも小さいシリコンゲル、アクリルゲル、ウレタンゲル、ウレタンゴム等の透光性を有する弾性体）を含む接着剤５０によって光学接着されている。そして、そのように光学接着されたタッチパネル４及び液晶表示パネル２は、図示しないベゼル等のケース体の内部に収容されている。

このように一体化されたタッチパネル４及び液晶表示パネル２の上下の外面（即ち、タッチパネル４の前面側基板８ａの観察側の面、及び液晶表示パネル２の背面側基板２２ｂの観察側とは反対側の面）には、それぞれ偏光板（第１の光学フィルム）６ａ、及び偏光板（第２の光学フィルム）６ｂが配置されている。すなわち、本実施形態の液晶表示装置１は、タッチパネル４と液晶表示パネル２とを一体化し、これを一対の偏光板６ａ、６ｂによって狭持した、いわゆるインナータイプの液晶表示装置である。なお、この例では、光学フィルムとして偏光板６ａ及び偏光板６ｂのみを設けることとしたが、円偏光モードを採用する場合には、更に、第３の光学フィルムとして１／２波長板や１／４波長板等の位相差板を設置することもできる。ただし、タッチパネル４の前面側基板８ａの外面上に偏光板（第１の光学フィルム）６ａと位相差板（第３の光学フィルム）とを積層した場合には、これらの光学部材の総厚が大きいと、入力時の押圧力が座標入力面に十分に伝わらなくなるため、このような場合には、前面側偏光板６ａと位相差板とをタッチパネル４の上下に貼り分ける（即ち、第１の光学フィルムである前面側偏光板６ａをタッチパネル４の前面側基板８ａの外面上に配置し、第２の光学フィルムである位相差板をタッチパネル４と液晶表示パネル２との間に配置する）ことが好ましい。こうすることによって、入力操作が行ない易くなる。

（タッチパネルの位置座標検出方法）
次に、図４及び図５を参照して、タッチパネル４の位置座標検出方法について説明する。

図４及び図５は、タッチパネル４の位置座標検出の原理を説明する当該タッチパネル４の模式的回路図を示す。図４は、Ｘ軸側の位置座標読取りパネル（前面側基板８ａ）に電圧を印加した状態を示す。一方、図５は、Ｙ軸側の位置座標読取りパネル（背面側基板８ｂ）に電圧を印加した状態を示す。

図４及び図５において、前面側基板８ａはＸ軸側の位置座標読取りパネルであり、上記したように第１の面状電極１２ａと、そのＸ方向両端部の対向する２辺に設けられた一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂとが主要構成部品として構成されている。一方、背面側基板８ｂはＹ軸側の位置座標読取りパネルであり、第２の面状電極８ｂと、そのＹ方向両端部の対向する２辺に設けられた第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂとが主要構成部品として構成されている。タッチパネル４の背面側基板８ｂに設けられた端子部１６は、更に、前面側基板８ａの第１配線１３ａと電気的に接続された第１端子部１６ａ、前面側基板８ａの第２配線１３ｂと電気的に接続された第２端子部１６ｂ、背面側基板８ｂの第１配線１４ａと電気的に接続された第３端子部１６ｃ、及び、背面側基板８ｂの第１配線１４ｂと電気的に接続された第４端子部１６ｄを有する。端子部１６は、入力制御回路６０内のスイッチング回路５０と接続されている。

スイッチング回路５０は、スイッチＳＷ１〜ＳＷ３を有し、定電圧を供給する定電圧電源Ｖｃｃ及び接地用端子（ＧＮＤ）に接続されている。スイッチＳＷ３と接地用端子（ＧＮＤ）の間には電圧計５１が設けられている。なお、本発明では、入力制御回路６０の構成に限定はなく、周知の様々な入力制御回路を採用し得る。

ここで、Ｘ軸側の位置座標入力を読み取る場合、スイッチＳＷ１及びＳＷ２は、図４に示すように、前面側基板８ａの第１配線１３ａ、第２配線１３ｂ及び第１の面状電極１２ａと、端子部１６ａと、端子部１６ｂとを端子Ｘ１及びＸ２を通じて直列接続すると共に、スイッチＳＷ３は端子部１６ｄに接続された端子Ｅ１と電圧計５１とを導電接続する。これにより、Ｘ軸側の位置座標入力を読み取ることが可能となる。一方、Ｙ軸側の位置座標入力を読み取る場合、スイッチＳＷ１及びＳＷ２は、図５に示すように、背面側基板８ｂの第１配線１４ａ、第２配線１４ｂ及び第２の面状電極１２ｂと、端子部１６ｃと、端子部１６ｄとを端子Ｙ１及びＹ２を通じて直列接続すると共に、スイッチＳＷ３は端子部１６ｂに接続された端子Ｅ２と電圧計５１とを接続する。これにより、Ｙ軸側の位置座標入力を読み取ることが可能となる。

次に、具体的な、タッチパネル４の位置座標検出原理について説明する。

まず、図４及び図５において、タッチパネル４を構成する可撓性のある前面側基板８ａの座標入力面を、図中の入力点Ｐで示す位置を入力機器３の先端で押圧すると、前面側基板８ａが背面側基板８ｂに接近する方向に撓んで第１の面状電極１２ａが背面側基板８ｂの第２の面状電極１２ｂに接触し、その接触位置において電気的な導通が行われる。

例えば、図４に示すように、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルである前面側基板８ａに定電圧電源Ｖｃｃを介して電圧を印加した状態で、入力点Ｐの位置を入力機器３の先端で押圧すると、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルである前面側基板８ａの接触点Ｐｘと、Ｙ軸側の位置座標読取りパネルである背面側基板８ｂの接触点Ｐｙで電圧が対面するＹ軸側の位置座標読取りパネルである背面側基板８ｂ側に分圧して電流が流れる。このとき、背面側基板８ｂ側の抵抗ＹＲ２が電圧計５１の内部抵抗値に比べて非常に小さく無視できる値であるので、電圧計５１には前面側基板８ａ側の抵抗ＸＲ２に対する電圧値が示される。

次に、図５に示すように、スイッチＳＷ１〜ＳＷ３を切り替えてＹ軸側の位置座標読取りパネルである背面側基板８ｂに定電圧電源Ｖｃｃを介して電圧を印加すると、接触点Ｐｙの電圧が接触点ＰｘでＸ軸の位置座標読取りパネルである前面側基板８ａ側に分圧して電流が流れる。このとき、前面側基板８ａ側の抵抗ＸＲ２が電圧計５１の内部抵抗値に比べて非常に小さく無視できる値であるので、電圧計５１には背面側基板８ｂ側の抵抗ＹＲ２に対する電圧値が示される。

このように、押圧部位である入力点ＰにおけるＸ軸側の位置座標読取りパネル（前面側基板８ａ）、及び、Ｙ軸側の位置座標読取りパネル（背面側基板８ｂ）の電圧値を夫々検出して、この電圧値を印加電圧との比から入力点ＰのＸ軸及びＹ軸の位置座標が夫々算出される。

次に、比較例と比較した、本発明に係る実施形態の特有の作用効果について説明する。

まず、図６を参照して比較例の構成等について説明する。なお、比較例において、本実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は簡略化又は省略する。

図６は、本実施形態に係るタッチパネル４の前面側基板８ａに相当する、比較例に係るＸ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ｘの平面図である。

本実施形態に係る前面側基板８ａと、比較例に係る前面側基板８ｘとを比較した場合、本実施形態では、第１の面状電極１２ａには、当該第１の面状電極１２ａの抵抗を大きくするように複数の開口１２ａｂが設けられていたのに対して、比較例では、第１の面状電極１２ａには開口１２ａｂは設けられていない。それ以外の点は、比較例と本実施形態とは同様の構成を有する。

以上の構成を有する比較例では、次のような不具合が生じる。

Ｘ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ｘにおいて、Ｘ軸側の座標位置を検出するための配線部の構成要素（即ち、一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂ、並びに補助用配線１８及び端子部１６）は、いずれもスパッタ法又は蒸着法等の真空プロセスを用いて形成され、更にエッチング処理により薄膜状に形成され且つ細線化されている。例えば、その配線部の形成材料としてＡＰＣを用いる場合には、その配線部は、厚さ０.２μｍ、線幅０.１ｍｍで形成される。

このように配線部が薄膜状に形成され且つ細線化されると、入力部たる端子部Ｘ１及びＸ２側からの距離に応じて、その配線部の引き回し抵抗が大きくなってしまい、そのため電圧降下（電圧ロス）も大きくなってしまう。また、これにより、低抵抗化膜たる一対の第１配線１３ａ及び１３ｂの抵抗値と、高抵抗化膜たる第１の面状電極１２ａの抵抗値との相対的な大きさも小さくなる。これらにより、図６において電源入力部（即ち、接地用の端子部Ｘ１及び電源Ｖｃｃが供給される端子部Ｘ２）側からＹ方向への各位置での引き回し抵抗体（配線部と第１の面状電極１２ａとを含む抵抗体）の距離（ｍｍ）と、その引き回し抵抗体に印加される電圧（Ｖ）との直線的な関係であるリニアリティ特性の直線性（精度）が悪くなり、Ｘ軸側の位置座標の検出精度が低下して、その正確な位置座標を検出することができなくなってしまうという問題を有する。この点について図６及び図７を参照して更に説明する。

図７は、比較例に係る、入力部たる端子部Ｘ１及びＸ２側からＹ方向への所定位置での、引き回し抵抗体の距離（ｍｍ）と、その引き回し抵抗体に印加される電圧（Ｖ）との直線的な関係（リニアリティ特性）を示すグラフである。図７の横軸において、位置Ｌｓは図６の第１配線１３ａの位置を、また、位置Ｌｅは図６の第２配線１３ｂの位置を、さらに、位置Ｌｍは図６のＸ方向における第１配線１３ａと第２配線１３ｂの中央位置を夫々示す。また、図７の縦軸において、電圧Ｖｓは位置Ｌｓでの引き回し抵抗体の電圧値を、また、電圧Ｖｅは位置Ｌｅでの引き回し抵抗体の電圧値を、さらに、電圧値Ｖｎは位置Ｌｍでの引き回し抵抗体の電圧値を夫々示す。

Ｘ軸側の正確な位置座標を検出するためには、引き回し抵抗体のリニアリティ特性は、破線グラフＧ１に示すように直線性を有するのが理想である。しかし、比較例では、配線部は薄膜状に形成され且つ細線化され、さらに低抵抗化膜たる一対の第１配線１３ａ及び１３ｂの抵抗値と、高抵抗化膜たる第１の面状電極１２ａの抵抗値との相対的な大きさが小さくなっているので、その引き回し抵抗体のリニアリティ特性は、実線グラフＧ２に示すように非直線的になり、位置Ｌｍでは電圧変動ΔＶが生じている。ここで、ΔＶ（％）＝｛｜Ｖｍ−Ｖｎ｜／（Ｖｅ−Ｖｓ）｝×１００であり、最大でΔＶ＝±１.５％である。このため、比較例では、等電位線ＥＬは、図６に示すように斜め方向に湾曲した状態となり、Ｘ軸側の正確な位置座標を検出することが困難となっている。

このような問題を改善する方法としては、配線部の厚さを厚くし且つ配線部の線幅を太くすることにより当該配線部の引き回し抵抗を小さくする、或いは、第１の面状電極１２ａに当該第１の面状電極１２ａの抵抗を大きくするように開口を形成して、第１の面状電極の断面積｛第１の面状電極１２ａの厚さ（膜厚）と、第１の面状電極１２ａ電流の進行方向であるＹ方向の第１の面状電極１２ａの長さとの積、以下同様｝を小さくして当該第１の面状電極１２ａの抵抗値を大きくするなどの方法が考えられる。しかし、現実的な問題として、前者のように配線部の厚さを厚くし且つ配線部の線幅を太くすることにより、当該配線部の引き回し抵抗を小さくする方法だけでは、リニアリティ特性の直線性（精度）を改善するのにある程度限界がある。

そこで、本実施形態では、有効位置座標入力エリアＡ１内における第１の面状電極１２ａに当該第１の面状電極１２ａの抵抗を大きくするように開口１２ａｂを設けることにより、第１の面状電極１２ａの抵抗値を大きくして、低抵抗化膜たる一対の第１配線１３ａ及び１３ｂの抵抗値と、高抵抗化膜たる第１の面状電極１２ａの抵抗値との相対的な大きさを大きくする。よって、必要に応じて、開口１２ａｂの設定数やその大きさ等を変えることで、引き回し抵抗体の抵抗値の大きさを自由に調整することが可能となり、そのリニアリティ特性の精度（直線性）を向上させることが可能となる。よって、本実施形態では、図６において比較例に係る実線で示す等電位線ＥＬの状態を、破線で示す斜めの等電位線ＥＬｘの状態とすることができる結果、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ａにおいてＸ軸側の位置座標の検出精度が向上し、その正確な位置座標を検出することが可能となる。

好適な例では、各開口１２ａｂは、有効位置座標入力エリアＡ１内において第１の面状電極１２ａに一定の間隔をおいて且つ行列状に設けられているのが好ましい。また、各開口１２ａｂの大きさは、入力機器３等を用いて入力操作を行った場合に、有効位置座標入力エリアＡ１内において位置座標が検出可能な大きさ、例えば入力機器３の入力側の先端部等より小さい大きさに形成されているのが好ましい。そのため、各開口１２ａｂの大きさ、即ち、開口１２ａｂのＸ方向の距離ｄ１及びＹ方向の距離ｄ２は、約１０μｍ〜約１００μｍ、より好ましくは、約１０μｍ〜約５０μｍに設定されているのが好ましい。また、各開口１２ａｂの平面形状は、矩形、円、楕円、三角などの周知の各種の平面形状を採用することができる。

また、本実施形態では、第１の面状電極１２ａｂに開口１２ａｂを設けることによる副次的な効果として、開口１２ａｂの位置には第１の面状電極１２ａが存在しないので、その分だけ透過率の向上を図ることができる。

なお、上記の例では、上記した不具合を改善するため、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ａの第１の面状電極１２ａに当該第１の面状電極１２ａの抵抗を大きくするように開口１２ａｂを設けるように構成したが、これに代え又はこれと共に、本発明では、Ｙ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ｂの第２の面状電極１２ｂに当該第２の面状電極１２ｂの抵抗を大きくするように開口を設けるようにして、上記の原理に基づきＹ軸側の正確な位置座標を検出するように構成しても構わない。この場合、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ａにおいて第１の面状電極１２ａに設ける各開口１２ａｂと、Ｙ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ｂの第２の面状電極１２ｂに設ける各開口との相対的な位置、大きさ、形状等は、同一又は非同一であっても構わない。

（応用例１）
次に、図８を参照して、本実施形態の応用例１について説明する。図８は、図３（ｂ）に対応する前面側基板８ａの断面図を示す。なお、図８において、上記した本実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。

上記の実施形態では、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ａにおいて、有効位置座標入力エリアＡ１内における第１の面状電極１２ａに複数の開口１２ａｂを設けた。そのため、有効位置座標入力エリアＡ１内の第１の面状電極１２ａは凹凸形状を有している。このため、各開口１２ａｂのある位置と各開口１２ａｂのない位置とでの相対的な透過率が異なってきてしまい、表示上の見栄えが変わってきてしまうという問題がある。したがって、このような問題を改善するためには、有効位置座標入力エリアＡ１内における複数の開口１２ａｂを有する第１の面状電極１２ａをできる限り平坦化することが望ましい。

そこで、応用例１では、図８に示すように、第１の面状電極１２ａの各開口１２ａｂに対応する位置に且つ重なる位置に、例えば透明アクリル樹脂等の透光性を有する材料よりなるフォトスペーサ７０を設け、各開口１２ａｂの位置と各開口１２ａｂのない位置とをできる限り平坦化するようにしている。但し、本発明では、全ての開口１２ａｂに対応する位置に且つ重なる位置にフォトスペーサ７０を設けることは必須ではなく、少なくとも１つの開口１２ａｂに対応する位置にフォトスペーサ７０を設ければよい。なお、フォトスペーサ７０は、既知の印刷法又はフォトリソグラフィー法を用いて形成することが可能である。これにより、各開口１２ａｂのある位置と各開口１２ａｂのない位置とで透過率をある程度揃えることができ、表示上の見栄えが変わってきてしまうのを防止できる。

（応用例２）
次に、図９（ａ）〜図９（ｃ）を参照して、本実施形態の応用例２について説明する。図９（ａ）は、図３（ａ）の破線領域Ａ１０に対応する、応用例２に係る１つの態様に係る前面側基板８ａの部分平面図を示す。図９（ｂ）は、図３（ａ）の破線領域Ａ１０に対応する、応用例２に係る他の態様に係る前面側基板８ａの部分平面図を示す。図９（ｃ）は、図３（ａ）の破線領域Ａ１０に対応する、応用例２に係る更に他の態様に係る前面側基板８ａの部分平面図を示す。なお、図９（ａ）〜図９（ｃ）において、上記した本実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。

上記の本実施形態では、有効位置座標入力エリアＡ１内における第１の面状電極１２ａに当該第１の面状電極１２ａの抵抗を大きくするように複数の開口１２ａｂを設け、低抵抗化膜たる一対の第１配線１３ａ及び１３ｂの抵抗値と、高抵抗化膜たる第１の面状電極１２ａの抵抗値との相対的な大きさを大きくして、引き回し抵抗体のリニアリティ特性の精度（直線性）を向上させ、図６において比較例に係る実線で示す等電位線ＥＬの状態を、破線で示す斜めの等電位線ＥＬｘの状態とした。これにより、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ａにおいてＸ軸側の位置座標の検出精度を向上し、その正確な位置座標を検出するようにした。

しかし、かかる構成に比べてより一層、Ｘ軸側の位置座標の検出精度を向上するためには、かかる等電位線ＥＬｘは第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂと平行な方向に延在している状態となっていることが必要である。

そこで、かかる目的を達成するため、上記した本実施形態の構成を前提としつつ、非有効位置座標入力エリアＡ２に設けられた第１の面状電極１２ａにも複数の開口１２ａｂを設ける。具体的には、応用例１に係る一つの態様では、上記した本実施形態の構成を前提としつつ、図９（ａ）に示すように、非有効位置座標入力エリアＡ２であって、第１配線１３ａ、及び第２配線１３ｂ（図示略）の近傍に位置する第１の面状電極１２ａにも開口１２ａｃを設け、その開口１２ａｃの粗密を変える。そこで、開口１２ａｃの数は、電源供給側である端子部１６側に位置する第１配線１３ａの一端側１３ａｓから他端側１３ａｅに向かって漸次減少するように設定されていると共に、電源供給側である端子部１６側に位置する第２配線１３ｂ（図示略）の一端側から当該一端側と逆側に位置する他端側に向かって漸次減少するように設定されている。換言すれば、開口１２ａｃは、開口１２ａｃ同士のピッチが電源供給側である端子部１６側に位置する第１配線１３ａの一端側１３ａｓから他端側１３ａｅへ向かうに従って漸次減少するように、即ち開口１２ａｃが密から粗に配置されるように形成すると共に、図示を省略するが、開口１２ａｃ同士のピッチが電源供給側である端子部１６側に位置する第２配線１３ｂの一端側から、その逆側である他端側へ向かうに従って漸次減少するように、即ち開口１２ａｃが密から粗に配置されるように形成する。換言すれば、第１の面状電極１２ａにおける所定の面積に占める開口１２ａｃの個数が、第１配線１３ａの一端側１３ａｓから他端側１３ａｅへ向かうに従って漸次（又は段階的に）減少するように開口１２ａｃが配置されていると共に、第１の面状電極１２ａにおける所定の面積に占める開口１２ａｃの個数が、図示を省略するが、第２配線１３ｂの一端側から他端側へ向かうに従って漸次（又は段階的に）減少するように開口１２ａｃが配置されている。

なお、本発明では、開口１２ａｃの数は、電源供給側である端子部１６側に位置する第１配線１３ａの一端側１３ａｓから他端側１３ａｅに向かって段階的に減少するように設定され、さらに、開口１２ａｃの数は、電源供給側である端子部１６側に位置する第２配線１３ｂ（図示略）の一端側から当該一端側と逆側に位置する他端側に向かって段階的に減少するように設定されていても構わない。これにより、非有効位置座標入力エリアＡ２において、電源供給側である端子部１６側からその反対側にかけて第１の面状電極１２ａの抵抗値を均一化でき、Ｘ軸側の位置座標読取りパネルたる前面側基板８ａにおいて等電位線ＥＬｘの延在方向を第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂと平行な方向に補正（設定）することができる。よって、上記した本実施形態と比べてより一層、Ｘ軸側の位置座標の検出精度を向上させることができる。

なお、かかる構成だけで本発明の作用効果を得ることも可能であり、その場合、本発明では、図１０（ａ）に示すように、有効位置座標入力エリアＡ１内の第１の面状電極１２ａに複数の開口１２ａｂを設けない構成も採用し得る。

また、これに代えて、上記の目的を達成するため、応用例１に係る他の態様では、上記した本実施形態の構成を前提としつつ、図９（ｂ）に示すように、非有効位置座標入力エリアＡ２であって、第１配線１３ａ、及び第２配線１３ｂ（図示略）の近傍に位置する第１の面状電極１２ａにも開口１２ａｃを設け、その開口１２ａｃの大きさを変える。開口１２ａｃの大きさは、電源供給側である端子部１６側に位置する第１配線１３ａの一端側１３ａｓから他端側１３ａｅへ向かうに従って開口１２ａｃの大きさが小さくなるように（又は段階的に小さくなるように）形成すると共に、図示を省略するが、電源供給側である端子部１６側に位置する第２配線１３ｂの一端側から、その逆側である他端側へ向かうに従って開口１２ａｃの大きさが小さくなるように（又は段階的に小さくなるように）形成する。これにより、上記した応用例１に係る一つの態様と同様の作用効果を得ることができる。

なお、かかる構成だけで本発明の作用効果を得ることも可能であり、その場合、本発明では、図１０（ｂ）に示すように、有効位置座標入力エリアＡ１内の第１の面状電極１２ａに複数の開口１２ａｂを設けない構成も採用し得る。

また、これに代えて、上記の目的を達成するため、応用例１に係る更に他の態様では、上記した本実施形態の構成を前提としつつ、図９（ｃ）に示すように、非有効位置座標入力エリアＡ２であって、電源供給側である端子部１６側に位置する第１配線１３ａの一端側１３ａｓから他端側１３ａｅへ向かうに従って、当該第１配線１３ａのＸ方向の幅が漸次大きくなるように（又は段階的に大きくなるように）形成すると共に、図示を省略するが、電源供給側である端子部１６側に位置する第２配線１３ｂの一端側から、その逆側である他端側へ向かうに従って、当該第２配線１３ｂのＸ方向の幅が漸次大きくなるように（又は段階的に大きくなるように）形成する。これにより、電源供給側である端子部１６側からその反対側にかけて一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂの抵抗値を均一化でき、上記した応用例１に係る一つの態様と同様の作用効果を得ることができる。

なお、かかる構成だけで本発明の作用効果を得ることも可能であり、その場合、本発明では、図１０（ｃ）に示すように、有効位置座標入力エリアＡ１内の第１の面状電極１２ａに複数の開口１２ａｂを設けない構成も採用し得る。

また、本発明では、上記した応用例２に係る一つの態様及び他の態様において、開口１２ａｃの平面形状及び設定位置などに限定はなく、また、上記した応用例２に係る更に他の態様においても、第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂの平面形状に特に限定はない。

[変形例]
次に、図１１を参照して、変形例に係る液晶表示装置１１１の構成等について説明する。図１１は、図１に対応する、変形例に係る液晶表示装置１１１の断面図を示す。

図１において、上記した本実施形態のように液晶表示パネル２の前面側（観察側）にタッチパネル４を設置した構成では、タッチパネル４の表面を指や入力機器３で押圧して入力操作を行なうときに、液晶表示パネル２の表示に歪みが生じることがある。これは、入力時の押圧力によってタッチパネル４に局所的な変形が生じ、この変形によって、タッチパネル４の背面側に設けられた液晶表示パネル２の前面側基板２２ａに僅かではあるが僥みが発生してしまうことによる。つまり、液晶表示パネル２のギャップは高々約１μｍ〜約１０μｍ程度であるので、前面側基板２２ａの僥みが僅かであっても、この僥みが液晶表示パネル２のギャップを局所的に大きな比率で変動させることになり、その結果、表示に干渉縞のような歪みが生じるのである。このような問題は、液晶表示パネル２の背面側基板２２ｂの厚さを十分に薄くすることで解消することができる。

例えば、背面側基板２２ｂの厚さを約０.１ｍｍ〜約０.４ｍｍ程度にまで薄くして基板を撓み易くした場合には、前述のように液晶表示パネル２の前面側基板２２ａに撓みが生じても、それに追従して背面側基板２２ｂも撓み、ギャップは殆ど変動しなくなる。しかし、このように基板を薄くしてしまうと、基板の取り扱いが難しくなり、製造工程中に基板の割れ等を生じる場合がある。また、機械的衝撃に対して弱くなるため、携帯用途で用いる場合には、落下等による破損の問題も生じる。このように、基板の取り扱い性や耐衝撃性の面では、基板は厚いほど好ましく、表示品質の面では、基板は薄いほど好ましい。 そこで、変形例では、この双方の要求を満たすために、前面側基板２２ａに厚板のガラス基板を用いて取り扱い性等を向上し、その一方で、背面側基板２２ｂの表示を行なう部分には図１１に示すように基板本体２４ｂに凹部（薄板領域）２４ｂａを形成して薄板化し、入力時の前面側基板２２ａの変形に対して追従できるような構成としている。また、変形例では、前面側基板２２ａ及び背面側基板２２ｂ（凹部２４ｂａを形成しない部分）の基板の厚さを例えば約０.５ｍｍ程度としており、背面側基板２２ｂの凹部２４ｂａの形成された部分の基板の厚さを約０.１ｍｍ〜約０.４ｍｍ程度としている。

また、上記した本実施形態のタッチパネル４において、前面側基板８ａを構成する基板本体１１ａには、硬質のガラス基板が使用されている。硬質のガラス基板はプラスチックフィルム基板に比べて柔軟性が劣るため、入力時の荷重が小さいと、十分に入力を行なうことができないという問題がある。そこで、上記した本実施形態では、前面側基板８ａの厚さを約０.１ｍｍ〜約０．２ｍｍ程度にまで薄くしている。

しかしながら、このように基板を薄くしてしまうと、基板の取り扱いが難しくなり、上記したような問題が生じる。このように、ガラス基板を用いる場合には、基板の取り扱い性や入力装置の耐久性、耐衝撃性の面では、基板は厚いほど好ましく、入力のし易さや検出精度の面では、基板は薄いほど好ましい。そこで、変形例では、この双方の要求を満たすために、前面側基板８ａ及び背面側基板８ｂの厚さを約０.５ｍｍ程度とし、その一方で、少なくとも前面側基板８ａの基板本体１１ａの座標入力を行なう部分には図１１に示すような凹部（薄板領域）１１ａｂを形成して薄板化し、その凹部１１ａｂが形成された部分の基板の厚さを約０.１ｍｍ〜約０.２ｍｍ程度としている。

このように、変形例では、前面側基板８ａ（凹部１１ａｂを形成しない部分）及び背面側基板８ｂの基板の厚さを、液晶表示パネル２の前面側基板２２ａ及び背面側基板２２ｂの厚さと同程度の厚さとしている。前述のように、本実施形態のタッチパネル４は、２枚のガラス基板をシール材９によって一体化した構造を有するため、基本的には液晶表示パネル２を製造するのと同じ方法で製造することが可能である。このため、タッチパネル４の一対の前面側基板８ａ及び背面側基板８ｂの厚さを液晶表示パネル２の一対の前面側基板２２ａ及び背面側基板２２ｂの厚さと略同じ厚さとすれば、タッチパネル４の製造ラインを液晶表示パネル２の製造ラインと共通化することが可能になるという利点がある。

また、変形例では、偏光板６ａ及び６ｂのうち、タッチパネル４の観察側に設けられた偏光板６ａは、前面側基板８ａに形成された凹部１１ａｂ内に設置されている一方、液晶表示パネル２の観察側とは反対側に設けられた偏光板６ｂは、背面側基板２２ｂに形成された凹部２４ｂａ内に設置されている。このように、変形例では、偏光板６ａ及び６ｂを前面側基板８ａ及び背面側基板２２ｂの凹部１１ａｂ及び２４ｂａに夫々配置しているため、その分、液晶表示装置１１１を薄型化することができる。

なお、図１１では、光学フィルムとして偏光板６ａ及び偏光板６ｂのみ示したが、円偏光モードを採用する場合には、更に、光学フィルムとして１／２波長板や１／４波長板等の位相差板を設置することもできる。位相差板を設置する場合には、偏光板６ａ及び６ｂと同様に、これらを基板の凹部１１ａｂ及び２４ｂａに配置することが好ましい。ただし、タッチパネル４の前面側基板８ａに偏光板（第１の光学フィルム）６ａと位相差板（第２の光学フィルム）とを積層した場合には、これらの光学部材の総厚が大きいと、入力時の押圧力が座標入力面に十分に伝わらなくなるため、このような場合には、偏光板６ａと位相差板とをタッチパネル４の上下に貼り分ける（即ち、第１の光学フィルムである偏光板６ａをタッチパネル４の前面側基板８ａの凹部１１ａｂ内に配置し、第２の光学フィルムである位相差板をタッチパネル４と液晶表示パネル２との間に配置する）ことが好ましい。こうすることによって、入力操作を行ない易くなる。

また、上記の各実施形態等では、第１の面状電極１２ａに開口１２ａｂが等間隔でマトリクス状に配置される構成について説明した。しかし、本発明では、リニアリティ特性の直線性を向上できるのであれば、有効位置座標入力エリアＡ１内におけるランダムな位置に開口１２ａｂが配置されても良い。

また、本発明では、開口１２ａｂ及び／又は開口１２ａｃは、当該開口１２ａｂ及び／又は開口１２ａｃの底部に第１の面状電極１２ａの一部が残るような形状でも良い。

なお、上記の本実施形態、各種の応用例及び変形例に夫々示したタッチパネルや液晶表示パネルの構成は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々の変更が可能である。また、本発明の液晶表示装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、本発明では、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。

[液晶表示装置の製造方法]
次に、上記の適当な図面、及び、図１２乃至図１５を参照して、本実施形態に係る液晶表示装置１等の製造方法について説明する。

図１２は、本実施形態に係る液晶表示装置１等の製造方法のフローチャートを示す。図１３は、図１２の工程Ｓ１に対応する、タッチパネル４の製造方法のフローチャートを示す。図１４及び図１５は、図１３に対応するタッチパネル４の製造工程を示す。なお、図１４及び図１５では、便宜上、後述のタッチパネル形成領域に対応する、タッチパネル４の構成要素のみ示す。

まず、タッチパネル４を作製する（工程Ｓ１）。その製造方法では、複数のタッチパネル４が形成されるべき領域（以下、「タッチパネル形成領域」と称する）を有する大面積のマザー基板を用いて、その複数のタッチパネル４を一括して形成し、その後、その各領域を切断することによって個々のタッチパネル４を作製する方法を採用する。

具体的には、まず、図１４（ａ）に示すように、複数のタッチパネル形成領域を含み前面側基板８ａとなる第１のマザー基板１０１ａを用意する。ここで、第１のマザー基板１０１ａとしては、厚さが約０.５ｍｍ程度の厚板のガラス基板を用いる。

次に、図１４（ａ）に示すように、第１のマザー基板１０１ａ上に高抵抗膜であるＩＴＯ等の透光性導電膜１２ａｘをスパッタ法又は蒸着法により形成し、続いて、透光性導電膜１２ａｘ上に低抵抗膜である銀等の金属膜１３ｘをスパッタ法又は蒸着法により形成する（工程Ｐ１）。次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、上層側の金属膜１３ｘをエッチングして、図１４（ｂ）、図２（ａ）及び図３に示すように、第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂの形状にパターニングする（工程Ｐ２）。これにより、非有効位置座標入力エリアＡ２に対応する位置に第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂが夫々形成される。また、工程Ｐ２では、必要に応じて、図９（ｃ）に示すように、第１配線１３ａ（及び／又は第２配線１３ｂ）の形状を、上記した応用例２に係る更に他の態様の形状のように形成しても構わない。

次に、図１４（ｃ）に示すように、第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂの下層側に配置された透光性導電膜１２ａｘをエッチングして第１の面状電極１２ａの形状にパターニングすると共に、有効位置座標入力エリアＡ１内に位置する第１の面状電極１２ａに当該第１の面状電極１２ａの抵抗を大きくするように複数の開口１２ａｂを形成する（工程Ｐ３）。これにより、第１の面状電極１２ａが形成され、さらに有効位置座標入力エリアＡ１内に位置する第１の面状電極１２ａに複数の開口１２ａｂが形成される。なお、各開口１２ａｂの形状及び大きさ、並びに各開口１２ａｂの間隔などは上記した実施形態の構成を採用することができる。また、工程Ｐ３では、必要に応じて、図９（ａ）及び図９（ｂ）に夫々示すように、非有効位置座標入力エリアＡ２に対応する透光性導電膜１２ａｘに、上記した応用例２に係る一つの態様及び他の態様で開口１２ａｃを形成するようにしても構わない。

次に、図８に示すように、必要に応じて、印刷法又はフォトリソグラフィー技術を用いて、第１の面状電極１２ａ上にアクリル樹脂などの透光性材料を塗布し、その後、その透光性材料をエッチングして第１の面状電極１２ａの複数の開口１２のうち、少なくとも１つの開口１２ａｂに対応する位置にフォトスペーサ７０を形成する（工程Ｐ４）。なお、本発明では、第１のマザー基板１０１ａ上に、アクリル樹脂などの透光性材料を塗布し、その後、透光性材料上に透光性導電膜１２ａｘを形成し、その後、金属膜１３ｘを形成し、その後、上記した方法で第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂ、第１の面状電極１２ａ等を順次形成し、さらに、フォトリソグラフィー技術等を用いて、第１の面状電極１２ａの各開口１２ａｂが形成されるべき位置に且つ重なる位置にフォトスペーサ７０を形成するようにしても構わない。

以上のようなプロセスを採用することで、第１の面状電極１２ａ及び第２の面状電極１２ｂと、第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂ並びに補助用配線１８により構成される配線部との界面抵抗の小さい膜構造を得ることができ、更にフォトリソグラフィー技術によって狭額縁の配線部を形成することが可能になる。

また、上記同様の作製方法により対向側基板も作製する。

具体的には、図１４（ａ）に示すように、複数のタッチパネル形成領域を含み前面側基板８ｂとなる第２のマザー基板１０１ｂを用意する。ここで、第２のマザー基板１０１ｂとしては、厚さが約０．５ｍｍ程度の厚板のガラス基板を用いる。また、一対の第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂの厚さが夫々異なると、後述する図１３の工程Ｒ４においてそれらの基板を切断するときに応力が分散してうまく切断できなくなるため、第２のマザー基板１０１ｂの厚さは、第１のマザー基板１０１ａの厚さと略同じ厚さとする。

次に、図１４（ａ）に示すように、第２のマザー基板１０１ｂ上に高抵抗膜であるＩＴＯ等の透光性導電膜１２ｂｘをスパッタ法又は蒸着法により形成し、続いて、透光性導電膜１２ｂｘ上に低抵抗膜である銀等の金属膜１４ｘをスパッタ法又は蒸着法により形成する（工程Ｑ１）。次に、フォトリソグラフィー技術を用いて、上層側の金属膜１４ｘをエッチングして、図１及び図２（ａ）に示すように、第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂの形状にパターニングする（工程Ｑ２）。これにより、非有効位置座標入力エリアＡ２に対応する位置に第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂが夫々形成される。また、工程Ｑ２では、図２（ａ）に示すように、補助用配線１８及び端子部１６も形成する。また、工程Ｑ２では、必要に応じて、図９（ｃ）に示すように、第１配線１４ａ（及び／又は第２配線１４ｂ）の形状を、上記した応用例２に係る更に他の態様の形状のように形成しても構わない。

次に、第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂの下層側に配置された透光性導電膜１２ｂｘをエッチングして、図２（ａ）等に示すように第２の面状電極１２ｂの形状にパターニングすると共に、必要に応じて、有効位置座標入力エリアＡ１内に位置する第２の面状電極１２ｂに、当該第２の面状電極１２ｂの抵抗を大きくするように上記した複数の開口１２ａｂと同様の複数の開口を形成する（工程Ｑ３）。これにより、第２の面状電極１２ｂ、及び、必要に応じて当該第２の面状電極１２ｂに複数の開口が形成される。なお、当該各開口の形状及び大きさ、並びに当該各開口の間隔などは上記した実施形態の構成を採用することができる。また、工程Ｑ３では、必要に応じて、図９（ａ）及び図９（ｂ）に夫々示すように、非有効位置座標入力エリアＡ２に対応する透光性導電膜１３ａｘに、上記した応用例２に係る一つの態様及び他の態様で、開口１２ａｃと同様の開口を形成するようにしても構わない。

次に、図示を省略するが、図８のように、必要に応じて、印刷法又はフォトリソグラフィー技術を用いて、第２の面状電極１２ｂ上にアクリル樹脂などの透光性材料を塗布し、その後、その透光性材料をエッチングして第２の面状電極１２ｂに設けられた複数の開口のうち、少なくとも１つの開口に対応する位置にフォトスペーサ７０を形成する（工程Ｑ４）。

次に、図１５（ａ）に示すように、第１のマザー基板１０１ａ又は第２のマザー基板１０１ｂの各タッチパネル形成領域の周縁部に枠状のシール材９を印刷法等により形成する（工程Ｒ１）。ここで、形成したシール材９の一部には液状材料１５を注入するための注入口（図示略）を形成する。また、第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂの各タッチパネル形成領域のうち、一方のマザー基板には、シリコーンやウレタン等の柔らかい素材によって、前面側基板８ａに加わる衝撃を緩和するための緩衝部材を形成することが好ましい。この緩衝構造は、ギャップ制御用のスペーサ構造と兼用させてもよい。続いて、図示を省略するが、第１のマザー基板１０１ａの各タッチパネル形成領域と、第２のマザー基板１０１ｂの各タッチパネル形成領域とが互いに対向するように配置し、第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂのうち一方のマザー基板を他方のマザー基板側に押圧して貼り合わせる（工程Ｒ２）。図１５（ａ）には、一対の第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂと、一対の第１配線１４ａ及び第２配線１４ｂとが直交するように、一対の第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂが互いに対向するように貼り合わされた状態が示されている。なお、一点鎖線Ｃ１及びＣ２は、第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂを後述の工程Ｒ４において切断する際の切断線を示している。

次に、図１５（ｂ）に示すように、第１のマザー基板１０１ａの座標入力面側をフッ酸系のエッチング溶液を用いてケミカルエッチングし、第１のマザー基板１０１ａの厚さが約０.１ｍｍ〜約０.２ｍｍ程度となるように薄板化する（工程Ｒ３）。また、上記した変形例に係る液晶表示装置１１１の態様の場合、工程Ｒ３では、図１１のように、少なくとも第１のマザー基板１０１ａの座標入力面となる部分を選択的に薄板化し、凹部（薄板領域）１１ａｂを形成する。この場合、工程Ｒ３では、少なくとも第１のマザー基板１０１ａの座標入力面となる部分以外の部分をレジスト等によってマスキングしてから、フッ酸系のエッチング溶液を用いてケミカルエッチングし、凹部１１ａｂの形成された部分の基板の厚さが約０.１ｍｍ〜約０.２ｍｍとなるようにする。このように、第１のマザー基板１０１ａの周縁部を約０.５ｍｍ程度と厚くして額縁状に形成することにより、後述の切断作業を容易且つ的確に行い得る。

次に、貼り合わせた一対の第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂを個々のタッチパネル形成領域の周縁に沿って切断し、さらに図１５（ｂ）に示すように、第１のマザー基板１０１ａを切断線Ｃ１に沿って切断すると共に、第２のマザー基板１０１ｂを切断線Ｃ１及びＣ２に沿って切断することにより、液状材料１５を注入する前のタッチパネルが複数得られる（工程Ｒ４）。

次に、図示を省略するが、液晶材料１５を注入する前のタッチパネルの注入口から一対の第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂのギャップ内に液状材料１５を真空注入し、この注入口にモールド樹脂等の封止材を充填し、この封止材を硬化させて注入口を封止する（工程Ｒ５）。こうして、図１５（ｃ）に示すように、タッチパネル４が製造される。

なお、本例では液状材料１５を真空注入によって充填したが、液状材料１５の充填は次の方法により行なうこともできる。まず、一対の第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂのうち、一方のマザー基板に封入口のない枠状のシール材９を形成し、このマザー基板又は他方のマザー基板に液状材料１５を液滴状に配置する。そして、真空条件下でこれらのマザー基板を貼り合わせ、シール材９を硬化する。そして、最後に一対の第１のマザー基板１０１ａ及び第２のマザー基板１０１ｂを切断して、複数のタッチパネル４に分離する。

図１２に戻り、図１に示す液晶表示パネル２を既知の方法により作製する（工程Ｓ２）。 本製造方法では、上記したタッチパネル４の製造方法と同様に、複数の液晶表示パネル２となるべき領域を有する大面積のマザー基板を用いて複数の液晶表示パネル２を一括して形成し、その各領域を切断することによって個々の液晶表示パネル２に分離する方法を採用するのが好ましい。また、本製造方法では、前面側基板２２ａ及び背面側基板２２ｂとしては、厚さが約０.５ｍｍ程度の厚板のものを用いるのが好ましい。これは、タッチパネル４の製造ラインと、液晶表示パネル２の製造ラインとを共通化することが可能になるからである。また、図１１に示す液晶表示パネル２を作製する場合には、観察側と逆側に配置される基板本体２４ｂの有効表示領域以外の部分をレジスト等によってマスキングしてから、フッ酸系のエッチング溶液を用いてケミカルエッチングし、凹部２４ｂａの形成された部分の基板の厚さが約０.１ｍｍ〜約０.４ｍｍとなるようにする。なお、タッチパネル４と液晶表示パネル２の作製順序は図１２に示す例と逆でも構わない。

次に、タッチパネル４と液晶表示パネル２とを貼り合わせる（工程Ｓ３）。

具体的には、図１を参照して分かるように、液晶表示パネル２の前面側基板２２ａと、タッチパネル４の背面側基板８ｂとを接着剤５０によって光学接着する。接着剤５０としては、シリコンゲル等の透光性の弾性体を用いることが好ましい。このように弾性体を用いることで、入力操作時の応力が緩和され、液晶表示パネル２の表示歪みを改善することができるからである。また、タッチパネル４と液晶表示パネル２を光学接着することで、光の口スが更に低減され、明るい表示が可能になる。なお、接着剤５０としては、両面テーブ等を用いることも可能である。この場合、両面テープを基板の周縁部に環状に設け、液晶表示パネル２とタッチパネル４との間に隙間を設けることが好ましい。こうすることによって、入力時の応力を液晶表示パネル２側に直接伝えない構造とすることができる。

次に、タッチパネル４の前面側基板８ａの前面（観察側の面）に偏光板６ａを取り付けると共に、液晶表示パネル２の背面側基板２２ｂの背面（観察側とは反対側の面）に偏光板６ｂを取り付ける（工程Ｓ４）。なお、図１１に示す態様の場合には、各偏光板６ａ、６ｂは、それぞれタッチパネル４の前面側基板８ａに形成された凹部１１ａｂ内、及び、液晶表示パネル２の背面側基板２２ｂに形成された凹部２４ｂａ内に夫々配置する。

以上の各工程を経てタッチパネル一体型の液晶表示装置１等が製造される。こうして製造された液晶表示装置１等は、上記した本発明の作用効果を得ることができる。

また、本製造方法では、以下のような効果が得られる。

本製造方法では、タッチパネル４の前面側基板８ａ及び背面側基板８ｂの双方を硬質のガラス基板によって構成しているため、入力操作時に基板が過度に変形することを抑えることができる。このため、第１の面状電極１２ａ及び１２ｂ、並びに、第１配線１３ａ及び第２配線１３ｂにクラック等が発生しにくくなり、従来よりも耐久性の高い液晶表示装置が得られる。また、高温の熱処理が可能であるため、第１の面状電極１２ａ及び第２の面状電極１２ｂの膜質を改善して明るい液晶表示装置を実現することができる。また、本製造方法では、タッチパネル４の前面側基板８ａの座標入力面を薄板化しているため、入力操作に伴う入力荷重を低減でき、位置座標の検出精度も高めることができる。また、図１１に示すように、前面側基板８ａ全体を薄板化するのではなく、少なくとも座標入力面に対応する部分を選択的にエッチングして薄型化した場合には、製造時の基板の取り扱い性や耐衝撃性が損なわれることはない。また、このように前面側基板８ａに薄板領域を設けた場合には、前面側基板８ａの重量も少なくなるため、タッチパネルの軽量化にも寄与する。また、通常の半導体プロセスを用いることができるので、界面抵抗の小さい導電膜を形成することができ、更にエッチング等の手法を用いれば、極めて細い配線パターン（第１配線１３ａ及び１４ａ、第２配線１３ｂ及び１４ｂ、補助用配線１８、端子部１６に相当）を形成することができるため、配線領域の狭額縁化も可能になる。

また、本製造方法では、液晶表示パネル２の背面側基板２２ｂをエッチングして前記座標入力面に対応する部分を薄板化しているため、タッチパネル４の入力操作に起因する表示の歪みを改善することができる。また、このように、背面側基板２２ｂに薄板領域を形成することで、液晶表示パネル２の軽量化にも寄与する。また、図１１に示す態様の液晶表示装置１１１を作製する場合、偏光板６ａ、６ｂは、上記した凹部１１ａｂ及び２４ｂａ内に夫々配置されるため、この凹部１１ａｂ及び２４ｂａ内の深さ分だけ液晶表示装置１１を薄型化することができる。

また、本製造方法では、タッチパネル４のギャップ内に屈折率調整用の液状材料１５を封入しているため、更に明るい表示が可能である。また、封入された液状材料１５は、入力時の応力を緩和するためのクッションとして機能するため、タッチパネル４の耐衝撃性も高めることができる。また、本製造方法では、タッチパネル４と液晶表示パネル２とを透光性の弾性体としての接着剤５０によって光学接着しているため、更に明るく且つ歪みの少ない表示が可能になる。

［電子機器］
以下、上述の液晶表示装置１等を備えた電子機器の具体例について説明する。なお、本発明では、かかる液晶表示装置１以外にも、上記した各種の応用例及び変形例に係る液晶表示装置も勿論適用可能である。

図１６は、本発明の電子機器の一例であるハンディターミナル１０００を示す斜視図である。図１６において、ハンディターミナル１０００は本発明の入力装置であるタッチパネル一体型の液晶表示装置１、操作キー１００１、及び電源入力スイッチ１００２を有する。本例のハンディターミナル１０００は、操作キー１００１に印刷されたアイコンや、タッチパネル４の下に配置された液晶表示パネル２（図示略）の画面を見ながら、タッチパネル４上の位置を直接押圧することによって、データ入力を行なうものである。このハンディターミナル１０００は、入力装置として前述した本発明のタッチパネル４を備えているため、明るい表示が可能で且つ操作性にも優れ、更に信頼性も高い電子機器となる。

なお、本発明のタッチパネル一体型の液晶表示装置１等は、上記したハンディターミナル１０００に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。この電子機器としては例えば、携帯電話、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等があり、このタッチパネル一体型液晶表示装置１等はこれらの画像表示手段兼入力手段として好適に用いることができる。

本発明のタッチパネル一体型の液晶表示装置の概略構成を示す断面図。 タッチパネルの構造を示す分解斜視図及び要部断面図。 タッチパネルの要素である前面側基板の平面図及び要部断面図。 Ｘ軸側の座標入力の原理を説明するタッチパネルの模式的回路図。 Ｙ軸側の座標入力の原理を説明するタッチパネルの模式的回路図。 比較例に係るタッチパネルの要素である前面側基板の平面図。 比較例に係るタッチパネルのリニアリティ特性を示すグラフ。 本発明の応用例１に係るタッチパネルの前面側基板の要部断面図。 本発明の応用例２に係る各種態様のタッチパネルの前面側基板の要部平面図。 他の構成に係る各種態様のタッチパネルの前面側基板の要部平面図。 変形例に係るタッチパネル一体型の液晶表示装置の概略構成を示す断面図。 本発明のタッチパネル一体型の液晶表示装置の製造方法のフローチャート。 本発明のタッチパネルの製造方法のフローチャート。 本発明のタッチパネルの製造工程を示す断面図。 本発明のタッチパネルの製造工程を示す断面図。 本発明の電子機器の一例を示す斜視図。

符号の説明

１、１１１ 液晶表示装置、 ２ 液晶表示パネル、 ３ 入力機器、 ４ タッチパネル、 ８ａ、２２ａ 前面側基板、 ８ｂ、２２ｂ 背面側基板、 １２ａ 第１の面状電極、 １２ａｂ、１２ａｃ 開口、 １２ｂ 第２の面状電極、 １３ａ、１４ａ 第１配線、 １３ｂ、１４ｂ 第２配線、 １６ 端子部、 １８ 補助用配線、 １０００ ハンディターミナル、 Ａ１ 有効位置座標入力エリア、 Ａ２ 非有効位置座標入力エリア

Claims (13)

1. 座標入力面を含む第１の基板と、前記第１の基板に対向配置された第２の基板とを備え、前記座標入力面上の押圧された位置の座標情報を入力可能に構成されてなり、
   前記第１の基板及び前記第２の基板の少なくとも一方の基板は、透光性を有する導電膜と、前記導電膜と電気的に接続され、導電性を有する一対の配線とを有し、
   前記導電膜には、当該導電膜の抵抗を大きくするように開口が形成されていることを特徴とする入力装置。
2. 前記座標入力面は、前記座標情報の入力に寄与する有効座標入力領域と、前記有効座標入力領域の外側に設定され、前記座標情報の入力に寄与しない非有効座標入力領域とを有し、
   前記導電膜は少なくとも前記有効座標入力領域に設けられ、
   前記開口は、前記有効座標入力領域に設けられた前記導電膜に複数設けられていることを特徴とする請求項１に記載の入力装置。
3. 前記開口は、前記有効座標入力領域に設けられた前記導電膜に行列状に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の入力装置。
4. 前記開口に重なる位置にはスペーサが設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の入力装置。
5. 前記スペーサは、前記導電膜と略同一の厚さに形成されていることを特徴とする請求項４に記載の入力装置。
6. 前記一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、
   前記開口は、前記非有効座標入力領域に設けられた前記導電膜にも複数設けられていることを特徴とする請求項２に記載の入力装置。
7. 前記一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、
   前記開口は、前記非有効座標入力領域に対応する前記導電膜に複数設けられ、
   前記開口の数は、前記端子部側に位置する前記一対の配線の一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に減少するように設定されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の入力装置。
8. 前記一対の配線の一端側は、各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、
   前記開口は、前記非有効座標入力領域に対応する前記導電膜に複数設けられ、
   前記開口の大きさは、前記端子部側に位置する前記一対の配線の一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に小さくなるように設定されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の入力装置。
9. 前記一対の配線の一端側は各々電力供給源と電気的に接続された端子部と電気的に接続されており、
   前記一対の配線の少なくとも一方の配線の幅は、前記端子部側に位置する前記一端側から当該一端側と逆に位置する他端側に向かって段階的に大きくなるように設定されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の入力装置。
10. 前記導電膜は透明導電膜により形成され、
    前記一対の配線は金属膜により形成されていることを特徴とする請求項１に記載の入力装置。
11. 電気光学パネルと、前記電気光学パネルの観察側に配置された請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の入力装置と、を備えることを特徴とする電気光学装置。
12. 請求項１１に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
13. 座標入力面上の押圧された位置の座標情報を入力可能に構成されてなる入力装置の製造方法において、
    前記座標入力面を含む第１の基板及び前記第１の基板に対向配置される第２の基板の少なくとも一方の基板上に、透光性を有する導電膜を形成する導電膜形成工程と、
    前記導電膜に電気的に接続される位置に導電性を有する一対の配線を形成する配線形成工程と、を備え、
    前記導電膜形成工程では、前記導電膜の抵抗を大きくするように開口を形成することを特徴とする入力装置の製造方法。

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