JP2012088599A - タッチセンサ機能付き液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】タッチセンサ機能付き液晶表示装置において、液晶駆動時に発生する電界および電気信号ノイズを遮蔽してタッチセンサ機能を正常に働かせる簡単な構造を、簡単な工程で、液晶表示装置の特性を損なわずに良好な品質で、提供すること。
【解決手段】液晶層を挟んで液晶表示セルを構成する二枚の透明基板の内、表示側に配置される第一の透明基板１のセル内面側に、ストライプ形状または格子形状のブラックマトリクス３を有し、該ブラックマトリクスが液晶表示セル内の液晶駆動用回路５とは絶縁されている液晶表示装置であって、ブラックマトリクスが光遮蔽性の帯状導電体膜からなり、その端部が周辺に配置された同一材による額縁領域に電気的に連結しており、第一の透明基板のブラックマトリクスとは反対側の表示側にタッチセンサ機能を付設した。
【選択図】図１

Description

本発明は、各種画像情報の入出力装置として使用されるタッチセンサ機能付き液晶表示装置に関する。

近年、パソコンや携帯電話機、携帯情報端末、カーナビゲーションシステムを始め、様々な平面型表示装置に液晶表示装置が多用され、美しく鮮明な表示画面の高精細出力が容易に得られるようになるとともに、特にモバイル機器を中心に、タッチパネルを液晶表示装置に併設して、対話型の性能を保持する試みが多くなってきた。

タッチパネルは、表示画面上の透明な面を操作者が指またはペンでタッチすることにより、接触した位置を検出してデータ入力できる入力装置の構成要素となるものであって、キー入力より直接的、かつ直感的な入力を可能とする。このため、上記モバイル機器を始めとした様々な電子機器の操作部に多用されるようになってきた。

前記タッチパネルは、液晶表示装置の表示画面上に、入力装置として貼り合わせて使用することができる。タッチパネルの検出方式には、抵抗式、静電容量式、超音波式、光学式等多種あり、その構造は多様となる。抵抗式は、製造コストと検出精度の点で比較的優れており、広く使用されているが、２枚の透明導電膜の間に空気層を設ける構造を有する抵抗式タッチパネルは、光学特性（透過率）が低く、耐久性や動作温度特性においても充分とは言えないため、改良が求められてきた。また、可動部分を有しない静電容量式タッチパネルは、光学特性（透過率）が高く、耐久性や動作温度特性においても抵抗式より優れているため、高精細用途や高信頼性用途を始めとして広く開発が進んでいる。

このようなタッチパネルは、入力指示等に利用する定型画像や周辺部の装飾と表面保護とを兼ねて加飾カバーガラスに合体したものが多く、液晶表示装置の表示画面上に貼り合わせるに当たって、視野角を拡大したり、貼り合わせに伴う形態上の不具合を解消したりして、優れた表示品位を確保するための工夫がなされてきた（特許文献１および特許文献２参照）。

また、タッチパネルを貼り合わせる対象の液晶表示装置が液晶駆動する際に発生する電界および電気信号ノイズによって、隣接するタッチパネルが誤動作をする可能性があるため、静電容量式タッチパネルと併設する液晶表示セルとの間に、電界遮蔽および帯電防止を図る目的で、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明導電膜を有する構造とすることが一般に行われている。

特開２００７−１７８７５８号公報 特開２００９−０６９３２１号公報

前記液晶駆動時に発生する電界および電気信号ノイズを遮蔽するため、タッチパネルを貼り合わせる液晶表示セルの表示側の面（セル内面からみて透明基板の裏面）にＩＴＯ等の透明導電膜を形成することは、液晶表示装置の製造工程を長くするだけでなく、液晶表示装置全体として、透明導電膜による透過率やコントラストの低下を招く。また、裏面Ｉ
ＴＯ等が存在する状態で透明基板表（オモテ）面に各層を形成する加工工程を行うと、裏面汚れの発生や、透明導電膜の表面抵抗値変化など特性値の変動が発生する。また、上記工程中の不具合を回避するには、保護膜形成工程や剥離工程などの追加の工程が必要になり、さらに製造工程を長くしてしまう。さらに、液晶表示セルの透明基板表（オモテ）面のパターン修正をレーザ光により行う場合に、裏面のＩＴＯ等に損傷を与えないレーザ光の使用条件に制約が生じるので、レーザ光によるリペア作業を難しくする。

本発明は、前記の問題点に鑑みて提案するものであり、本発明が解決しようとする課題は、タッチセンサ機能付き液晶表示装置において、液晶駆動時に発生する電界および電気信号ノイズを遮蔽してタッチセンサ機能を正常に働かせる簡単な構造を、簡単な工程で、液晶表示装置の特性を損なわずに良好な品質で、提供することである。

上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、液晶層を挟んで液晶表示セルを構成する二枚の透明基板の内、表示側に配置される第一の透明基板のセル内面側に、ストライプ形状または格子形状のブラックマトリクスを有し、該ブラックマトリクスが液晶表示セル内の液晶駆動用回路とは絶縁されている液晶表示装置であって、ブラックマトリクスが光遮蔽性の帯状導電体膜からなり、その端部が周辺に配置された同一材による額縁領域に電気的に連結しており、第一の透明基板のブラックマトリクスとは反対側の表示側にタッチセンサ機能を付設したことを特徴とするタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項２に記載の発明は、前記タッチセンサ機能が、前記第一の透明基板の表示側にあたる面を支持基材として静電容量式タッチセンサ部を直接設けて得られたことを特徴とする請求項１に記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項３に記載の発明は、前記タッチセンサ機能が、前記第一の透明基板の表示側にあたる面に、別途作製した静電容量式タッチパネルを貼り合わせて得られたことを特徴とする請求項１に記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項４に記載の発明は、前記第一の透明基板上の液晶表示セル内面側に前記ブラックマトリクス、絶縁層、液晶駆動用回路、がこの順に積層され、液晶駆動用回路として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子および配線層を用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項５に記載の発明は、前記液晶表示セルの液晶駆動方式が、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式であって、前記第一の透明基板に対向する第二の透明基板が無電極構造であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項６に記載の発明は、前記液晶表示セルの液晶駆動方式が、縦電界方式であって、前記第一の透明基板に対向する第二の透明基板が対向電極を有する構造であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項７に記載の発明は、前記第一の透明基板および第二の透明基板が、厚さ０．２〜０．７ｍｍの無アルカリガラスからなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項８に記載の発明は、前記ブラックマトリクスが、表示側で低反射となるよ
うに、金属と金属酸化物の多層膜構成であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

また、請求項９に記載の発明は、前記ブラックマトリクスが、装置の使用状態においてアース電位に保持できる構造を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。

本発明によれば、タッチセンサ機能付き液晶表示装置において、液晶駆動時に発生する電界および電気信号ノイズを遮蔽するためのシールド電極として、液晶表示セル内に元来設けるブラックマトリクスを導電体材料とすることにより形成するので、特別な構造を付加することなく、簡単な工程で、液晶表示装置の特性を損なわずに良好な品質のタッチセンサ機能付き液晶表示装置を提供することができる。

また、本発明の請求項２によれば、タッチパネルを液晶表示装置に貼り合わせることと同等の機能を、液晶表示セルの表示側に直接タッチセンサ部を形成することにより得ることができるので、全体として薄型の装置とすることができる。

本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置の構造の一例を説明するための部分断面模式図である。 本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置が有するブラックマトリクスの例を示す平面模式図であって、（ａ）は、ストライプ形状の場合、（ｂ）は、格子形状の場合である。 本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置の構造の他の一例を説明するための部分断面模式図である。 本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置の構造の第三の例を説明するための部分断面模式図である。

以下、図面に従って、本発明を実施するための形態について具体的に説明する。

図１は、本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置の構造の一例を説明するための部分断面模式図であり、図２は、本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置が有するブラックマトリクスの例を示す平面模式図であって、（ａ）は、ストライプ形状の場合、（ｂ）は、格子形状の場合である。

本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置の構造は、液晶表示セル１０にタッチセンサ部２０を併設した図１の例で示す。なお、一般の液晶表示装置に含まれる照明光源や駆動電源や各種光学フィルム、保護膜等は、従来と同様であり、図では省略してある。

液晶層１１を挟んで液晶表示セル１０を構成する二枚の透明基板１、２の内、表示側に配置される第一の透明基板１のセル内面側に、ストライプ形状または格子形状のブラックマトリクス３を有し、該ブラックマトリクス３が液晶表示セル内の液晶駆動用回路５とは絶縁層４を介して絶縁されている液晶表示装置であって、図２に平面形状を示すブラックマトリクス３１、３２は、ブラックマトリクス３と同等であり、光遮蔽性の帯状導電体膜からなり、その端部が周辺に配置された同一材による額縁領域３３に電気的に連結しており、第一の透明基板１のブラックマトリクスとは反対側の表示側にタッチセンサ部２０で示すタッチセンサ機能を付設したタッチセンサ機能付き液晶表示装置である。ブロック矢印で示す方向に入射するバックライト照明光１４が、所定の回転角度差を保持して設けた
２枚の偏光層１３の間に設けた上記タッチセンサ機能付き液晶表示装置を通過して、破線ブロック矢印の方向に選択的に表示光１５を出射する。なお、偏光層１３は、通常は、液晶表示セル１０の構成要素として他の構成要素と一体化すべきものであるが、本例のように、タッチセンサ部２０の外側に配置することが可能である。

図１に示した本例においては、液晶表示セル１０の内部構造は以下の方式に合致する構成例を示している。すなわち、ＴＮ方式等の縦電界方式の液晶分子制御の方式であり、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を画素駆動素子としたアクティブマトリクス方式であり、かつ、ＴＦＴ上方の同一基板上にＣＦ（カラーフィルタ）着色層を設けたＣＦ ｏｎ Ａｒｒａｙ構造を例として表示している。縦電界方式であるため、前記第一の透明基板１に対向する第二の透明基板２を、ＩＴＯに代表される透明導電膜よりなる透明な対向電極１２を有する構造とすることができる。また、ＣＦ ｏｎ Ａｒｒａｙ構造であるため、第一の透明基板１と第二の透明基板２との位置合わせが容易になり、第一の透明基板１上の連続工程におけるフォトリソグラフィー法のプロセスでの高精度の位置合わせ技術の向上が、液晶表示セル１０の高精度化、高品質化に直結する。
但し、上記の液晶分子制御の方式や画素駆動の方式やセル内各層の配置構造は、本例に限定されるものではない。

さらに、本例においては、液晶表示セル１０の構成要素となる第一の透明基板１を支持基材として、直接、タッチセンサ部２０を第一の透明基板１上に作り込んで併設した例を示している。しかしながら、本例に代えて、別途作製したタッチパネルを完成済みの液晶表示セル１０に貼り合わせてもよい。いずれにしても、タッチセンサ機能を有する部分が、図に示す液晶表示セルの第一の透明基板１の液晶表示セル１０の外面方向に平面を重ねて付設してあればよい。但し、前者の例の方が後者の例より、全体として薄型の装置を提供することができる。

上記タッチセンサ部やタッチパネルは、前述のタッチパネルの検出方式で述べたように、各種の方式が可能であるが、高精細用途や高信頼性用途に適した静電容量式を液晶表示装置と組み合わせて、性能バランスの良好な入出力装置を構成することが好ましい。

前記第一の透明基板および第二の透明基板は、通常の液晶表示装置に用いられる場合と同様に、無アルカリガラスからなることが望ましく、その厚さは、０．２〜０．７ｍｍが望ましい。現状では、０．２ｍｍ未満の厚さのガラスに対しては後加工や取り扱いに難点があり、０．７ｍｍを超える厚さの基板を重ねた液晶表示装置は、薄型軽量化を目指す平面型表示装置としては商品訴求力が乏しくなる。

光遮蔽性の帯状導電体膜からなる前記ブラックマトリクス３、３１、３２、およびその周辺でブラックマトリクスと電気的に連結する額縁領域３３を構成する材料として、金属材料、例えばＣｒ、Ｎｉ、Ｗ、Ｍｏ、およびそれらの合金系からなる材料を選択できる。上記金属材料をスパッタリング法により成膜した後、フォトリソグラフィー法およびエッチング法により、ブラックマトリクスパターンの所定の形状に形成することができる。本発明におけるブラックマトリクスは、通常の液晶表示装置のブラックマトリクスと同様に、画素区画を明瞭に示して表示品位向上を図るとともに、ストライプ形状または格子形状のブラックマトリクス３１、３２の導電性パターンが、その背面に形成される液晶駆動部分からの電界および電気信号ノイズを遮蔽して、タッチセンサ機能を妨害しないようにするためのシールド電極としての役割を果たすことができる。

上記シールド電極としての役割を有効に機能させるために、ブラックマトリクス３は液晶表示セル内の液晶駆動用回路５とは絶縁層４を介して絶縁されており、ブラックマトリクス３、絶縁層４、液晶駆動用回路５、がこの順に積層されている。ＴＦＴを画素駆動素
子としたアクティブマトリクス方式の本例において、液晶駆動用回路５は、ＴＦＴ素子および配線層を示している。ＴＦＴ素子は、内部の詳細な構造は図示していないが、半導体層、ゲート絶縁膜、電極、保護絶縁膜をパターン化して積層した電界効果トランジスタの一種であり、通常のＴＦＴ駆動の液晶表示装置の場合と同様に、各種成膜技術とフォトリソグラフィー法によるパターニング技術を多用して製造することができる。

前記ブラックマトリクス３は光遮蔽性の帯状導電体膜材料からなり、透過光に対して画素区画を明瞭に仕切るとともにシールド電極として機能させることを述べたが、さらに液晶表示装置の表示品位に関わる条件として、ブラックマトリクスが表示側で低反射率である方が、表示側が明るい場合であっても、反射光の映りこみによる見づらさを防止できるので、好ましい。前記ブラックマトリクスが表示側で低反射となるように製造するには、金属と金属酸化物の多層膜構成とし、低反射側とする最外層に金属酸化物を設けることが望ましい。例えば図１に示す本例では、第一の透明基板１にブラックマトリクス３の材料を成膜する際に、少なくとも下層に金属酸化物を形成することにより、第一の透明基板１を通して見る表示側で低反射とすることができる。但し、一般に金属酸化物は導電性が低下するので、使用材料の種類とストライプ形状または格子形状のブラックマトリクスパターン仕様に応じて、金属層の厚さを大きくすることも必要となる。

次に、前述の液晶表示セル１０の内部構造とは異なる例を、図３および図４に示す。

図３は、本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置の構造の他の一例（第二の例）を説明するための部分断面模式図である。本第二の例に示す液晶表示セル１０の内部構造は、ＩＰＳ方式として知られる横（平面）電界方式の液晶分子制御の方式であり、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を画素駆動素子としたアクティブマトリクス方式であり、かつ、ＴＦＴ上方の同一基板上にＣＦ（カラーフィルタ）着色層を設けたＣＦ ｏｎ Ａｒｒａｙ構造を表示している。前述の第一の例として図１に示したＴＮ方式等の縦電界方式の液晶分子制御の方式では、第二の透明基板２に透明な対向電極１２を設けたのに対して、本第二の例のＩＰＳ方式では、第二の透明基板２を無電極構造とすることができる。従来、ＩＰＳ方式では、外部電界の影響により液晶表示装置の誤作動を防止するために、透明基板の裏面に透明なシールド電極を設けたが、本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置では、タッチセンサ機能を正常に保持するためのブラックマトリクスによるシールド電極を既に備えているので、追加のシールド電極は不要となる。

図４は、本発明のタッチセンサ機能付き液晶表示装置の構造の第三の例を説明するための部分断面模式図である。本第三の例に示す液晶表示セル１０の内部構造は、ＴＮ方式等の縦電界方式の液晶分子制御の方式であり、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を画素駆動素子としたアクティブマトリクス方式であり、かつ、ＴＦＴとは別の基板上にＣＦ（カラーフィルタ）着色層を設けたＣＦ貼り合わせ構造を表示している。本第三の例では、ブラックマトリクス３とカラーフィルタ着色層７を有する第一の透明基板１に絶縁層４と透明な対向電極１２と液晶配向膜９とを形成して液晶表示セル１０の表示側とし、第二の透明基板２に液晶駆動用回路（ＴＦＴ素子および配線層）５と画素電極８と液晶配向膜９とを形成して液晶層１１を挟んで液晶表示セル１０のバックライト側とした構造を用いることができる。

本第三の例では、前述のＣＦ ｏｎ Ａｒｒａｙ構造とは異なり、第一の透明基板１上のブラックマトリクス３と第二の透明基板２のＴＦＴ素子との位置合わせを両基板の貼り合わせ時に精度良く行う必要があり、液晶表示セル１０の高精度化に一定の制約はあるが、両基板の各工程の製造歩留まりを単独で向上させることができる。

本発明は、上記の種々の方式の液晶表示セルの表示側にタッチセンサ機能を付設したタ
ッチセンサ機能付き液晶表示装置であって、該タッチセンサ機能付き液晶表示装置におけるブラックマトリクス３が、装置の使用状態において、アース電位に保持できる構造を有するように特に配慮することが望ましい。例えば、ブラックマトリクスの端部と電気的に連結した額縁領域の一部からアースのための配線を導くことにより、ブラックマトリクスを確実にアース電位に保持でき、タッチセンサ機能の使用に際して、液晶駆動時に発生する電界および電気信号ノイズを遮蔽するためのシールド電極としてブラックマトリクスを機能させることができる。

板厚が０．７ｍｍの３６０ｍｍ×４６５ｍｍサイズの無アルカリガラスからなる清浄な透明基板を２枚用意して、それぞれ第一の透明基板、第二の透明基板とした。
次に、第一の透明基板上に、Ｎｉ−Ｗ合金層とその酸化物からなり、１層目を低反射酸化物層とする３層構造の膜をスパッタリング法により１７０ｎｍの厚さに成膜した。膜の光学特性は、光学濃度（ＯＤ値）が３．８以上、反射率が可視域平均で３％以下、ボトム反射率２．５％以下であった。
次いで、ポジレジストを成膜面に塗布し、所定のブラックマトリクスパターンとなる様、フォトリソ法にてアルカリ現像を伴うパターニングを行い、ウェットエッチングとレジスト剥膜工程を行って、ブラックマトリクスを形成した。

その後、第一の透明基板のブラックマトリクスとは反対の面に、所定の公知の方法により、静電容量式のタッチセンサ部を形成した。

その後、前記の方法にて形成したブラックマトリクス上に、公知の方法により、ＴＦＴの下層膜となる絶縁層とＴＦＴ素子および配線層からなる液晶駆動用回路を形成した。液晶駆動用回路はゲート電極、ゲート絶縁膜、アモルファスシリコン半導体層、ｎ型不純物を拡散したｎ＋層、パッシベーション膜、ソース配線、ドレイン配線からなり、顔料分散方式のカラーフィルタ着色層形成工程を間に挟んで、画素電極をカラーフィルタ着色層のコンタクトホールを介してドレイン配線と接続形成した。

一方、第二の透明基板の片面に透明な対向電極となるＩＴＯ膜を、膜厚１４０ｎｍにスパッタリング成膜してシート抵抗値を５０Ω／□以下とした。

次に、上記第一の透明基板のＴＦＴ側表面と第二の透明基板のＩＴＯ膜面に液晶配向膜を、それぞれ公知の方法により形成した。

次いで、両基板の液晶配向膜側を内側として、所定のセルギャップ間隔を保って重ね合わせ、所定のブラックマトリクス額縁領域に沿って真空注入口を確保して接着し、液晶表示装置用の複数の空セルを作製した。

その後、所定のブラックマトリクス額縁領域の形状に沿って重ね合わせた両基板を断裁し、切り離した上記空セルを真空中に設置して、空セル内に液晶を注入し、液晶注入口を封止し、該当液晶セルの両面に偏光板を貼り付け、対向基板となる第二の透明基板側にバックライト照明光を配置して、タッチセンサ機能付きの透過型液晶表示装置を完成させた。なお、前記空セルは液晶注入を行ってから断裁しても良い。また、真空注入法の代替手段として、液晶滴下工法（ＯＤＦ方式）にて液晶注入を行っても良い。

実施例１において、図１に示すように、液晶分子制御の方式をＴＮ方式に代表される縦電界方式としたタッチセンサ機能付きの透過型液晶表示装置としたが、実施例２では、図３に示すように、ＩＰＳ方式として知られる横（平面）電界方式の液晶分子制御の方式を
採用した。

実施例２において、実施例１と異なる方法は、第二の透明基板に対向電極を設けない点のみであり、その他の工程は実施例１と同様の方法で行った。

実施例３は、実施例１と同様の方法で行ったが、唯一、ブラックマトリクスの素材を変更した。第一の透明基板上に、Ｃｒ酸化物と金属Ｃｒとの２層膜を１層目を低反射酸化物層とするようにスパッタリング法にて成膜した点のみが実施例１と異なる。

実施例１〜３では、第一の透明基板上にブラックマトリクス形成後、引き続いて、その反対面に静電容量式のタッチセンサ部を形成したが、実施例４においては、ブラックマトリクス形成後に、引き続いては、タッチセンサ部の形成を行わず、個々の液晶表示セルを完成させた後、表示側の偏光層上に別途フィルム上に形成されたタッチパネルを接着剤を用いて貼り合わせることで、タッチセンサ機能付き液晶表示装置を作製した。他の工程は実施例１と同様の方法で行った。

上記実施例１〜４により作製したタッチセンサ機能付き液晶表示装置は、いずれも簡単な工程で、液晶表示装置の特性を損なわずに良好な品質のタッチセンサ機能付き液晶表示装置を提供することができた。

１・・・第一の透明基板
２・・・第二の透明基板
３・・・ブラックマトリクス
４・・・絶縁層
５・・・液晶駆動用回路（ＴＦＴ素子および配線層）
６・・・パッシベーション層
７・・・カラーフィルタ着色層
８・・・画素電極
９・・・液晶配向膜
１０・・・液晶表示セル
１１・・・液晶層
１２・・・対向電極
１３・・・偏光層
１４・・・バックライト照明光
１５・・・表示光
２０・・・タッチセンサ部
３１・・・ブラックマトリクス（ストライプ形状）
３２・・・ブラックマトリクス（格子形状）
３３・・・額縁領域

Claims (9)

1. 液晶層を挟んで液晶表示セルを構成する二枚の透明基板の内、表示側に配置される第一の透明基板のセル内面側に、ストライプ形状または格子形状のブラックマトリクスを有し、該ブラックマトリクスが液晶表示セル内の液晶駆動用回路とは絶縁されている液晶表示装置であって、ブラックマトリクスが光遮蔽性の帯状導電体膜からなり、その端部が周辺に配置された同一材による額縁領域に電気的に連結しており、第一の透明基板のブラックマトリクスとは反対側の表示側にタッチセンサ機能を付設したことを特徴とするタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
2. 前記タッチセンサ機能が、前記第一の透明基板の表示側にあたる面を支持基材として静電容量式タッチセンサ部を直接設けて得られたことを特徴とする請求項１に記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
3. 前記タッチセンサ機能が、前記第一の透明基板の表示側にあたる面に、別途作製した静電容量式タッチパネルを貼り合わせて得られたことを特徴とする請求項１に記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
4. 前記第一の透明基板上の液晶表示セル内面側に前記ブラックマトリクス、絶縁層、液晶駆動用回路、がこの順に積層され、液晶駆動用回路として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子および配線層を用いることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
5. 前記液晶表示セルの液晶駆動方式が、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式であって、前記第一の透明基板に対向する第二の透明基板が無電極構造であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
6. 前記液晶表示セルの液晶駆動方式が、縦電界方式であって、前記第一の透明基板に対向する第二の透明基板が対向電極を有する構造であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
7. 前記第一の透明基板および第二の透明基板が、厚さ０．２〜０．７ｍｍの無アルカリガラスからなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
8. 前記ブラックマトリクスが、表示側で低反射となるように、金属と金属酸化物の多層膜構成であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。
9. 前記ブラックマトリクスが、装置の使用状態においてアース電位に保持できる構造を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のタッチセンサ機能付き液晶表示装置。