JP2012221121A - タッチパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】溝部23間に位置する部分の第1の透明抵抗膜22に、複数の溝部23の配列方向に対して直交する方向に延在する複数の第1の溝24を設け、操作領域A内において電位分布に歪みが発生した際、電位分布の歪みが発生した歪発生領域C1,C2,D1,D2と対向する部分の電極パターン41〜44との間に位置する部分の第1の透明抵抗膜22に、第1の透明抵抗膜22を貫通すると共に、第1の溝24と直交する方向に延在する第2の溝27〜29を設け、第2の溝27〜29により複数の第1の溝24を接続した。
【選択図】図6
Description
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極 と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記溝部間に位置する部分の前記第1の透明抵抗膜に、該第1の透明抵抗膜を貫通すると共に、複数の前記溝部の配列方向に対して直交する方向に延在する複数の第1の溝を設け、
前記操作領域内において前記電位分布に歪みが発生した際、前記電位分布の歪みが発生した歪発生領域と該歪発生領域と対向する部分の前記電極パターンとの間に位置する部分の前記第1の透明抵抗膜に、前記第1の透明抵抗膜を貫通すると共に、前記第1の溝と直交する方向に延在する第2の溝を設け、該第2の溝により複数の前記第1の溝を接続したことを特徴とするタッチパネルが提供される。
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極 と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記操作領域内において前記電位分布に歪みが発生した際、前記電位分布の歪みが発生した歪発生領域と対向する部分の前記電極パターンの抵抗値を、前記歪発生領域と対向していない部分の前記電極パターンの抵抗値よりも高くしたことを特徴とするタッチパネルが提供される。
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極 と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記電極パターンに、該電極パターンの延在方向に配列され、前記電極パターンを貫通する複数の貫通部を設け、
前記操作領域内において前記電位分布に歪みが発生した際、前記電位分布の歪みが発生した歪発生領域と対向する部分の前記電極パターンに形成された前記貫通部に、導電性ペーストを充填したことを特徴とするタッチパネルが提供される。
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極 と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記電極パターンの両端部は、前記電極パターンの中央部から前記給電部に向かうにつれて抵抗値が高くなるように構成することを特徴とするタッチパネルが提供される。
図5は、本発明の第1の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図5において、X,X方向は第1及び第2の基板11,12の長手方向を示しており、Y,Y方向はX,X方向と直交する方向を示している。また、図5では、後述する図6に示す複数の溝部23、第1の溝24、及び第2の溝27〜29を図示することが困難なため、複数の溝部23、第1の溝24、及び第2の溝27〜29の図示を省略する。
第1の透明基板本体21は、X,X方向が長手方向とされた矩形とされている。第1の透明基板本体21は、X,X方向に延在すると共に対向配置された辺31,32と、Y,Y方向に延在すると共に対向配置された辺33,34と、角部36〜39とを有する。角部36は、直交する2辺32,33により構成されている。角部37は、直交する2辺31,34により構成されている。角部38は、直交する2辺32,34により構成されている。角部39は、直交する2辺31,33により構成されている。第1の透明基板本体21としては、例えば、ガラス基板を用いることができる。
図9は、本発明の第2の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図9において、第1の実施の形態のタッチパネル10と同一構成部分には同一符号を付す。また、図9では、複数の溝部23を図示することが困難なため、複数の溝部23の図示を省略する。
図12は、本発明の第3の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図12において、第1の実施の形態のタッチパネル10と同一構成部分には同一符号を付す。また、図12では、複数の溝部23を図示することが困難なため、複数の溝部23の図示を省略する。
図15は、本発明の第4の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図15において、第1の実施の形態のタッチパネル10と同一構成部分には同一符号を付す。また、図15では、複数の溝部23を図示することが困難なため、複数の溝部23の図示を省略する。
図18は、本発明の第5の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図18において、第4の実施の形態のタッチパネル105と同一構成部分には同一符号を付す。また、図18では、複数の溝部23を図示することが困難なため、複数の溝部23の図示を省略する。
図21は、本発明の第6の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図21において、第4の実施の形態のタッチパネル105と同一構成部分には同一符号を付す。また、図21では、複数の溝部23を図示することが困難なため、複数の溝部23の図示を省略する。
図24は、本発明の第7の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図24において、第4の実施の形態のタッチパネル105と同一構成部分には同一符号を付す。また、図24では、複数の溝部23を図示することが困難なため、複数の溝部23の図示を省略する。
図28は、本発明の第8の実施の形態に係るタッチパネルの概略構成を示す斜視図である。図28において、第4の実施の形態のタッチパネル105(図15参照)と同一構成部分には同一符号を付す。また、図28では、複数の溝部23を図示することが困難なため、複数の溝部23の図示を省略する。
11,11−1,66,66−1,91,91−1,106,121,141,156,176 第1の基板
12 第2の基板
13 スペーサ
15 フレキシブル基板
21 第1の透明基板本体
21A 上面
22 第1の透明抵抗膜
23 溝部
24 第1の溝
25,68,68−1,93,93−1,108,123,145,157,178 電極
27〜29 第2の溝
31〜34 辺
36〜39 角部
41〜44,71〜74,111〜114,125〜128,145〜148、161〜164,181〜184 電極パターン
46〜49 給電部
52,69,95,117 電位分布
61 第2の透明基板本体
61A,62A 下面
62 第2の透明抵抗膜
63 座標検出用電極
76,77,81,82 配線パターン
77A,77B,82A,82B 切断部
79,84 接続部
97,98 貫通部
101,102 導電性ペースト
111A,111B,112A,112B,113A,113B,114A,114B,151,152 端部
131,135 第1の導体パターン
132,133 第2の導体パターン
151A,152A 傾斜面
166〜168,185 導電パターン
A 操作領域
C1,C2,D1,D2,E1,E2,F1,F2,G1,G2,H1,H2 歪発生領域
Claims (14)
- 矩形とされた第1の透明基板本体と、
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記溝部間に位置する部分の前記第1の透明抵抗膜に、該第1の透明抵抗膜を貫通すると共に、複数の前記溝部の配列方向に対して直交する方向に延在する複数の第1の溝を設け、
前記操作領域内において前記電位分布に歪みが発生した際、前記電位分布の歪みが発生した歪発生領域と該歪発生領域と対向する部分の前記電極パターンとの間に位置する部分の前記第1の透明抵抗膜に、前記第1の透明抵抗膜を貫通すると共に、前記第1の溝と直交する方向に延在する第2の溝を設け、該第2の溝により複数の前記第1の溝を接続したことを特徴とするタッチパネル。 - 前記第2の溝により、複数の前記第1の溝と前記溝部とを接続したことを特徴とする請求項1記載のタッチパネル。
- 前記第1及び第2の溝は、レーザ加工により形成された溝であることを特徴とする請求項1または2記載のタッチパネル。
- 矩形とされた第1の透明基板本体と、
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極 と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記操作領域内において前記電位分布に歪みが発生した際、前記電位分布の歪みが発生した歪発生領域と対向する部分の前記電極パターンの抵抗値を、前記歪発生領域と対向していない部分の前記電極パターンの抵抗値よりも高くしたことを特徴とするタッチパネル。 - 前記電極パターンは、複数の前記溝部の配列方向に延在する一対の配線パターンと、前記一対の配線パターン間に配置され、前記一対の配線パターンを電気的に接続する接続部と、を有しており、
前記歪発生領域と対向する部分の前記一対の配線パターンのうち、一方の前記配線パターンは、一対の切断部を有することを特徴とする請求項4記載のタッチパネル。 - 前記一対の切断部は、レーザ加工により形成されることを特徴とする請求項5記載のタッチパネル。
- 矩形とされた第1の透明基板本体と、
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極 と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記電極パターンに、該電極パターンの延在方向に配列され、前記電極パターンを貫通する複数の貫通部を設け、
前記操作領域内において前記電位分布に歪みが発生した際、前記電位分布の歪みが発生した歪発生領域と対向する部分の前記電極パターンに形成された前記貫通部に、導電性ペーストを充填したことを特徴とするタッチパネル。 - 矩形とされた第1の透明基板本体と、
前記第1の透明基板本体の上面に形成され、操作領域を有する第1の透明抵抗膜と、
前記第1の透明基板本体の4辺に対応するように、前記第1の透明抵抗膜の上面に配置された電極パターンと、前記第1の透明基板の4つの角部に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜の上面に配置され、前記電極パターンと一体的に構成された給電部と、を有する電極と、
前記電極パターンの形成領域に対応する部分の前記第1の透明抵抗膜を貫通するように形成され、前記電極パターンの中央部から前記電極パターンの端部に向かうにつれて、前記電極パターンと前記第1の透明抵抗膜との接触面積が大きくなるように構成された複数の溝部と、
を有する第1の基板と、
スペーサを介して、前記第1の透明抵抗膜と対向するように配置される第2の透明基板本体と、前記第2の透明基板本体の下面に形成され、前記第1の透明抵抗膜と対向する第2の透明抵抗膜と、該第2の透明抵抗膜の下面に形成された座標検出用電極 と、
を有する第2の基板と、
を備え、
前記給電部に電圧を印加した際、前記第1の透明抵抗膜に形成される電位分布に基づき、接触位置の電位を検知することで、前記接触位置の座標を検出するタッチパネルであって、
前記電極パターンの両端部は、前記電極パターンの中央部から前記給電部に向かうにつれて抵抗値が高くなるように構成することを特徴とするタッチパネル。 - 前記電極パターンの抵抗値は、90Ω〜150Ωであることを特徴とする請求項8記載のタッチパネル。
- 前記電極パターン両端部は、前記電極パターンの中央部から前記給電部に向かうにつれて幅が狭くなることを特徴とする請求項8または9記載のタッチパネル。
- 前記電極パターンの両端部は、前記電極パターンの中央部を構成する第1の導電材料よりも抵抗値の高い第2の導電材料により構成することを特徴とする請求項8または9記載のタッチパネル。
- 前記電極パターン両端部は、前記電極パターンの中央部から前記給電部に向かうにつれて厚さが薄くなることを特徴とする請求項8または9記載のタッチパネル。
- 前記電極パターンは、長さの異なる複数の導電パターンを有し、
前記複数の導電パターンは、最下層から最上層に向かうにつれて、前記導電パターンの長さが短くなるように積層されており、
前記電極パターンの両端部は、段差を有することを特徴とする請求項8または9記載のタッチパネル。 - 前記電極パターンの両端部に、前記第1の透明抵抗膜の上面を露出する貫通部を設けると共に、前記給電部から前記電極パターンの中央部に向かうにつれて、前記貫通部の幅を狭くしたことを特徴とする請求項8または9記載のタッチパネル。
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