JP6313471B2 - 位置入力機能付き表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、位置入力機能付き表示装置に関する。

近年、タブレット型ノートパソコンや携帯型情報端末などの電子機器において、操作性及びユーザビリティを高めることを目的として、タッチパネルの搭載が進められている。タッチパネルは、例えば指やタッチペンにより触れることで、表示パネルの表示面の面内における位置情報を入力することができる。これにより、使用者に表示パネルに表示された画像に直接触れるような、直感的な操作を可能としている。このようなタッチパネルの位置入力機能を表示パネルに備えさせるようにしたものの一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。

特許文献１には、タッチパネル内蔵型液晶表示装置において、液晶材料を駆動するための電界を発生させる画素電極及びコモン電極のうちのコモン電極を位置検出に利用しており、このコモン電極と検出電極との間に形成される電界を遮る物資の有無による静電容量の差によってタッチの有無を検出するようにしたものが記載されている。

特開２０１３−２３１８９４号公報

（発明が解決しようとする課題）
上記した特許文献１では、画像を表示するための表示用回路を構成するコモン電極を利用して位置検出を行うようにしているため、表示用回路を構成する他の配線（走査線、信号線など）とコモン電極との位置関係が近くなっている。このため、他の配線とコモン電極との間に干渉が生じて位置検出のための信号に鈍りなどが生じ易いものとなっていた。また、表示を行う期間と、位置検出を行う期間と、を時間的に前後にずらす必要があるため、表示を行う期間及び位置検出を行う期間が共に短くなってしまい、表示性能及び位置検出性能に悪影響を及ぼすおそれがある。特に高精細化や大型化が進行するのに伴って表示を行う期間及び位置検出を行う期間が一層短くなる傾向にあるため、対応に苦慮していた。

本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、位置検出性能の劣化を抑制することを目的とする。

（課題を解決するための手段）
本発明の位置入力機能付き表示装置は、画像が表示される表示領域に配される表示素子と画像が表示されない非表示領域に配されて前記表示素子を駆動する素子駆動部とを少なくとも含む表示用回路を有するアレイ基板と、前記アレイ基板と対向状をなす形で間隔を空けて配される対向基板と、前記対向基板における前記アレイ基板側とは反対側を向いた板面において前記表示領域に配されて前記板面に沿う第１方向に沿って延在する第１位置検出電極と、前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面において前記表示領域に配されて前記板面に沿い且つ前記第１方向と直交する第２方向に沿って延在する第２位置検出電極と、前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面において前記非表示領域に配されるとともに、前記第２位置検出電極に接続されて前記第２位置検出電極に信号を伝送する位置検出配線部であって、前記素子駆動部と重畳する形で配される位置検出配線部と、を備える。

このようにすれば、アレイ基板に有される表示用回路に含まれる表示素子及び素子駆動部によって画像の表示がなされる。アレイ基板と対向状をなす形で間隔を空けて配される対向基板のうち、アレイ基板側とは反対側を向いた板面における表示領域には、第１方向に沿って延在する第１位置検出電極が設けられるのに対し、アレイ基板側を向いた板面における表示領域には、第１方向と直交する第２方向に沿って延在する第２位置検出電極が、同じく非表示領域には、第２位置検出電極に接続されて第２位置検出電極に信号を伝送する位置検出配線部が、それぞれ設けられているから、これらの第１位置検出電極及び第２位置検出電極の間に生じる静電容量の変化に基づいて使用者の入力位置を検知することができる。

そして、第２位置検出電極は、表示用回路を有するアレイ基板との間に間隔を空けて対向状に配される対向基板におけるアレイ基板側を向いた板面に設けられているから、仮に第２位置検出電極をアレイ基板に設けるようにした場合に比べると、表示用回路から遠い配置となっている。これにより、表示用回路と第２位置検出電極との間に干渉が生じ難くなり、もって位置検出のための信号に鈍りなどが生じ難いものとなる。その上、仮にアレイ基板に設けられた表示用回路の一部を第２位置検出電極として利用した場合には、表示を行う期間と、位置検出を行う期間と、を時間的に前後にずらす必要があるものの、上記のように第２位置検出電極を表示用回路からは独立した形で対向基板に設けるようにしているので、表示を行う期間と、位置検出を行う期間と、が時間的に重なる関係となっても構わない。従って、表示を行う期間及び位置検出を行う期間を共に長く確保することができ、それにより高精細化及び大型化に好適とされる。さらには、位置検出配線部は、素子駆動部と重畳する形で配されているから、素子駆動部からノイズが生じた場合でも、そのノイズを位置検出配線部によって遮蔽することができる。以上により、位置検出性能が劣化し難いものとなる。

本発明の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記素子駆動部は、前記第２位置検出電極を前記第２方向について両側から挟み込む形でそれぞれ配されているのに対し、前記位置検出配線部には、前記第２位置検出電極における前記第２方向についての一方の端部に接続されるとともに一方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるものが含まれており、前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面において前記非表示領域に配され、前記第２位置検出電極における前記第２方向についての他方の端部に接続されるとともに他方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるダミー配線部を備える。このようにすれば、位置検出配線部には、第２位置検出電極における第２方向についての一方の端部に接続されるとともに一方の素子駆動部と重畳する形で配されるものが含まれることで、一方の素子駆動部の遮蔽が図られる。一方、第２位置検出電極のうち、位置検出配線部とは接続されることがない他方の端部に接続されるダミー配線部が配されており、このダミー配線部が他方の素子駆動部と重畳する形で配されているので、他方の素子駆動部の遮蔽を図ることができる。以上により、第２位置検出電極を第２方向について両側から挟み込む形でそれぞれ配される素子駆動部の遮蔽が図られる。しかも、ダミー配線部を利用して第２位置検出電極の電気的性能（断線の有無など）を検査することが可能とされる。

（２）前記第２位置検出電極、前記位置検出配線部、及び前記ダミー配線部を前記アレイ基板側から覆う形で配される保護膜を備えており、前記保護膜のうち前記ダミー配線部と重畳する位置には、開口部が形成されている。このようにすれば、保護膜により第２位置検出電極、位置検出配線部、及びダミー配線部の保護を図ることができる。保護膜のうちダミー配線部と重畳する位置に形成した開口部を通してダミー配線部に検査装置を接触させることが可能となる。これにより、製造に際して保護膜を設けた後の段階においても第２位置検出電極の検査を行うことができる。

（３）前記第２位置検出電極は、前記第１方向に沿って複数が並んで配されているのに対し、前記位置検出配線部には、前記第２位置検出電極における前記一方の端部に接続されるとともに前記一方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるものと、前記第２位置検出電極における前記他方の端部に接続されるとともに前記他方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるものと、が含まれており、前記ダミー配線部には、前記第２位置検出電極における前記他方の端部に接続されるとともに前記他方の素子駆動部と重畳する形で配されるものと、前記第２位置検出電極における前記一方の端部に接続されるとともに前記一方の素子駆動部と重畳する形で配されるものと、が含まれている。このようにすれば、第１方向に沿って並ぶ複数の第２位置検出電極には、一方の端部に位置検出配線部が接続されるものと、他方の端部に位置検出配線部が接続されるものと、が含まれているので、仮に全ての第２位置検出電極における一方の端部に対して位置検出配線部を接続するようにした場合に比べると、位置検出配線部の個々の配置スペースが大きくなるので、各位置検出配線部の線幅を広く確保することができ、それにより位置検出感度を高くすることができる。そして、一方の素子駆動部には、第２位置検出電極における一方の端部に接続される位置検出配線部と、第２位置検出電極における一方の端部に接続されるダミー配線部と、が重畳する形で配されるのに対し、他方の素子駆動部には、第２位置検出電極における他方の端部に接続される位置検出配線部と、第２位置検出電極における他方の端部に接続されるダミー配線部と、が重畳する形で配されているので、各素子駆動部がそれぞれ良好に遮蔽される。

（４）互いに異なる色を呈する複数の画素部と、隣り合う前記画素部間を仕切る遮光部と、を備えており、前記第１位置検出電極は、透明電極膜からなるのに対し、前記第２位置検出電極は、少なくとも金属膜からなり且つ前記遮光部の一部と重畳する形で配されている。このようにすれば、第２位置検出電極は、少なくとも金属膜からなるものとされているから、第２位置検出電極に係る抵抗値が十分に低いものとなる。しかも、この金属膜からなる第２位置検出電極は、隣り合う画素部間を仕切る遮光部の一部と重畳する形で表示領域に配されているから、第２位置検出電極が表示領域における表示に悪影響を与え難いものとなっている。なお、第１位置検出電極は、透明電極膜からなるものとされるので、表示領域における表示に悪影響を及ぼし難いものとなっている。

（５）前記遮光部は、前記第１方向に沿って延在する部分と前記第２方向に沿って延在する部分とを有するよう、平面形状が格子状をなすものとされており、前記第２位置検出電極は、前記画素部の分の間隔を空けつつ前記第１方向に沿って並ぶ複数の分割第２位置検出電極に分割されてなるものとされるとともに、複数の前記分割第２位置検出電極がそれぞれ前記遮光部のうちの前記第２方向に沿って延在する部分と重畳する形で配されてなる。このようにすれば、第２方向に沿って延在する複数の分割第２位置検出電極が、画素部の分の間隔を空けつつ第１方向に沿って並んで配されるとともに、平面形状が格子状をなす遮光部のうちの第２方向に沿って延在する部分に対して重畳する形で配されているから、第２位置検出電極の配線抵抗を好適に抑制しつつも、画素部の開口率を低下させることが避けられて表示に悪影響が及び難いものとされる。

（６）前記複数の画素部は、前記アレイ基板の前記表示領域に配されて前記表示素子に接続される複数の画素電極と、前記対向基板の前記表示領域にて前記複数の画素電極とそれぞれ重畳する形で配されて互いに異なる色を呈する複数の着色部からなるカラーフィルタと、から構成されており、前記カラーフィルタは、前記複数の着色部が前記第１方向に沿って延在して前記遮光部のうちの前記第２方向に沿って延在する部分を横切るとともに前記分割第２位置検出電極に対して前記アレイ基板側に重なる形で配されるよう構成されている。このようにすれば、遮光部に重なる形で配される分割第２位置検出電極に対してカラーフィルタをなす複数の着色部が重なる形で配されるので、分割第２位置検出電極を設けることに伴って対向基板におけるアレイ基板側の表面に生じ得る段差が緩和され、同表面の平坦化を図る上で好適とされる。しかも、仮にカラーフィルタをなす複数の着色部が、平面形状が格子状をなす遮光部により囲まれた範囲のみに配された場合に比べると、遮光部のうちの第２方向に沿って延在する部分に重なる形で配される分割第２位置検出電極と、アレイ基板の表示領域に配されて表示素子に接続される画素電極と、の間の距離が相対的に大きくなるので、両者の間に形成される寄生容量を低減させることができる。これにより、位置検出感度の向上が図られる。また、カラーフィルタをなす複数の着色部が第１方向に沿って延在する形態とされているので、仮にカラーフィルタをなす複数の着色部が、平面形状が格子状をなす遮光部により囲まれた範囲のみに配された場合に比べると、複数の着色部を細かく仕切る必要がなくなってそのパターニングが容易なものとなり、高精細化などを図る上で好適となる。

（７）前記第２位置検出電極は、前記遮光部に対して前記アレイ基板側に重なる形で配されている。このようにすれば、対向基板側から入射した外光が第２位置検出電極に直接当たる前に遮光部により遮光される。これにより、第２位置検出電極が外光を反射してその反射光が視認される事態を回避できるから、表示品位に優れる。

（８）前記第２位置検出電極は、前記遮光部に対して前記対向基板側に重なる形で配されている。このようにすれば、仮に第２位置検出電極を遮光部に対してアレイ基板側に重なる形で配した場合に比べると、第２位置検出電極が設けられる下地の平坦性が高いものとなる。これにより、第２位置検出電極のパターニング精度が高いものとなる。

（９）前記第２位置検出電極は、前記金属膜と前記金属膜に対して積層される透明電極膜との積層構造とされる。遮光部に対して対向基板側に重なる形で配される第２位置検出電極には、対向基板側から入射した外光が直接当たることになるため、仮に第２位置検出電極を金属膜のみから構成した場合には、第２位置検出電極による反射光量を減少させるべく、第２位置検出電極の線幅を極めて狭くする必要が生じる場合がある。その点、上記したように第２位置検出電極を金属膜と透明電極膜との積層構造とすれば、反射光量を減少させるべく金属膜の線幅を十分に狭くした場合でも、反射光の問題が生じ難い透明電極膜の線幅を広く確保することで、反射光量の減少を図りつつ第２位置検出電極の面積を十分に確保することができる。第２位置検出電極の面積が十分に確保されれば、位置検出感度も十分に確保される。

（１０）前記位置検出配線部のうち、少なくとも前記第２位置検出電極と接続される側の端部は、前記金属膜と前記金属膜に対して積層される透明電極膜との積層構造とされる。位置検出配線部は、非表示領域に配されているものの、位置検出配線部のうちの第２位置検出電極と接続される側の端部に対向基板側から入射した外光が直接当たって反射が生じると、表示品位を損なうおそれがある。仮に位置検出配線部を金属膜のみから構成した場合には、位置検出配線部による反射光量を減少させるべく、少なくとも第２位置検出電極と接続される側の端部については、位置検出配線部の線幅を極めて細くする必要が生じる場合がある。その点、上記したように位置検出配線部のうち、少なくとも第２位置検出電極と接続される側の端部を金属膜と透明電極膜との積層構造とすれば、反射光量を減少させるべく金属膜の線幅を十分に狭くした場合でも、反射光の問題が生じ難い透明電極膜の線幅を広く確保することで、反射光量の減少を図りつつ位置検出配線部の面積を十分に確保することができる。位置検出配線部の面積が十分に確保されれば、位置検出感度も十分に確保される。

（１１）前記対向基板を前記アレイ基板側とは反対側から保持するとともに、前記非表示領域のうちの少なくとも外側部分と重畳する形で配される保持部材が備えられており、前記位置検出配線部は、少なくとも前記保持部材とは非重畳とされる部分が前記金属膜と前記透明電極膜との積層構造とされる。このようにすれば、位置検出配線部のうちの保持部材とは非重畳とされる部分は、対向基板側から入射される外光が保持部材によって遮られることがないので、その部分を金属膜と透明電極膜との積層構造とすることで、反射光量の減少を図りつつ位置検出配線部の面積を十分に確保することができる。

（１２）前記アレイ基板と前記対向基板との間に介在するとともに前記遮光部及び前記第２位置検出電極と重畳する形で配されるスペーサ部を備えており、前記遮光部及び前記第２位置検出電極は、前記スペーサ部が配置されないスペーサ非配置部と、前記スペーサ部が配されるとともに前記スペーサ非配置部よりも幅広なスペーサ配置部と、をそれぞれ有している。このようにすれば、第２位置検出電極は、スペーサ非配置部よりも幅広なスペーサ配置部を有しているので、第２位置検出電極の面積をより大きくすることができる。これにより、位置検出感度をより高めることができる。また、遮光部は、スペーサ配置部がスペーサ非配置部よりも幅広とされるとともにそのスペーサ配置部と第２位置検出電極のスペーサ配置部とには、アレイ基板と対向基板との間に介在するスペーサ部が配されているので、第２位置検出電極のスペーサ配置部が表示領域における表示に悪影響を与え難いものとなっている。

（１３）前記第２位置検出電極は、前記第１方向に沿って複数が並んで配されているのに対し、前記位置検出配線部は、前記第２位置検出電極における前記第２方向についての一方の端部に接続されるとともに前記第１方向に沿って延在する形で複数が前記第２方向に沿って並んで配されており、前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面のうちの前記非表示領域における前記第１方向についての一端部には、前記位置検出配線部に接続されて前記信号を供給する信号供給部が設けられており、前記位置検出配線部は、前記第１方向について前記信号供給部に近い前記第２位置検出電極に接続されるものに比べて、前記第１方向について前記信号供給部から遠い前記第２位置検出電極に接続されるものの方が線幅が広くなるよう構成されている。第１方向について信号供給部から遠い第２位置検出電極に接続される位置検出配線部は、第１方向について信号供給部に近い第２位置検出電極に接続される位置検出配線部に比べると、第１方向についての延面距離が大きくなる傾向にあるものの、線幅が相対的に広くされることで、配線抵抗が高くなるのが抑制されるようになっている。これにより、第１方向について信号供給部から遠い第２位置検出電極に接続される位置検出配線部と、第１方向について信号供給部に近い第２位置検出電極に接続される位置検出配線部と、の間に生じ得る配線抵抗の差を緩和することができ、それにより位置検出性能がより劣化し難いものとなる。

（１４）前記対向基板における前記アレイ基板側とは反対側を向いた板面には、前記第２方向について隣り合う前記第１位置検出電極の間に配されるとともに前記透明電極膜からなるフローティング電極が設けられている。このようにすれば、表示領域には、第２方向について隣り合う第１位置検出電極の間に透明電極膜からなるフローティング電極が設けられているから、第１位置検出電極と第２方向について隣り合う第１位置検出電極の間の領域とで透過率が同等になる。これにより、表示領域における透過率の均一化を図ることができ、表示品位を高いものとすることができる。

（１５）前記対向基板における前記アレイ基板側とは反対側を向いた板面のうちの前記非表示領域には、前記透明電極膜からなる接地電極が設けられており、前記接地電極は、前記素子駆動部及び位置検出配線部と重畳する形で配されている。このようにすれば、接地電極は、素子駆動部と重畳する形で配されているから、素子駆動部からノイズが生じた場合でも、そのノイズを接地電極によって遮蔽することができる。しかも、接地電極は、位置検出配線部と重畳する形で配されているから、位置検出配線部と第１位置検出電極との間に不要な容量カップリングが生じるのを避けることができる。以上により、位置検出性能がより劣化し難いものとなる。

（発明の効果）
本発明によれば、位置検出性能の劣化を抑制することができる。

本発明の実施形態１に係る液晶表示装置の断面図 液晶表示装置に備えられる液晶パネルの平面図 液晶パネルを構成するアレイ基板の平面図 液晶パネルを構成するＣＦ基板の平面図 液晶パネルを構成するＣＦ基板の底面図 アレイ基板の中央側部分を拡大した平面図 図６のvii-vii線断面図 図６のviii-viii線断面図 ＣＦ基板の中央側部分を拡大した平面図 ＣＦ基板のうち、長辺方向についての端子部側とは反対側の端部における短辺方向についての端側部分を拡大した底面図 ＣＦ基板のうち、長辺方向についての端子部側の端部における短辺方向についての端側部分を拡大した底面図 ＣＦ基板のうち、長辺方向についての端子部側とは反対側の端部における短辺方向についての端側部分をさらに拡大した底面図 本発明の実施形態２に係る液晶パネルを構成するＣＦ基板の平面図 本発明の実施形態３に係る液晶パネルを構成するＣＦ基板の端側部分をさらに拡大した底面図 図１４のxv-xv線断面図 本発明の実施形態４に係る液晶パネルを構成するＣＦ基板の底面図 ＣＦ基板の端側部分を拡大した底面図 図１７のxviii-xviii線断面図 本発明の実施形態５に係る液晶パネルを構成するＣＦ基板の端側部分を拡大した底面図 図１９のxx-xx線断面図 図１９のxxi-xxi線断面図 図１９のxxii-xxii線断面図 本発明の実施形態６に係る液晶パネルを構成するＣＦ基板のうち、長辺方向についての端子部側とは反対側の端部における短辺方向についての端側部分をさらに拡大した底面図 図２３のxxiv-xxiv線断面図

＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図１２によって説明する。本実施形態では、位置入力機能を備えた液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、上下方向については、図２などを基準とし、且つ同図上側を表側とするとともに同図下側を裏側とする。

液晶表示装置１０は、図１及び図２に示すように、画像を表示するとともにその表示される画像に基づいて使用者が入力する位置情報を検出することが可能な液晶パネル（位置入力機能付き表示パネル）１１と、液晶パネル１１に対して表示に利用する光を供給する外部光源であるバックライト装置（照明装置）１２と、を備える。また、液晶表示装置１０は、バックライト装置１２を収容するシャーシ１３と、シャーシ１３との間でバックライト装置１２を保持するフレーム１４と、フレーム１４との間で液晶パネル１１を保持するベゼル（保持部材）１５と、を備えている。このうち、バックライト装置１２は、光源（例えば冷陰極管、ＬＥＤ、有機ＥＬなど）と、光源から発せられる面状に変換するなどの光学機能を有する光学部材と、を少なくとも備えてなるものとされる。

本実施形態に係る液晶表示装置１０は、携帯電話（スマートフォンなどを含む）、ノートパソコン（タブレット型ノートパソコンなどを含む）、携帯型情報端末（電子ブックやＰＤＡなどを含む）、デジタルフォトフレーム、携帯型ゲーム機などの各種電子機器（図示せず）に用いられるものである。このため、液晶表示装置１０を構成する液晶パネル１１の画面サイズは、数インチ〜１０数インチ程度とされ、一般的には小型または中小型に分類される大きさとされている。

液晶パネル１１について説明する。液晶パネル１１は、図２に示すように、全体として縦長な方形状（矩形状）をなしており、その長辺方向がＹ軸方向と、短辺方向がＸ軸方向と、それぞれ一致している。液晶パネル１１は、画像を表示可能な表示領域（アクティブエリア）ＡＡと、表示領域ＡＡを取り囲む額縁状（枠状）をなすとともに画像を表示不能な非表示領域（ノンアクティブエリア）ＮＡＡと、に区分されている。この液晶パネル１１においては、その長辺方向における一方の端部側（図２に示す上側）に片寄った位置に表示領域ＡＡが配されている。また、非表示領域ＮＡＡは、表示領域ＡＡを取り囲む略枠状の領域（後述するＣＦ基板１１ａにおける額縁部分）と、長辺方向の他方の端部側（図２に示す下側）に確保された領域（後述するアレイ基板１１ｂのうちＣＦ基板１１ａとは重畳せずに露出する部分）と、からなり、このうちの後者は、液晶パネル１１を駆動するドライバ（パネル駆動部）１６と、フレキシブル基板（外部接続部品）１７と、が実装される実装領域となっている。フレキシブル基板１７は、可撓性を有するとともに、液晶パネル１１と外部の信号供給源である制御回路基板１８とを接続し、制御回路基板１８から供給される各種信号をドライバ１６などに伝送することが可能とされる。ドライバ１６は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなるものとされ、制御回路基板１８から供給される入力信号を処理して出力信号を生成し、その出力信号を液晶パネル１１の表示領域ＡＡへ向けて出力するものとされる。なお、図２では、ＣＦ基板１１ａよりも一回り小さな枠状の一点鎖線が表示領域ＡＡの外形を表しており、当該一点鎖線よりも外側の領域が非表示領域ＮＡＡとなっている。

液晶パネル１１は、図２及び図７に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間に介在し、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（液晶）１１ｃと、を備え、両基板１１ａ，１１ｂが液晶層１１ｃの厚さ分のギャップを維持した状態で図示しないシール部によって貼り合わせられている。一対の基板１１ａ，１１ｂのうち表側（正面側）がＣＦ基板（対向基板）１１ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板（素子基板、アクティブマトリクス基板）１１ｂとされる。これらＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂは、ほぼ透明な（高い透光性を有する）ガラス基板ＧＳを備えており、当該ガラス基板ＧＳ上に各種の膜を既知のフォトリソグラフィ法などにより積層形成してなるものとされる。このうち、ＣＦ基板１１ａは、図２に示すように、短辺寸法がアレイ基板１１ｂと概ね同等であるものの、長辺寸法がアレイ基板１１ｂよりも小さなものとされるとともに、アレイ基板１１ｂに対して長辺方向についての一方（図２に示す上側）の端部を揃えた状態で貼り合わせられている。従って、アレイ基板１１ｂのうち長辺方向についての他方（図２に示す下側）の端部は、所定範囲にわたってＣＦ基板１１ａが重なり合うことがなく、表裏両板面が外部に露出した状態とされており、ここに既述したドライバ１６及びフレキシブル基板１７の実装領域が確保されている。両基板１１ａ，１１ｂの内面側、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜（図示せず）がそれぞれ液晶層１１ｃに直接臨む形で形成されている。また、両基板１１ａ，１１ｂの外面側には、それぞれ偏光板（図示せず）が貼り付けられている。

アレイ基板１１ｂ及びＣＦ基板１１ａにおける表示領域ＡＡ内に存在する構成について簡単に説明する。アレイ基板１１ｂの内面側（液晶層１１ｃ側、ＣＦ基板１１ａとの対向面側）における表示領域ＡＡには、図６及び図７に示すように、スイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor、表示素子）１９及び画素電極２０が多数個ずつマトリクス状に並んで設けられるとともに、これらＴＦＴ１９及び画素電極２０の周りには、格子状をなすゲート配線２１及びソース配線２２が取り囲むようにして配設されている。言い換えると、格子状をなすゲート配線２１及びソース配線２２の交差部に、ＴＦＴ１９及び画素電極２０が行列状に並んで配置されている。ゲート配線２１とソース配線２２とがそれぞれＴＦＴ１９のゲート電極１９ａとソース電極１９ｂとに接続され、画素電極２０がＴＦＴ１９のドレイン電極１９ｃに接続されている。これらＴＦＴ１９、画素電極２０、ゲート配線２１、及びソース配線２２は、画像を表示するための回路である表示用回路の一部を構成している。なお、ＴＦＴ１９の詳しい構成については後に説明する。画素電極２０は、平面に視て縦長の方形状（矩形状）をなしている。そして、アレイ基板１１ｂには、共通電位（基準電位）が供給されることで上記した画素電極２０との間で電界を形成する共通電極２３が設けられている。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＩＰＳ（In-Plane Switching）モードをさらに改良したＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされていて、アレイ基板１１ｂ側に画素電極２０及び共通電極２３を共に形成し、且つこれら画素電極２０と共通電極２３とを異なる層に配してなるものである。画素電極２０には、平面に視てＸ軸方向及びＹ軸方向に対する斜め方向に沿って延在するスリット２０ａが間欠的に並んで形成されている。このスリット２０ａによって画素電極２０と異なる層に配された共通電極２３との間に電位差が生じたとき、アレイ基板１１ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１１ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が印加されるようになっており、そのフリンジ電界を利用して液晶層１１ｃに含まれる液晶分子の配向状態を適切にスイッチングすることができる。

一方、ＣＦ基板１１ａの内面側（液晶層１１ｃ側、アレイ基板１１ｂとの対向面側）における表示領域ＡＡには、図７に示すように、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が、アレイ基板１１ｂ側の各画素電極２０と平面に視て重畳するよう多数個マトリクス状に並列して配置されたカラーフィルタ２４が設けられている。カラーフィルタ２４をなす各着色部間には、混色を防ぐための略格子状の遮光部（ブラックマトリクス）２５が形成されている。遮光部２５は、上記したゲート配線２１及びソース配線２２と平面に視て重畳する配置とされる。遮光部２５は、図７及び図８の記載から明らかなように、Ｘ軸方向に沿って延在する部分がＹ軸方向に沿って延在する部分よりも太くなっており、その理由は一般的にはＴＦＴ（表示素子）付近を遮光するためである。カラーフィルタ２４及び遮光部２５の表面には、平坦化膜（保護膜、オーバーコート膜）２６が設けられている。なお、当該液晶パネル１１においては、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３色の着色部及びそれらと対向する３つの画素電極２０の組によって表示単位である１つの表示画素が構成されている。表示画素は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の画素部ＰＸからなる。各画素部ＰＸは、画素電極２０と、それと対向状をなす着色部と、の組によって構成される。これら各色の画素部ＰＸは、液晶パネル１１の板面において行方向（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し並べて配されることで、画素部ＰＸ群を構成しており、この画素部ＰＸ群が列方向（Ｙ軸方向）に沿って多数並んで配されている。なお、上記した遮光部２５は、互いに隣り合う画素部ＰＸの間を仕切る形で配されている。

次に、アレイ基板１１ｂの内面側に既知のフォトリソグラフィ法などによって積層形成された各種の膜の具体的な積層順などについて詳しく説明する。アレイ基板１１ｂには、液晶パネル１１が有する機能のうちの、画像を表示する機能（表示機能）を発揮するための構造物が主に設けられている。詳しくは、アレイ基板１１ｂには、図７に示すように、下層側（ガラス基板ＧＳ側、裏側）から順に、ベースコート膜２７、半導体膜２８、ゲート絶縁膜（無機絶縁膜）２９、第１金属膜（ゲート金属膜）３０、第１層間絶縁膜（無機絶縁膜）３１、第２金属膜（ソース金属膜）３２、平坦化膜（有機絶縁膜）３３、第１透明電極膜３４、第２層間絶縁膜（無機絶縁膜）３５、第２透明電極膜３６、が積層形成されている。また、図示は省略しているが、第２層間絶縁膜３５及び第２透明電極膜３６の上層側には、既述した配向膜が形成されている。

ベースコート膜２７は、アレイ基板１１ｂをなすガラス基板ＧＳの表面の全体を覆うベタ状のパターンとされており、例えば酸化珪素（ＳｉＯ２）、窒化珪素（ＳｉＮｘ）、窒化酸化珪素（ＳｉＯＮ）などからなる。半導体膜２８は、ベースコート膜２７の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとにそれぞれ配されるようパターニングされている。半導体膜２８は、少なくとも表示領域ＡＡにおいては、後述するＴＦＴ１９の配置に応じて島状にパターニングされている。半導体膜２８は、多結晶化されたシリコン薄膜（多結晶シリコン薄膜）の一種であるＣＧシリコン（Continuous Grain Silicon）薄膜からなるものとされている。ＣＧシリコン薄膜は、例えばアモルファスシリコン薄膜に金属材料を添加し、５５０℃以下程度の低温で短時間の熱処理を行うことで形成されており、それによりシリコン結晶の結晶粒界における原子配列に連続性を有している。ゲート絶縁膜２９は、ベースコート膜２７及び半導体膜２８の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形のベタ状のパターンとされており、例えば酸化珪素（ＳｉＯ２）からなるものとされる。

第１金属膜３０は、ゲート絶縁膜２９の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとにそれぞれ配されるようパターニングされており、例えばチタン（Ｔｉ）及び銅（Ｃｕ）の積層膜により形成されている。この第１金属膜３０により、既述したゲート配線２１及びゲート電極１９ａなどが構成されている。第１層間絶縁膜３１は、ゲート絶縁膜２９及び第１金属膜３０の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形のベタ状のパターンとされており、例えば酸化珪素（ＳｉＯ２）からなるものとされる。この第１層間絶縁膜３１により、既述したゲート配線２１とソース配線２２との交差部間が絶縁状態に保たれている。第２金属膜３２は、第１層間絶縁膜３１の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとにそれぞれ配されるようパターニングされており、例えばチタン（Ｔｉ）及び銅（Ｃｕ）の積層膜により形成されている。この第２金属膜３２により、既述したソース配線２２、ソース電極１９ｂ、及びドレイン電極１９ｃなどが構成されている。平坦化膜３３は、第１層間絶縁膜３１及び第２金属膜３２の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形のベタ状のパターンとされており、例えばポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂材料などからなるものとされる。平坦化膜３３は、その膜厚が、無機絶縁膜である他の絶縁膜２９，３１，３５に比べて相対的に大きなものとされている。従って、平坦化膜３３は、アレイ基板１１ｂにおける液晶層１１ｃ側の面（配向膜が配される面）を好適に平坦化することができる。

第１透明電極膜３４は、平坦化膜３３の上層側に積層されるとともに、少なくとも表示領域ＡＡにおいて概ねベタ状のパターンとして形成されており、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）或いはＺｎＯ（Zinc Oxide）といった透明電極材料からなる。この第１透明電極膜３４により、概ねベタ状のパターンである共通電極２３が構成されている。第２層間絶縁膜３５は、平坦化膜３３及び第１透明電極膜３４の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形のベタ状のパターンとされており、例えば窒化珪素（ＳｉＮｘ）からなるものとされる。第２透明電極膜３６は、第２層間絶縁膜３５の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡにおいてＴＦＴ１９の配置に応じて島状にパターニングされており、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）或いはＺｎＯ（Zinc Oxide）といった透明電極材料からなる。この第２透明電極膜３６により画素電極２０が構成されている。なお、ゲート絶縁膜２９、第１層間絶縁膜３１、平坦化膜３３、及び第２層間絶縁膜３５には、アレイ基板１１ｂの製造工程においてパターニングされることで、それぞれの所定の位置にコンタクトホールＣＨ１，ＣＨ２などの開口が形成されるようになっている。

アレイ基板１１ｂにおける表示領域ＡＡに配されるＴＦＴ１９は、図７に示すように、半導体膜２８からなるチャネル部１９ｄと、チャネル部１９ｄに対してゲート絶縁膜２９を介して上層側に重畳する形で配されるゲート電極１９ａと、ゲート電極１９ａに対して第１層間絶縁膜３１を介して上層側に配されるソース電極１９ｂ及びドレイン電極１９ｃと、を備えており、いわゆるトップゲート型（スタガ型）とされている。このうち、ソース電極１９ｂ及びドレイン電極１９ｃは、ゲート絶縁膜２９及び第１層間絶縁膜３１にそれぞれ開口形成されたコンタクトホールＣＨ１を通してチャネル部１９ｄに対して接続されており、それによりソース電極１９ｂとドレイン電極１９ｃとの間での電子の移動が可能とされている。チャネル部１９ｄをなす半導体膜２８は、既述した通りＣＧシリコン薄膜からなるものとされる。このＣＧシリコン薄膜は、アモルファスシリコン薄膜などに比べると、電子移動度が例えば２００〜３００ｃｍ２／Ｖｓ程度と高くなっているので、このＣＧシリコン薄膜からなる半導体膜２８をＴＦＴ１９のチャネル部１９ｄとすることで、ＴＦＴ１９を小型化して画素電極２０の透過光量を極大化することができ、もって高精細化及び低消費電力化を図る上で好適とされる。ＴＦＴ１９のドレイン電極１９ｃには、平坦化膜３３及び第２層間絶縁膜３５にそれぞれ開口形成されたコンタクトホールＣＨ２を通して第２透明電極膜３６からなる画素電極２０が接続されている。これにより、ＴＦＴ１９のゲート電極１９ａを通電すると、チャネル部１９ｄを介してソース電極１９ｂとドレイン電極１９ｃとの間に電流が流されるとともに画素電極２０に所定の電位が印加される。なお、第１透明電極膜３４からなる共通電極２３は、第２層間絶縁膜３５を挟み込む形で各画素電極２０と平面に視て重畳する配置とされている。なお、既述した通り、概ねベタ状のパターンとされる共通電極２３のうち、平坦化膜３３及び第２層間絶縁膜３５のコンタクトホールＣＨ２と平面に視て重畳する位置には、画素電極２０のコンタクト部分を通すための開口が形成されている。

次に、アレイ基板１１ｂにおける非表示領域ＮＡＡ内に存在する構成について説明する。アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡのうち、表示領域ＡＡに対してＸ軸方向（液晶パネル１１の短辺方向）について隣り合う位置には、図３に示すように、ＴＦＴ１９などと共に表示用回路を構成するモノリシック回路部（素子駆動部）３７が設けられている。モノリシック回路部３７は、表示領域ＡＡをＸ軸方向について両側から挟み込む形で一対備えられており、Ｙ軸方向に沿って表示領域ＡＡのほぼ全長にわたって延在する範囲にわたって設けられている。モノリシック回路部３７は、表示領域ＡＡから引き出されるゲート配線２１に接続されることで、ドライバ１６からの出力信号をＴＦＴ１９に供給するための制御を行うことが可能とされている。モノリシック回路部３７は、表示領域ＡＡ内のＴＦＴ１９と同じ半導体膜２８をベースとしてアレイ基板１１ｂ上にモノリシックに形成されており、それによりＴＦＴ１９への出力信号の供給を制御するための制御回路及びその回路素子を有している。この制御回路をなす回路素子には、例えば、チャネル部として半導体膜２８を用いた図示しない回路用ＴＦＴ（回路用薄膜トランジスタ）などが含まれている。制御回路には、第１金属膜３０及び第２金属膜３２を用いた図示しない回路用配線部などが含まれている。モノリシック回路部３７は、各ゲート配線２１を順次に走査する走査回路を有している。また、モノリシック回路部３７には、レベルシフタ回路やＥＳＤ保護回路などの付属回路を備えることも可能である。なお、モノリシック回路部３７は、アレイ基板１１ｂ上に形成された図示しない接続配線によってドライバ１６に接続されている。

ところで、本実施形態に係る液晶パネル１１は、既述した通り、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置情報を検出する位置入力機能と、を併有しており、このうちの位置入力機能を発揮するためのタッチパネルパターンを内蔵（インセル化）している。タッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が相互容量方式とされるものである。このタッチパネルパターンは、専らＣＦ基板１１ａに設けられている。詳しくは、タッチパネルパターンは、図４及び図５に示すように、ＣＦ基板１１ａのうち、外面側（液晶層１１ｃ側とは反対側、表側、表示面側）に設けられる検出電極（第１位置検出電極、受信電極）３８と、内面側（液晶層１１ｃ側、裏側、表示面側とは反対側）に設けられる駆動電極（第２位置検出電極、送信電極）３９と、を少なくとも有してなる。このタッチパネルパターンによれば、検出電極３８と駆動電極３９との間に形成される電界を遮る物質（使用者の指など）の有無による静電容量の差によって位置入力（タッチ操作）の有無を検出するようことができるものとされる。タッチパネルパターンを構成する検出電極３８及び駆動電極３９は、ＣＦ基板１１ａの表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１における表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域とほぼ一致していることになる。そして、ＣＦ基板１１ａの内面における非タッチ領域（非表示領域ＮＡＡ）である、短辺方向についての両端部には、駆動電極３９に接続されて駆動電極３９に信号を伝送するための位置検出配線部４０がそれぞれ設けられている。

また、ＣＦ基板１１ａのうちの非タッチ領域である、長辺方向についての一端部（図４及び図５に示す下側の端部）の外面側には、図示しないタッチパネルコントローラと検出電極３８との間で信号を伝送するためのタッチパネル用フレキシブル基板４１が接続されている。タッチパネル用フレキシブル基板４１は、液晶パネル１１に接続された表示用のフレキシブル基板１７と平面に視て概ね重畳する配置とされる。また、ＣＦ基板１１ａの内面における非タッチ領域において、タッチパネル用フレキシブル基板４１と重畳する部分には、位置検出配線部４０のうち駆動電極３９に接続される側とは反対側の端部に接続されるＣＦ基板側コンタクト部（信号供給部、対向基板側信号供給部）４２が一対設けられている。これに対し、アレイ基板１１ｂのうちの内面における非表示領域ＮＡＡにおいて、ＣＦ基板側コンタクト部４２と重畳する部分には、ＣＦ基板側コンタクト部４２に対して導通接続されるアレイ基板側コンタクト部（素子基板側信号供給部）４３が一対設けられている。従って、図示しないタッチパネルコントローラからの信号は、フレキシブル基板１７、アレイ基板側コンタクト部４３、ＣＦ基板側コンタクト部４２、及び位置検出配線部４０を順次に介して駆動電極３９へと伝送されるようになっている。なお、ＣＦ基板側コンタクト部４２及びアレイ基板側コンタクト部４３は、液晶層１１ｃを封止するためのシール部（図示せず）と平面に視て重畳する配置とされるとともに、このシール部に含有させた導電性粒子を介して相互の導通接続が図られるものとされる。

検出電極３８は、図４及び図９に示すように、ＣＦ基板１１ａの外面における表示領域ＡＡにおいて、Ｙ軸方向（第１方向）に沿って延在する形で設けられており、平面形状が縦長の方形状をなしている。検出電極３８は、画素電極２０や共通電極２３などと同様に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）或いはＺｎＯ（Zinc Oxide）といった透明電極材料を用いた透明電極膜４４からなるものとされる。このため、検出電極３８は、ＣＦ基板１１ａの表示領域ＡＡに配されているものの、使用者から視認され難いものとされる。検出電極３８は、その長さ寸法が表示領域ＡＡの長辺寸法よりもさらに大きなものとされており、その一方の端部（図４に示す下側の端部）が非表示領域ＮＡＡに達するとともにタッチパネル用フレキシブル基板４１に接続されている。検出電極３８は、その線幅が表示画素（画素部ＰＸ）のＸ軸方向についての寸法などに比べると、大きなものとなっており、複数の表示画素（画素部ＰＸ）の間に跨る大きさを有している（図７を参照）。具体的には、検出電極３８の線幅が数ｍｍ程度とされており、表示画素（画素部ＰＸ）のＸ軸方向についての寸法である数百μｍ程度よりも遙かに大きなものとされる。

検出電極３８は、図４及び図９に示すように、ＣＦ基板１１ａの外面における表示領域ＡＡにおいてＸ軸方向（第２方向）について複数が間隔を空けて並んで配されている。Ｘ軸方向について隣り合う検出電極３８の間の間隔は、それぞれ等しいものとされる。ＣＦ基板１１ａの外面における表示領域ＡＡにおいてＸ軸方向について隣り合う検出電極３８の間には、検出電極３８とは物理的に及び電気的に切り離されたフローティング電極４５が設けられている。フローティング電極４５は、検出電極３８と同じ透明電極膜４４からなり、ＣＦ基板１１ａの外面において検出電極３８と同層に配されている。フローティング電極４５は、平面形状が縦長の方形状をなすとともに、その長辺寸法が検出電極３８の長辺寸法よりも短いものとされる。フローティング電極４５は、Ｙ軸方向に沿って複数が並んで配されている。このフローティング電極４５により、ＣＦ基板１１ａのうちＸ軸方向について隣り合う検出電極３８の間の領域の透過率が、検出電極３８の配置領域の透過率と同等になるものとされ、もって検出電極３８の存在が使用者に視認され難いものとなっている。

駆動電極３９は、図５及び図１０に示すように、ＣＦ基板１１ａの内面における表示領域ＡＡにおいて、検出電極３８の延在方向であるＹ軸方向（第１方向）と直交するＸ軸方向（第２方向）に沿って延在する形で設けられている。駆動電極３９は、その長さ寸法が表示領域ＡＡの短辺寸法と同等とされるのに対し、その線幅が検出電極３８の線幅よりも幅広とされている。駆動電極３９は、ＣＦ基板１１ａの表示領域ＡＡの内面においてその延在方向と直交するＹ軸方向（第１方向）に沿って複数が並んで配されている。そして、駆動電極３９は、その一部が検出電極３８と平面に視て交差しており、その交差部位同士がＣＦ基板１１ａのガラス基板ＧＳを挟んで対向状をなすとともにその間において電界を形成することが可能とされる。この駆動電極３９は、検出電極３８を構成する透明電極膜４４に比べると導電性に優れた金属膜４６からなるものとされており、それにより配線抵抗の低減が図られている。駆動電極３９を構成する金属膜４６は、例えばアルミニウム、モリブデン、チタン、タングステン、銅、銀、金などの金属材料からなるものとされる。なお、駆動電極３９を構成する金属膜４６によりＣＦ基板側コンタクト部４２が構成されている。

駆動電極３９を構成する金属膜４６は、導電性には優れるものの透光性を殆ど有しておらず、そのためＣＦ基板１１ａの表示領域ＡＡに配される駆動電極３９が使用者に視認されることが懸念される。そこで、駆動電極３９は、図８及び図１２に示すように、複数本の分割駆動電極（分割第２位置検出電極、単位駆動電極）３９Ｓから構成されるとともに、それら各分割駆動電極３９ＳがＣＦ基板１１ａの遮光部２５の一部と平面に視て重畳する配置とされている。駆動電極３９を構成する複数本の分割駆動電極３９Ｓは、Ｘ軸方向（第２方向）に沿って延在するとともに、遮光部２５のうちＸ軸方向に沿って延在する部分の上層側（アレイ基板１１ｂ側、液晶層１１ｃ側、ガラス基板ＧＳ側とは反対側）に積層する形で設けられている。このように、使用者から見て駆動電極３９が遮光部２５によって隠される配置とされることで、駆動電極３９にて外光が反射される事態が生じ難くなるとともに駆動電極３９が使用者に視認される事態が生じ難いものとされる。分割駆動電極３９Ｓは、Ｙ軸方向（第１方向）について間隔を空けて複数が並ぶ形で配されており、その間隔がＹ軸方向について隣り合うゲート配線２１の間の間隔（Ｙ軸方向についての画素部ＰＸ間の配列ピッチ、画素電極２０の長さ寸法）とほぼ等しいものとされる。各分割駆動電極３９Ｓは、ゲート配線２１とも平面に視て重畳する配置とされている。しかも、駆動電極３９を構成する分割駆動電極３９Ｓは、その線幅が遮光部２５におけるＸ軸方向に沿って延在する部分の幅寸法よりも小さなものとされているので、例えばＣＦ基板１１ａの製造過程において遮光部２５や駆動電極３９をパターニングする際に相対的な位置ずれが生じた場合であっても、分割駆動電極３９Ｓが遮光部２５と重畳配置される確実性が高いものとなる。また、分割駆動電極３９Ｓは、その線幅が検出電極３８の線幅よりも小さいものとされる。

位置検出配線部４０は、図５及び図１０に示すように、ＣＦ基板１１ａの内面おける非表示領域ＮＡＡにおいて、一方の端部が駆動電極３９の一端部に接続されるのに対し、他方の端部がＣＦ基板側コンタクト部４２に接続される形で配索形成されており、その大部分が駆動電極３９の延在方向と直交するＹ軸方向（第１方向）に沿って延在する形で設けられている。詳しくは、位置検出配線部４０は、駆動電極３９の一端部に接続される第１配線部４０ａと、第１配線部４０ａからＹ軸方向に沿って延在する第２配線部４０ｂと、第２配線部４０ｂからＣＦ基板側コンタクト部４２に至るまで屈曲した平面形状とされる第３配線部４０ｃと、から構成される。位置検出配線部４０は、駆動電極３９からＣＦ基板側コンタクト部４２に近づくに連れて線幅が段階的に狭くなっており、第１配線部４０ａの線幅が駆動電極３９の線幅とほぼ等しいのに対し、第２配線部４０ｂの線幅が第１配線部４０ａの線幅よりも狭いものとされる。位置検出配線部４０は、その延面距離が接続対象となる駆動電極３９からＣＦ基板側コンタクト部４２に至るまでとなっている。従って、ＣＦ基板側コンタクト部４２に相対的に近い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０は、その延面距離が相対的に短いのに対し、ＣＦ基板側コンタクト部４２から相対的に遠い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０は、その延面距離が相対的に長いものとされる。

位置検出配線部４０は、駆動電極３９と同じ金属膜４６からなり、ＣＦ基板１１ａの内面において駆動電極３９と同層に配されている。このように位置検出配線部４０は、金属膜４６からなるものとされているので、その配線抵抗が十分に低いものとされており、それにより駆動電極３９に伝送する信号に鈍りなどが生じ難いものとされている。位置検出配線部４０は、金属膜４６からなるため、透光性を殆ど有していないものの、ＣＦ基板１１ａにおける非表示領域ＮＡＡに配されているので、表示品位に悪影響を及ぼし難いものとなっている。

位置検出配線部４０は、図５及び図１０に示すように、駆動電極３９をその延在方向についての両側から挟み込む形で複数ずつ配されている。つまり、位置検出配線部４０は、非表示領域ＮＡＡ（非タッチ領域）のうち、表示領域ＡＡ（タッチ領域）をＸ軸方向について挟んだ左右両側に複数ずつ分けて配されている。そして、これらの位置検出配線部４０は、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡに設けられた各モノリシック回路部３７と平面に視て重畳する形でそれぞれ配されている。これにより、各モノリシック回路部３７からノイズが生じた場合でも、そのノイズを複数ずつの位置検出配線部４０によって遮蔽することができ、もってタッチパネルパターンの位置検出性能が劣化し難いものとなる。位置検出配線部４０のうち、一方（例えば図５に示す右側）のモノリシック回路部３７と重畳する一方の位置検出配線部４０は、駆動電極３９の延在方向についての一方の端部に接続されるのに対し、他方（例えば図５に示す左側）のモノリシック回路部３７と重畳する他方の位置検出配線部４０は、駆動電極３９の延在方向についての他方の端部に接続される。Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数の駆動電極３９は、一方の端部が一方の位置検出配線部４０に接続されるものと、他方の端部が他方の位置検出配線部４０に接続されるものと、がＹ軸方向について交互に並ぶ配列とされている。より詳しくは、Ｙ軸方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２側から数えて奇数番目の駆動電極３９は、他方の位置検出配線部４０に接続されるのに対し、偶数番目の駆動電極３９は、一方の位置検出配線部４０に接続されている。

ＣＦ基板１１ａの内面における非表示領域ＮＡＡには、図５及び図１０に示すように、各駆動電極３９における位置検出配線部４０に接続された側とは反対側の端部に対してＸ軸方向について隣り合う形でダミー配線部４７が設けられている。ダミー配線部４７は、Ｙ軸方向についての寸法が駆動電極３９の線幅（Ｙ軸方向についての寸法）とほぼ等しいものとされており、Ｘ軸方向に沿って並ぶ複数の駆動電極３９毎に個別に配置されている。詳しくは、ダミー配線部４７には、一方の位置検出配線部４０に接続された駆動電極３９における他方の端部に対して隣り合う形で配されるものと、他方の位置検出配線部４０に接続された駆動電極３９における一方の端部に対して隣り合う形で配されるものと、が含まれている。ダミー配線部４７は、Ｘ軸方向について隣り合う駆動電極３９と、Ｙ軸方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２から遠い側に隣り合う位置検出配線部４０を構成する第２配線部４０ｂと、の間に挟み込まれる形で配されている。ダミー配線部４７は、Ｘ軸方向についての寸法が、当該ダミー配線部４７を挟み込む駆動電極３９と第２配線部４０ｂとの間の間隔よりも小さいものとされる。従って、Ｙ軸方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２に近いダミー配線部４７と、ＣＦ基板側コンタクト部４２から遠いダミー配線部４７と、を比較すると、前者が後者よりもＸ軸方向についての寸法が小さなものとされる。このダミー配線部４７は、駆動電極３９及び位置検出配線部４０と同じ金属膜４６からなり、ＣＦ基板１１ａの内面において駆動電極３９及び位置検出配線部４０と同層に配されている。なお、ダミー配線部４７と、隣り合う第２配線部４０ｂと、の間の間隔は、例えば３μｍ〜１００μｍの範囲に含まれるようにするのが好ましい。

そして、ダミー配線部４７は、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡに設けられたモノリシック回路部３７と平面に視て重畳する形で配されている。詳しくは、他方の位置検出配線部４０に接続された駆動電極３９における一方の端部に対して隣り合う形で配されるダミー配線部４７は、一方のモノリシック回路部３７と平面に視て重畳するのに対し、一方の位置検出配線部４０に接続された駆動電極３９における他方の端部に対して隣り合う形で配される他方のダミー配線部４７は、他方のモノリシック回路部３７と平面に視て重畳している。これらのダミー配線部４７（ＣＦ基板側コンタクト部４２から最も遠いものを除く）は、駆動電極３９のうち位置検出配線部４０に接続された側とは反対側の端部と、それに対してＸ軸方向について隣り合う位置検出配線部４０の第２配線部４０ｂと、の間に空けられた隙間を埋める形で配されている。ダミー配線部４７は、Ｘ軸方向について隣り合う駆動電極３９の端部、言い換えると駆動電極３９のうちの位置検出配線部４０に接続される側とは反対側の端部に接続されている。これにより、モノリシック回路部３７からノイズが生じた場合でも、そのノイズを位置検出配線部４０及びダミー配線部４７が協働して高い効率でもって遮蔽することができる。しかも、製造過程において、ＣＦ基板１１ａの内面に、駆動電極３９、位置検出配線部４０、ＣＦ基板側コンタクト部４２、及びダミー配線部４７を構成する金属膜４６を成膜して同金属膜４６をパターニングした状態において、ＣＦ基板側コンタクト部４２とダミー配線部４７とに導通検査装置を構成する導通検査パッドを宛がって通電を試みることで、駆動電極３９及び位置検出配線部４０に断線などの不良が生じているか否かを検出することができる。つまり、ダミー配線部４７を駆動電極３９及び位置検出配線部４０の通電検査に用いることが可能とされる。なお、このダミー配線部４７は、位置入力機能に関しては特に機能を発揮することはないものとされる。

位置検出配線部４０は、図１０及び図１１に示すように、第２配線部４０ｂの線幅が、接続対象となる駆動電極３９によって異なるものとされる。詳しくは、位置検出配線部４０は、第１配線部４０ａの線幅が接続対象となる駆動電極３９に拘わらずほぼ一定とされるのに対し、第２配線部４０ｂ及び第３配線部４０ｃの線幅については、ＣＦ基板側コンタクト部４２に近い駆動電極３９に接続されるものほど狭く、ＣＦ基板側コンタクト部４２から遠い駆動電極３９に接続されるものほど広くなるよう構成されている。ここで、ＣＦ基板側コンタクト部４２から遠い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０は、ＣＦ基板側コンタクト部４２に近い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０に比べると、相対的に延面距離が相対的に長いため、配線抵抗が高くなりがちとされるものの、上記のように第２配線部４０ｂの線幅を相対的に広くすることで、配線抵抗を低く抑えることができる。これにより、ＣＦ基板側コンタクト部４２から遠い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０と、ＣＦ基板側コンタクト部４２に近い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０と、の間に生じ得る配線抵抗の差を緩和することができ、それにより位置検出性能が劣化し難いものとなる。なお、位置検出配線部４０の第１配線部４０ａのＹ軸方向についての寸法（線幅）は、ほぼ一定とされるものの、第１配線部４０ａのＸ軸方向についての寸法は、ＣＦ基板側コンタクト部４２に近い駆動電極３９に接続されるものほど小さくなっている。

次に、ＣＦ基板１１ａの内面側（液晶層１１ｃ側、アレイ基板１１ｂとの対向面側）に既知のフォトリソグラフィ法などによって積層形成された各種の膜について説明する。ＣＦ基板１１ａには、図７及び図８に示すように、下層（ガラス基板ＧＳ、表側）側から順に、遮光部２５及びカラーフィルタ２４、金属膜４６、平坦化膜２６が積層形成されている。また、図示は省略しているが、平坦化膜２６の上層側には、既述した配向膜が積層されている。また、本実施形態においては、図示は省略しているが、平坦化膜２６の上層側には、アレイ基板１１ｂ側に向けて液晶層１１ｃを貫く形で突出する柱状をなすフォトスペーサ部が設けられており、主に表示領域ＡＡにおいてセルギャップを一定に維持することが可能とされる。

遮光部２５は、図７及び図８に示すように、ＣＦ基板１１ａをなすガラス基板ＧＳの表面において表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配されており、例えば感光性樹脂材料に遮光材料（例えばカーボンブラック）を含有させてなることで高い遮光性を有している。遮光部２５は、表示領域ＡＡに配される部分が平面に視て格子状にパターニングされているのに対し、非表示領域ＮＡＡに配される部分が平面に視て額縁状（枠状）にパターニングされている。遮光部２５のうち、表示領域ＡＡに配される部分は、Ｙ軸方向に沿って延在する部分と、Ｘ軸方向に沿って延在する部分と、を相互に繋いでなり、これらの部分により画素部ＰＸが画定されている。詳しくは、表示領域ＡＡにおいて遮光部２５のうちＹ軸方向に沿って延在する部分は、図１２に示すように、Ｘ軸方向について画素部ＰＸの短辺寸法分の間隔（Ｘ軸方向についての配列ピッチ）を空けて多数本が間欠的に並んで配されているのに対し、Ｘ軸方向に沿って延在する部分は、Ｙ軸方向について画素部ＰＸの長辺寸法分の間隔（Ｙ軸方向についての配列ピッチ）を空けて多数本が間欠的に並んで配されている。カラーフィルタ２４は、図７及び図８に示すように、表示領域ＡＡに配されるとともに、後述するアレイ基板１１ｂ側の画素電極２０の配置に応じて島状にパターニングされており、例えば感光性樹脂材料に着色のための顔料を含有させてなる。詳しくは、カラーフィルタ２４は、ＣＦ基板１１ａの表示領域ＡＡにおいて、アレイ基板１１ｂ側の各画素電極２０と平面に視て重畳する位置に行列状（マトリクス状）に平面配置される多数の着色部から構成されている。各着色部は、平面に視て縦長の方形状をなしている（図示せず）。カラーフィルタ２４は、赤色、緑色、青色をそれぞれ呈する各着色部が行方向（Ｘ軸方向）に沿って交互に繰り返し並ぶことで着色部群を構成し、その着色部群が列方向（Ｙ軸方向）に沿って多数並ぶ配置とされる。また、表示領域ＡＡにおいて隣り合う着色部の間は、遮光部２５における格子状の部分によって仕切られることで、画素部ＰＸ間の混色が防がれている。金属膜４６は、遮光部２５の上層側に積層されており、表示領域ＡＡにおいては遮光部２５の格子状をなす部分のうちのＸ軸方向に沿って延在する部分と重畳するよう横縞状のパターンとされることで、駆動電極３９を構成している（図１２）。金属膜４６のうち、非表示領域ＮＡＡに配される部分は、位置検出配線部４０、ＣＦ基板側コンタクト部４２、及びダミー配線部４７をそれぞれ構成している。平坦化膜２６は、遮光部２５、カラーフィルタ２４、及び金属膜４６の上層側に積層されるとともに、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形でベタ状のパターンとされており、例えばポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）などのアクリル系樹脂材料などからなるものとされる。平坦化膜２６は、ＣＦ基板１１ａにおける液晶層１１ｃ側の面（配向膜が配される面）を好適に平坦化している。平坦化膜２６は、金属膜４６からなる駆動電極３９、位置検出配線部４０、ダミー配線部４７をアレイ基板１１ｂ側から覆う形で配されていることになる。

本実施形態は以上のような構造であり、続いてその作用を説明する。上記した構成の液晶表示装置１０の使用者が、液晶パネル１１の表示領域ＡＡに表示された画像に基づいて位置情報を入力する操作、つまりタッチ操作を行うと、液晶パネル１１の表示面の面内において入力位置（タッチ位置）に最も近い検出電極３８及び駆動電極３９の交差部位間の静電容量が変化するので、その静電容量に変化が生じた検出電極３８及び駆動電極３９を検出することで、入力位置を検知することができるものとされる。

具体的には、駆動電極３９には、タッチパネルコントローラからの入力信号がフレキシブル基板１７、アレイ基板側コンタクト部４３、ＣＦ基板側コンタクト部４２、及び位置検出配線部４０を介して伝送されており、同入力信号は、ＣＦ基板側コンタクト部４２から最も遠い駆動電極３９からＣＦ基板側コンタクト部４２に最も近い駆動電極３９に至るまで順次に走査する形で入力される。検出電極３８は、駆動電極３９から発せられた電界の強さに係る出力信号をタッチパネル用フレキシブル基板４１に出力することができる。タッチパネル用フレキシブル基板４１に出力された出力信号は、タッチパネルコントローラへと伝送される。タッチパネルコントローラは、同出力信号に基づいて電界の強さに変化が生じた検出電極３８を特定するとともに、電界の強さに変化が生じたタイミングに基づいて変化が生じた電界を発した駆動電極３９を特定し、これら特定された検出電極３８及び駆動電極３９の位置情報に基づいて入力位置を検知することができる。

以上のようにして使用者の入力位置を検知することができるのであるが、液晶パネル１１の表示領域ＡＡに画像を表示するに際しては、アレイ基板１１ｂの非表示領域ＮＡＡに配されたモノリシック回路部３７からタッチパネルパターンにとってはノイズとなる電磁波が発生する場合があり、そのノイズがタッチパネルパターンの位置検出性能に悪影響を及ぼすおそれがある。その点、ＣＦ基板１１ａの内面における非表示領域ＮＡＡには、図３及び図５に示すように、モノリシック回路部３７に対して重畳する形で位置検出配線部４０及びダミー配線部４７が設けられているので、モノリシック回路部３７から発生するノイズを効率的に遮蔽することができる。これにより、モノリシック回路部３７から発生するノイズに起因してタッチパネルパターンの位置検出性能が劣化する事態が生じ難いものとなっている。

以上説明したように本実施形態の液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０は、画像が表示される表示領域ＡＡに配されるＴＦＴ（表示素子）１９と画像が表示されない非表示領域ＮＡＡに配されてＴＦＴ１９を駆動するモノリシック回路部（素子駆動部）３７とを少なくとも含む表示用回路を有するアレイ基板１１ｂと、アレイ基板１１ｂと対向状をなす形で間隔を空けて配されるＣＦ基板（対向基板）１１ａと、ＣＦ基板１１ａにおけるアレイ基板１１ｂ側とは反対側を向いた板面（外面）において表示領域ＡＡに配されて板面に沿う第１方向（Ｙ軸方向）に沿って延在する検出電極（第１位置検出電極）３８と、ＣＦ基板１１ａにおけるアレイ基板１１ｂ側を向いた板面（内面）において表示領域ＡＡに配されて板面に沿い且つ第１方向と直交する第２方向（Ｘ軸方向）に沿って延在する駆動電極（第２位置検出電極）３９と、ＣＦ基板１１ａにおけるアレイ基板１１ｂ側を向いた板面において非表示領域ＮＡＡに配されるとともに、駆動電極３９に接続されて駆動電極３９に信号を伝送する位置検出配線部４０であって、モノリシック回路部３７と重畳する形で配される位置検出配線部４０と、を備える。

このようにすれば、アレイ基板１１ｂに有される表示用回路に含まれるＴＦＴ１９及びモノリシック回路部３７によって画像の表示がなされる。アレイ基板１１ｂと対向状をなす形で間隔を空けて配されるＣＦ基板１１ａのうち、アレイ基板１１ｂ側とは反対側を向いた板面における表示領域ＡＡには、第１方向に沿って延在する検出電極３８が設けられるのに対し、アレイ基板１１ｂ側を向いた板面における表示領域ＡＡには、第１方向と直交する第２方向に沿って延在する駆動電極３９が、同じく非表示領域ＮＡＡには、駆動電極３９に接続されて駆動電極３９に信号を伝送する位置検出配線部４０が、それぞれ設けられているから、これらの検出電極３８及び駆動電極３９の間に生じる静電容量の変化に基づいて使用者の入力位置を検知することができる。

そして、駆動電極３９は、表示用回路を有するアレイ基板１１ｂとの間に間隔を空けて対向状に配されるＣＦ基板１１ａにおけるアレイ基板１１ｂ側を向いた板面に設けられているから、仮に駆動電極３９をアレイ基板１１ｂに設けるようにした場合に比べると、表示用回路から遠い配置となっている。これにより、表示用回路と駆動電極３９との間に干渉が生じ難くなり、もって位置検出のための信号に鈍りなどが生じ難いものとなる。その上、仮にアレイ基板１１ｂに設けられた表示用回路の一部を駆動電極として利用した場合には、表示を行う期間と、位置検出を行う期間と、を時間的に前後にずらす必要があるものの、上記のように駆動電極３９を表示用回路からは独立した形でＣＦ基板１１ａに設けるようにしているので、表示を行う期間と、位置検出を行う期間と、が時間的に重なる関係となっても構わない。従って、表示を行う期間及び位置検出を行う期間を共に長く確保することができ、それにより高精細化及び大型化に好適とされる。さらには、位置検出配線部４０は、モノリシック回路部３７と重畳する形で配されているから、モノリシック回路部３７からノイズが生じた場合でも、そのノイズを位置検出配線部４０によって遮蔽することができる。以上により、位置検出性能が劣化し難いものとなる。

また、モノリシック回路部３７は、駆動電極３９を第２方向について両側から挟み込む形でそれぞれ配されているのに対し、位置検出配線部４０には、駆動電極３９における第２方向についての一方の端部に接続されるとともに一方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されるものが含まれており、ＣＦ基板１１ａにおけるアレイ基板１１ｂ側を向いた板面において非表示領域ＮＡＡに配され、駆動電極３９における第２方向についての他方の端部に接続されるとともに他方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されるダミー配線部４７を備える。このようにすれば、位置検出配線部４０には、駆動電極３９における第２方向についての一方の端部に接続されるとともに一方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されるものが含まれることで、一方のモノリシック回路部３７の遮蔽が図られる。一方、駆動電極３９のうち、位置検出配線部４０とは接続されることがない他方の端部に接続されるダミー配線部４７が配されており、このダミー配線部４７が他方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されているので、他方のモノリシック回路部３７の遮蔽を図ることができる。以上により、駆動電極３９を第２方向について両側から挟み込む形でそれぞれ配されるモノリシック回路部３７の遮蔽が図られる。しかも、ダミー配線部４７を利用して駆動電極３９の電気的性能（断線の有無など）を検査することが可能とされる。

また、駆動電極３９は、第１方向に沿って複数が並んで配されているのに対し、位置検出配線部４０には、駆動電極３９における一方の端部に接続されるとともに一方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されるものと、駆動電極３９における他方の端部に接続されるとともに他方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されるものと、が含まれており、ダミー配線部４７には、駆動電極３９における他方の端部に接続されるとともに他方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されるものと、駆動電極３９における一方の端部に接続されるとともに一方のモノリシック回路部３７と重畳する形で配されるものと、が含まれている。このようにすれば、第１方向に沿って並ぶ複数の駆動電極３９には、一方の端部に位置検出配線部４０が接続されるものと、他方の端部に位置検出配線部４０が接続されるものと、が含まれているので、仮に全ての駆動電極３９における一方の端部に対して位置検出配線部４０を接続するようにした場合に比べると、位置検出配線部４０の個々の配置スペースが大きくなるので、各位置検出配線部４０の線幅を広く確保することができ、それにより位置検出感度を高くすることができる。そして、一方のモノリシック回路部３７には、駆動電極３９における一方の端部に接続される位置検出配線部４０と、駆動電極３９における一方の端部に接続されるダミー配線部４７と、が重畳する形で配されるのに対し、他方のモノリシック回路部３７には、駆動電極３９における他方の端部に接続される位置検出配線部４０と、駆動電極３９における他方の端部に接続されるダミー配線部４７と、が重畳する形で配されているので、各モノリシック回路部３７がそれぞれ良好に遮蔽される。

また、互いに異なる色を呈する複数の画素部ＰＸと、隣り合う画素部ＰＸ間を仕切る遮光部２５と、を備えており、検出電極３８は、透明電極膜からなるのに対し、駆動電極３９は、少なくとも金属膜からなり且つ遮光部２５の一部と重畳する形で配されている。このようにすれば、駆動電極３９は、少なくとも金属膜からなるものとされているから、駆動電極３９に係る抵抗値が十分に低いものとなる。しかも、この金属膜からなる駆動電極３９は、隣り合う画素部ＰＸ間を仕切る遮光部２５の一部と重畳する形で表示領域ＡＡに配されているから、駆動電極３９が表示領域ＡＡにおける表示に悪影響を与え難いものとなっている。なお、検出電極３８は、透明電極膜からなるものとされるので、表示領域ＡＡにおける表示に悪影響を及ぼし難いものとなっている。

また、遮光部２５は、第１方向に沿って延在する部分と第２方向に沿って延在する部分とを有するよう、平面形状が格子状をなすものとされており、駆動電極３９は、画素部ＰＸの分の間隔を空けつつ第１方向に沿って並ぶ複数の分割駆動電極（分割第２位置検出電極）３９Ｓに分割されてなるものとされるとともに、複数の分割駆動電極３９Ｓがそれぞれ遮光部のうちの第２方向に沿って延在する部分と重畳する形で配されてなる。このようにすれば、第２方向に沿って延在する複数の分割駆動電極３９Ｓが、画素部ＰＸの分の間隔を空けつつ第１方向に沿って並んで配されるとともに、平面形状が格子状をなす遮光部２５のうちの第２方向に沿って延在する部分に対して重畳する形で配されているから、駆動電極３９の配線抵抗を好適に抑制しつつも、画素部ＰＸの開口率を低下させることが避けられて表示に悪影響が及び難いものとされる。

また、駆動電極３９は、遮光部２５に対してアレイ基板１１ｂ側に重なる形で配されている。このようにすれば、ＣＦ基板１１ａ側から入射した外光が駆動電極３９に直接当たる前に遮光部２５により遮光される。これにより、駆動電極３９が外光を反射してその反射光が視認される事態を回避できるから、表示品位に優れる。

また、駆動電極３９は、第１方向に沿って複数が並んで配されているのに対し、位置検出配線部４０は、駆動電極３９における第２方向についての一方の端部に接続されるとともに第１方向に沿って延在する形で複数が第２方向に沿って並んで配されており、ＣＦ基板１１ａにおけるアレイ基板１１ｂ側を向いた板面のうちの非表示領域ＮＡＡにおける第１方向についての一端部には、位置検出配線部４０に接続されて信号を供給するＣＦ基板側コンタクト部（信号供給部）４２が設けられており、位置検出配線部４０は、第１方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２に近い駆動電極３９に接続されるものに比べて、第１方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２から遠い駆動電極３９に接続されるものの方が線幅が広くなるよう構成されている。第１方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２から遠い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０は、第１方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２に近い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０に比べると、第１方向についての延面距離が大きくなる傾向にあるものの、線幅が相対的に広くされることで、配線抵抗が高くなるのが抑制されるようになっている。これにより、第１方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２から遠い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０と、第１方向についてＣＦ基板側コンタクト部４２に近い駆動電極３９に接続される位置検出配線部４０と、の間に生じ得る配線抵抗の差を緩和することができ、それにより位置検出性能がより劣化し難いものとなる。

また、ＣＦ基板１１ａにおけるアレイ基板１１ｂ側とは反対側を向いた板面には、第２方向について隣り合う検出電極３８の間に配されるとともに透明電極膜からなるフローティング電極４５が設けられている。このようにすれば、表示領域ＡＡには、第２方向について隣り合う検出電極３８の間に透明電極膜からなるフローティング電極４５が設けられているから、検出電極３８と第２方向について隣り合う検出電極３８の間の領域とで透過率が同等になる。これにより、表示領域ＡＡにおける透過率の均一化を図ることができ、表示品位を高いものとすることができる。

＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を図１３によって説明する。この実施形態２では、ＣＦ基板１１１ａの外面における非表示領域ＮＡＡに接地電極４８を設けるようにしたものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係るＣＦ基板１１１ａの外面における非表示領域ＮＡＡ（非タッチ領域）には、図１３に示すように、接地電極４８が設けられている。接地電極４８は、検出電極１３８及びフローティング電極１４５と同じ透明電極膜１４４からなり、ＣＦ基板１１１ａの外面において検出電極１３８及びフローティング電極１４５と同層に配されている。接地電極４８は、検出電極１３８及びフローティング電極１４５群をＸ軸方向についての両側から挟み込む形で一対配されている。つまり、接地電極４８は、非表示領域ＮＡＡのうち、表示領域ＡＡ（タッチ領域）をＸ軸方向について挟んだ左右両側にそれぞれ配されている。そして、接地電極４８は、アレイ基板（図示は省略する）の非表示領域ＮＡＡに設けられたモノリシック回路部１３７と平面に視て重畳する形で配されている。これにより、モノリシック回路部１３７からノイズが生じた場合でも、そのノイズを各接地電極４８によって遮蔽することができ、もってタッチパネルパターンの位置検出性能が劣化し難いものとなる。さらには、接地電極４８は、位置検出配線部（図示は省略する）とも平面に視て重畳する形で配されている。これにより、位置検出配線部と検出電極１３８との間に不要な容量カップリングが生じるのを避けることができ、もってタッチパネルパターンの位置検出性能がより劣化し難いものとなる。

以上説明したように本実施形態によれば、ＣＦ基板１１１ａにおけるアレイ基板側とは反対側を向いた板面のうちの非表示領域ＮＡＡには、透明電極膜１４４からなる接地電極４８が設けられており、接地電極４８は、モノリシック回路部１３７及び位置検出配線部と重畳する形で配されている。このようにすれば、接地電極４８は、モノリシック回路部１３７と重畳する形で配されているから、モノリシック回路部１３７からノイズが生じた場合でも、そのノイズを接地電極４８によって遮蔽することができる。しかも、接地電極４８は、位置検出配線部と重畳する形で配されているから、位置検出配線部と検出電極１３８との間に不要な容量カップリングが生じるのを避けることができる。以上により、位置検出性能がより劣化し難いものとなる。

＜実施形態３＞
本発明の実施形態３を図１４または図１５によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１からフォトスペーサ部４９の配置に応じて遮光部２２５及び駆動電極２３９の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係る液晶パネル２１１には、図１４及び図１５に示すように、表示領域ＡＡにおいて液晶層２１１ｃの厚み（セルギャップ）を一定に維持するためのフォトスペーサ部（スペーサ部）４９が設けられている。フォトスペーサ部４９は、ＣＦ基板２１１ａにおいて平坦化膜２２６の上層側に設けられるとともに、液晶層２１１ｃを貫く形で突出する柱状をなしており、その突出先端部がアレイ基板２１１ｂ側に当接されている。フォトスペーサ部４９は、既知のフォトリソグラフィ法によって樹脂膜をパターニングすることで、表示領域ＡＡの面内における特定の位置に形成されている。詳しくは、フォトスペーサ部４９は、表示領域ＡＡの面内において、ゲート配線２２１とソース配線２２２との交差位置に配置されている。従って、フォトスペーサ部４９は、遮光部２２５及び駆動電極２３９と平面に視て重畳する形で配されており、より詳しくは格子状をなす遮光部２２５における十字の中心と同心となる配置とされている。ところで、表示領域ＡＡにおけるフォトスペーサ部４９の配置箇所及びその周辺では、液晶層２１１ｃに含まれる液晶分子の配向状態を制御し難いものとされ、表示品位が悪化する可能性がある。このため、遮光部２２５のうち、フォトスペーサ部４９の配置箇所については、他の部分（スペーサ非配置部）よりも形成範囲が拡張されてなる遮光拡張部（スペーサ配置部）５０とされており、この遮光拡張部５０によってフォトスペーサ部４９に起因する表示品位の悪化が生じ難いものとされる。

そして、駆動電極２３９を構成する分割駆動電極２３９Ｓのうち、フォトスペーサ部４９の配置箇所については、他の部分（スペーサ非配置部）よりも形成範囲が拡張されてなる駆動電極拡張部（スペーサ配置部）５１とされている。駆動電極拡張部５１は、遮光拡張部５０と平面に視て重畳する配置とされるとともに、その幅寸法が遮光拡張部５０の幅寸法よりも小さいものとされている。従って、駆動電極拡張部５１は、幅寸法が分割駆動電極２３９Ｓの他の部分よりも大きいにも拘わらず、その全域が遮光拡張部５０によって遮光が図られることで、使用者に視認される事態が生じ難いものとされる。そして、分割駆動電極２３９Ｓ並びに駆動電極２３９は、フォトスペーサ部４９の配置箇所において幅広な分割駆動電極２３９Ｓを多数有することで、全体の面積が上記した実施形態１に記載したものよりも大きくなっている。これにより、位置検出感度をより高いものとすることができる。なお、図１５では、遮光部２２５と分割駆動電極２３９Ｓの駆動電極拡張部５１とを実線により、遮光拡張部５０と分割駆動電極２３９Ｓのうちの駆動電極拡張部５１よりも形成範囲が狭い他の部分とを破線により、それぞれ図示している。

以上説明したように本実施形態によれば、アレイ基板２１１ｂとＣＦ基板２１１ａとの間に介在するとともに遮光部２２５及び駆動電極２３９と重畳する形で配されるフォトスペーサ部（スペーサ部）４９を備えており、遮光部２２５及び駆動電極２３９は、フォトスペーサ部４９が配置されないスペーサ非配置部と、フォトスペーサ部４９が配されるとともにスペーサ非配置部よりも幅広な遮光拡張部５０及び駆動電極拡張部５１（スペーサ配置部）と、をそれぞれ有している。このようにすれば、駆動電極２３９は、スペーサ非配置部よりも幅広な遮光拡張部５０及び駆動電極拡張部５１を有しているので、駆動電極２３９の面積をより大きくすることができる。これにより、位置検出感度をより高めることができる。また、遮光部２２５は、遮光拡張部５０及び駆動電極拡張部５１がスペーサ非配置部よりも幅広とされるとともにその遮光拡張部５０と駆動電極２３９の駆動電極拡張部５１とには、アレイ基板２１１ｂとＣＦ基板２１１ａとの間に介在するフォトスペーサ部４９が配されているので、駆動電極２３９の駆動電極拡張部５１が表示領域ＡＡにおける表示に悪影響を与え難いものとなっている。

＜実施形態４＞
本発明の実施形態４を図１６から図１８によって説明する。この実施形態４では、上記した実施形態１から平坦化膜３２６のうちのダミー配線部３４７と重畳する位置に開口部５２を形成するようにしたものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係るＣＦ基板３１１ａの平坦化膜３２６には、図１６から図１８に示すように、ダミー配線部３４７と重畳する位置に開口部５２が形成されている。開口部５２は、平面に視て縦長な方形状をなしており、その長辺寸法がダミー配線部３４７におけるＹ軸方向についての寸法よりも小さなものとされる。開口部５２は、平坦化膜３２６を膜厚方向に貫通しており、それにより開口部５２の形成範囲においてダミー配線部３４７が外部に露出した状態とされている。このような構成によれば、ＣＦ基板３１１ａの製造に際して、平坦化膜３２６を成膜してパターニングした状態において、平坦化膜３２６の開口部５２を通して導通検査装置を構成する導通検査パッドをダミー配線部３４７に宛がうことが可能とされる。つまり、ＣＦ基板３１１ａの製造が完了し、アレイ基板と貼り合わせる前の段階において、ＣＦ基板側コンタクト部３４２とダミー配線部３４７との間で通電を試みて、駆動電極３３９及び位置検出配線部３４０の通電検査を行うことができるようになっている。

以上説明したように本実施形態によれば、駆動電極３３９、位置検出配線部３４０、及びダミー配線部３４７をアレイ基板側から覆う形で配される平坦化膜（保護膜）３２６を備えており、平坦化膜３２６のうちダミー配線部３４７と重畳する位置には、開口部５２が形成されている。このようにすれば、平坦化膜３２６により駆動電極３３９、位置検出配線部３４０、及びダミー配線部３４７の保護を図ることができる。平坦化膜３２６のうちダミー配線部３４７と重畳する位置に形成した開口部５２を通してダミー配線部３４７に検査装置を接触させることが可能となる。これにより、製造に際して平坦化膜３２６を設けた後の段階においても駆動電極３３９の検査を行うことができる。

＜実施形態５＞
本発明の実施形態５を図１９から図２２によって説明する。この実施形態５では、上記した実施形態１から遮光部４２５と駆動電極４３９との積層順を逆にするとともに駆動電極４３９を金属膜４４６と透明電極膜５３との積層構造としたものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係るＣＦ基板４１１ａを構成するガラス基板ＧＳの内面には、図１９及び図２０に示すように、駆動電極４３９が積層されており、その駆動電極４３９に対して上層側（液晶層４１１ｃ側、アレイ基板４１１ｂ側）に積層する形で遮光部４２５が設けられている。つまり、本実施形態に係る遮光部４２５及び駆動電極４３９は、その積層順が上記した実施形態１から逆転したものとなっている。その上で、駆動電極４３９は、下層側（ＣＦ基板１１ａ側）に配される金属膜４４６と、上層側に配される透明電極膜５３と、の積層構造とされている。このようにすれば、駆動電極４３９をなす金属膜４４６を、ＣＦ基板４１１ａを構成するガラス基板ＧＳの内面に直接形成することができるので、金属膜４４６を高い精度でもって成膜及びパターニングすることができ、もって駆動電極４３９の形成位置や平面形状がより適切なものとなる。なお、図１９では、駆動電極４３９を構成する透明電極膜５３が実線により、駆動電極４３９を構成する金属膜４４６が破線により、それぞれ図示されている。

駆動電極４３９を構成する分割駆動電極４３９Ｓのうち、金属膜４４６からなる部分は、透明電極膜５３からなる部分よりも幅狭に形成されており、全体が透明電極膜５３からなる部分によって上層側から覆われている。分割駆動電極４３９Ｓのうち、透明電極膜５３からなる部分は、その線幅が上記した実施形態１に記載した分割駆動電極３９Ｓの線幅と同等とされる。従って、分割駆動電極４３９Ｓのうち、金属膜４４６からなる部分は、その線幅が上記した実施形態１に記載した分割駆動電極３９Ｓの線幅よりも狭いものとされる。ここで、金属膜４４６は、ＣＦ基板４１１ａを構成するガラス基板ＧＳの内面に金属膜４４６が直接形成され、その下層側に遮光部４２５が配置されない構成となっているため、外光が直接金属膜４４６により反射されて表示品位を損なうおそれがある。その点、上記のように分割駆動電極４３９Ｓをなす金属膜４４６の線幅を上記した実施形態１に記載した分割駆動電極３９Ｓの線幅よりも狭くすることで、外光が金属膜４４６により反射されてもその反射光が視認され難いものとなり、それにより表示品位が悪化し難くなる。このように分割駆動電極４３９Ｓをなす金属膜４４６の線幅を狭くすると、分割駆動電極４３９Ｓ並びに駆動電極４３９の全体の面積が小さくなることが懸念されるものの、上記のように分割駆動電極４３９Ｓを金属膜４４６と透明電極膜５３との積層構造とし、透明電極膜５３の線幅を上記した実施形態１に記載した分割駆動電極３９Ｓの線幅と同等にすることで、分割駆動電極４３９Ｓ並びに駆動電極４３９の全体の面積を上記した実施形態１と同等に保つことができる。これにより、位置検出感度を十分に高く維持することができる。

さらには、位置検出配線部４４０の一部とダミー配線部４４７の全域とは、それぞれ、図１９、図２１及び図２２に示すように、下層側に配される金属膜４４６と、上層側に配される透明電極膜５３と、の積層構造とされている。詳しくは、位置検出配線部４４０を構成する第１配線部４４０ａのうち、第２配線部４４０ｂ側の端部を除いた大部分（駆動電極４３９側の端部を含む）は、金属膜４４６と透明電極膜５３との積層構造とされている。なお、第１配線部４４０ａのうちの第２配線部４４０ｂ側の端部、第２配線部４４０ｂ、及び第３配線部（図示は省略する）については、金属膜４４６による単層構造となっている。

位置検出配線部４４０の第１配線部４４０ａのうち、金属膜４４６からなる部分は、分割駆動電極４３９Ｓにおいて金属膜４４６からなる部分と同じ線幅の複数の幅狭状部５４と、複数の幅狭状部５４に連なるとともに第１配線部４４０ａと同じ線幅の幅広状部５５と、から構成される。ダミー配線部４４７のうち、金属膜４４６からなる部分は、分割駆動電極４３９Ｓにおいて金属膜４４６からなる部分と同じ線幅の複数の幅狭状部５４と、複数の幅狭状部５４に連なるとともにダミー配線部４４７と同じ線幅の幅広状部５５と、から構成される。このうち、幅狭状部５４は、液晶パネル４１１を表側から押さえてその保持を図るためのベゼル４１５とは平面に視て非重畳となる配置とされるとともに、遮光部４２５と平面に視て重畳する配置とされている。このように、金属膜４４６からなる幅狭状部５４がベゼル４１５により表側から覆われない配置となっていても、分割駆動電極４３９Ｓにおいて金属膜４４６からなる部分と同等の線幅とされているので、外光を反射したとしても反射光が視認され難いものとなっている。一方、幅広状部５５は、ベゼル４１５と平面に視て重畳する範囲に形成されている。つまり、金属膜４４６からなる幅広状部５５は、表側からベゼル４１５によって覆われているので、外光が直接当たることが避けられており、幅広状部５５による光の反射が生じることがないものとされる。

これに対し、位置検出配線部４４０の第１配線部４４０ａのうち、透明電極膜５３からなる部分は、全域にわたって第１配線部４４０ａと同じ線幅とされる。同様に、ダミー配線部４４７のうち、透明電極膜５３からなる部分は、全域にわたってダミー配線部４４７と同じ線幅とされる。つまり、第１配線部４４０ａ及びダミー配線部４４７のうちの透明電極膜５３からなる部分は、第１配線部４４０ａ及びダミー配線部４４７のうちの金属膜４４６からなる部分である複数の幅狭状部５４の間となる領域にも配置されており、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数の幅狭状部５４を横切る範囲にわたって形成されている。これにより、第１配線部４４０ａ及びダミー配線部４４７の面積が上記した実施形態１に記載した第１配線部４０ａ及びダミー配線部４７の面積と同等になっており、それにより位置検出感度についても上記した実施形態１と同等とされる。

以上説明したように本実施形態によれば、駆動電極４３９は、遮光部４２５に対してＣＦ基板４１１ａ側に重なる形で配されている。このようにすれば、仮に駆動電極を遮光部４２５に対してアレイ基板４１１ｂ側に重なる形で配した場合に比べると、駆動電極４３９が設けられる下地の平坦性が高いものとなる。これにより、駆動電極４３９のパターニング精度が高いものとなる。

また、駆動電極４３９は、金属膜４４６と金属膜４４６に対して積層される透明電極膜５３との積層構造とされる。遮光部４２５に対してＣＦ基板４１１ａ側に重なる形で配される駆動電極４３９には、ＣＦ基板４１１ａ側から入射した外光が直接当たることになるため、仮に駆動電極を金属膜４４６のみから構成した場合には、駆動電極４３９による反射光量を減少させるべく、駆動電極４３９の線幅を極めて狭くする必要が生じる場合がある。その点、上記したように駆動電極４３９を金属膜４４６と透明電極膜５３との積層構造とすれば、反射光量を減少させるべく金属膜４４６の線幅を十分に狭くした場合でも、反射光の問題が生じ難い透明電極膜５３の線幅を広く確保することで、反射光量の減少を図りつつ駆動電極４３９の面積を十分に確保することができる。駆動電極４３９の面積が十分に確保されれば、位置検出感度も十分に確保される。

また、位置検出配線部４４０のうち、少なくとも駆動電極４３９と接続される側の端部は、金属膜４４６と金属膜４４６に対して積層される透明電極膜５３との積層構造とされる。位置検出配線部４４０は、非表示領域ＮＡＡに配されているものの、位置検出配線部４４０のうちの駆動電極４３９と接続される側の端部にＣＦ基板４１１ａ側から入射した外光が直接当たって反射が生じると、表示品位を損なうおそれがある。仮に位置検出配線部を金属膜４４６のみから構成した場合には、位置検出配線部４４０による反射光量を減少させるべく、少なくとも駆動電極４３９と接続される側の端部については、位置検出配線部４４０の線幅を極めて細くする必要が生じる場合がある。その点、上記したように位置検出配線部４４０のうち、少なくとも駆動電極４３９と接続される側の端部を金属膜４４６と透明電極膜５３との積層構造とすれば、反射光量を減少させるべく金属膜４４６の線幅を十分に狭くした場合でも、反射光の問題が生じ難い透明電極膜５３の線幅を広く確保することで、反射光量の減少を図りつつ位置検出配線部４４０の面積を十分に確保することができる。位置検出配線部４４０の面積が十分に確保されれば、位置検出感度も十分に確保される。

また、ＣＦ基板４１１ａをアレイ基板４１１ｂ側とは反対側から保持するとともに、非表示領域ＮＡＡのうちの少なくとも外側部分と重畳する形で配されるベゼル（保持部材）４１５が備えられており、位置検出配線部４４０は、少なくともベゼル４１５とは非重畳とされる部分が金属膜４４６と透明電極膜５３との積層構造とされる。このようにすれば、位置検出配線部４４０のうちのベゼル４１５とは非重畳とされる部分は、ＣＦ基板４１１ａ側から入射される外光がベゼル４１５によって遮られることがないので、その部分を金属膜４４６と透明電極膜５３との積層構造とすることで、反射光量の減少を図りつつ位置検出配線部４４０の面積を十分に確保することができる。

＜実施形態６＞
本発明の実施形態６を図２３または図２４によって説明する。この実施形態６では、上記した実施形態１からカラーフィルタ５２４の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

本実施形態に係るカラーフィルタ５２４は、図２３及び図２４に示すように、３色の各着色部がＹ軸方向（第１方向）に沿って延在し、３色の各画素部ＰＸにおける個々の形成範囲を超える形で配されている。つまり、Ｙ軸方向に沿って延在するカラーフィルタ５２４の各着色部は、遮光部５２５の格子状をなす部分（個々の画素部ＰＸを仕切る部分）のうちのＸ軸方向（第２方向）に沿って延在する部分を横切っていて、その上層側（アレイ基板５１１ｂ側、液晶層５１１ｃ側、ＣＦ基板５１１ａのガラス基板ＧＳ側とは反対側）に重なる形で配されるよう構成されている。より具体的には、カラーフィルタ５２４は、各着色部がＹ軸方向について表示領域ＡＡのほぼ全長にわたって延在している。従って、カラーフィルタ５２４は、各着色部がＹ軸方向に沿って並ぶ多数（全て）の画素電極５２０からなる画素電極５２０群と対向状をなすことでそれぞれが赤色、緑色、青色の各色を呈する画素部ＰＸ群を構成している。このように、カラーフィルタ５２４の各着色部は、Ｙ軸方向に沿って延在する形態とされているので、上記した実施形態１のようにカラーフィルタ２４の各着色部が、遮光部２５の格子状をなす部分によって個別に取り囲まれた構成とされた場合（図７及び図８を参照）に比べると、各着色部の間を細かく仕切る必要がなくなってそのパターニングが容易なものとなり、高精細化などを図る上で好適となる。また、Ｙ軸方向に沿って延在するカラーフィルタ５２４の各着色部は、遮光部５２５の格子状をなす部分のうちのＹ軸方向に沿って延在する部分に対しても上層側に重なる形で配されるよう構成されている。従って、Ｘ軸方向について隣り合って互いに異なる色を呈する着色部は、Ｙ軸方向に沿って延びる縁部同士が接する配置とされている。

一方、駆動電極５３９を構成する分割駆動電極５３９Ｓは、遮光部５２５の格子状をなす部分のうちのＸ軸方向に沿って延在する部分に対して上層側に重なり且つカラーフィルタ５２４の各着色部に対して下層側（アレイ基板５１１ｂ側とは反対側、液晶層５１１ｃ側とは反対側、ＣＦ基板５１１ａのガラス基板ＧＳ側）に重なる形で配されている。つまり、駆動電極５３９を構成する分割駆動電極５３９Ｓは、Ｚ軸方向（各基板５１１ａ，５１１ｂの板面の法線方向）について、遮光部５２５の格子状をなす部分のうちのＸ軸方向に沿って延在する部分と、カラーフィルタ５２４の各着色部と、の間に挟み込まれる形で配されている。言い換えると、カラーフィルタ５２４の各着色部は、遮光部５２５の格子状をなす部分のうちのＸ軸方向に沿って延在する部分に加えて分割駆動電極５３９Ｓに対しても上層側に重なる形で配されている。平坦化膜５２６は、カラーフィルタ５２４の各着色部に対して上層側に重なる形で配されている。つまり、駆動電極５３９を構成する分割駆動電極５３９Ｓには、その上層側にカラーフィルタ５２４の各着色部と平坦化膜５２６とが積層されているので、上記した実施形態１に記載したものに比べると、分割駆動電極５３９Ｓを設けることに伴ってＣＦ基板５１１ａの表面（配向膜の表面）に生じ得る段差が緩和され、同表面の平坦化を図る上で好適とされる。ＣＦ基板５１１ａの表面の平坦性が担保されれば、液晶層５１１ｃに含まれる液晶分子の配向に乱れが生じ難くなるので、表示領域ＡＡに表示される画像に係るコントラストの向上を図る上で好適となり、もって同画像に係る表示品位を向上させることができる。なお、図２３では、平坦化膜５２６の図示を省略している。

しかも、分割駆動電極５３９Ｓの上層側にカラーフィルタ５２４の各着色部と平坦化膜５２６とが積層されることで、上記した実施形態１に記載したものに比べると、分割駆動電極５３９Ｓと、アレイ基板５１１ｂの表示領域ＡＡに配されてＴＦＴ（図６及び図７を参照）に接続される画素電極５２０と、の間の距離が各着色部の膜厚分程度大きくなるので、両者５２０，５３９Ｓの間に形成される寄生容量を低減させることができる。これにより、位置検出感度の向上が図られる。また、駆動電極５３９を構成する分割駆動電極５３９Ｓは、遮光部５２５のうちＸ軸方向（第２方向）に沿って延在する部分に重なる形で配される。なお、遮光部５２５は、Ｘ軸方向に沿って延在する部分がＹ軸方向に沿って延在する部分よりも太くなっており、その理由は一般的にはＴＦＴ（表示素子）付近を遮光するためである。これにより、画素部ＰＸの開口率が低下するのを避けつつ各分割駆動電極５３９Ｓの線幅を十分に確保して位置検出感度の向上を図ることができる。なお、駆動電極５３９を構成する分割駆動電極５３９Ｓは、単一の金属膜からなる構成であってもよいが、複数の金属膜の積層構造であっても構わない。

以上説明したように本実施形態によれば、複数の画素部ＰＸは、アレイ基板５１１ｂの表示領域ＡＡに配されてＴＦＴ（表示素子）に接続される複数の画素電極５２０と、ＣＦ基板（対向基板）５１１ａの表示領域ＡＡにて複数の画素電極５２０とそれぞれ重畳する形で配されて互いに異なる色を呈する複数の着色部からなるカラーフィルタ５２４と、から構成されており、カラーフィルタ５２４は、複数の着色部が第１方向（Ｙ軸方向）に沿って延在して遮光部５２５のうちの第２方向（Ｘ軸方向）に沿って延在する部分を横切るとともに分割駆動電極（分割第２位置検出電極）５３９Ｓに対してアレイ基板５１１ｂ側に重なる形で配されるよう構成されている。このようにすれば、遮光部５２５に重なる形で配される分割駆動電極５３９Ｓに対してカラーフィルタ５２４をなす複数の着色部が重なる形で配されるので、分割駆動電極５３９Ｓを設けることに伴ってＣＦ基板５１１ａにおけるアレイ基板５１１ｂ側の表面に生じ得る段差が緩和され、同表面の平坦化を図る上で好適とされる。しかも、仮にカラーフィルタをなす複数の着色部が、平面形状が格子状をなす遮光部５２５により囲まれた範囲のみに配された場合に比べると、遮光部５２５のうちの第２方向に沿って延在する部分に重なる形で配される分割駆動電極５３９Ｓと、アレイ基板５１１ｂの表示領域ＡＡに配されてＴＦＴに接続される画素電極５２０と、の間の距離が相対的に大きくなるので、両者５２０，５３９Ｓの間に形成される寄生容量を低減させることができる。これにより、位置検出感度の向上が図られる。また、カラーフィルタ５２４をなす複数の着色部が第１方向に沿って延在する形態とされているので、仮にカラーフィルタをなす複数の着色部が、平面形状が格子状をなす遮光部５２５により囲まれた範囲のみに配された場合に比べると、複数の着色部を細かく仕切る必要がなくなってそのパターニングが容易なものとなり、高精細化などを図る上で好適となる。

＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記した各実施形態では、一方の位置検出配線部に接続される駆動電極と、他方の位置検出配線部に接続される駆動電極と、がＹ軸方向について交互に１つずつ並ぶ配置とされたものを示したが、例えば一方の位置検出配線部に接続される駆動電極と、他方の位置検出配線部に接続される駆動電極と、がＹ軸方向について複数ずつ交互に並ぶ配置とすることも可能である。

（２）上記した（１）以外にも、例えばＹ軸方向に沿って並ぶ複数の駆動電極のうち、ＣＦ基板側コンタクト部に近い側の半分の駆動電極に対して一方の位置検出配線部が接続され、ＣＦ基板側コンタクト部から遠い側の半分の駆動電極に対して他方の位置検出配線部が接続される構成を採ることも可能である。また、ＣＦ基板側コンタクト部に近い側の半分の駆動電極に対して他方の位置検出配線部を接続し、ＣＦ基板側コンタクト部から遠い側の半分の駆動電極に対して一方の位置検出配線部を接続するようにしてもよい。

（３）上記した（１），（２）以外にも、一方の位置検出配線部に接続される駆動電極と、他方の位置検出配線部に接続される駆動電極と、の具体的な配列に関しては適宜に変更可能である。

（４）上記した各実施形態では、一方のモノリシック回路部と重畳する一方の位置検出配線部及びダミー配線部の数と、他方のモノリシック回路部と重畳する他方の位置検出配線部及びダミー配線部の数と、が同数とされる場合を示したが、これらが互いに異なる数となる構成を採ることも可能である。

（５）上記した各実施形態では、非表示領域のうち、表示領域を挟んだ両側にそれぞれ位置検出配線部及びダミー配線部をそれぞれ分けて配置したものを示したが、非表示領域のうち、表示領域に対して片側に位置検出配線を集約して配置し、もう片側にダミー配線部を集約して配置することも可能である。その場合、片方のモノリシック回路部には、専ら複数の位置検出配線が重畳配置されるのに対し、もう片方のモノリシック回路部には、専ら複数のダミー配線部が重畳配置されることになる。

（６）上記した各実施形態では、非表示領域のうち、表示領域を、液晶パネルの短辺方向について両側から挟み込む形でモノリシック回路部、位置検出配線部、及びダミー配線部をそれぞれ配置した場合を示したが、非表示領域のうち、表示領域を、液晶パネルの長辺方向について両側から挟み込む形でモノリシック回路部、位置検出配線部、及びダミー配線部をそれぞれ配置することも可能である。

（７）上記した各実施形態では、位置検出配線部の第２配線部の線幅を、接続対象となる駆動電極とＣＦ基板側コンタクト部との位置関係に応じて変化させるようにした場合を示したが、位置検出配線部の第２配線部の線幅を全て同一とすることも可能である。

（８）上記した各実施形態以外にも、フローティング電極の平面に視た大きさについては、適宜に変更可能である。その場合でも、フローティング電極の長さ寸法については、検出電極の長さ寸法よりも小さくするのが好ましいが、必ずしもそのようにしなくても構わない。

（９）上記した実施形態２に記載した接地電極に関しては、平面に視た具体的な形成範囲などを適宜に変更することができる。

（１０）上記した実施形態３に記載したフォトスペーサ部に関しては、表示領域における具体的な配列ピッチなどを適宜に変更することができる。

（１１）上記した実施形態４に記載した開口部に関しては、ダミー配線部の面内における具体的な配置や開口範囲などを適宜に変更することができる。

（１２）上記した実施形態５に記載した駆動電極及び位置検出配線部を構成する金属膜及び透明電極膜に関しては、平面に視た具体的な形成範囲などを適宜に変更することができる。

（１３）上記した各実施形態では、アレイ基板側に画素電極と共通電極とが共に配されるとともに、画素電極と共通電極とが間に絶縁膜を介在させた形で重畳する構成の液晶パネル（ＦＦＳモードの液晶パネル）を例示したが、アレイ基板側に画素電極が配されるとともにＣＦ基板側に共通電極が配されるとともに画素電極と共通電極とが間に液晶層を介在させた形で重畳する構成の液晶パネル（ＶＡモードの液晶パネル）にも本発明は適用可能である。それ以外にも、いわゆるＩＰＳモードの液晶パネルにも本発明は適用可能である。

（１４）上記した各実施形態に記載した構成において、ダミー配線部、フローティング電極などを省略することも可能である。

（１５）上記した各実施形態では、タッチパネルパターンのタッチ領域と、液晶パネルの表示領域と、が互いに一致する構成のものを示したが、両者が完全に一致している必要はなく、例えばタッチパネルパターンのタッチ領域が、液晶パネルの表示領域の全域と、非表示領域の一部（表示領域寄りの部分）とに跨る範囲に設定されていてもよい。

（１６）上記した各実施形態では、半導体膜をＣＧシリコン薄膜（多結晶シリコン薄膜）とした場合を例示したが、それ以外にも、例えば酸化物半導体やアモルファスシリコンを半導体膜の材料として用いることも可能である。

（１７）上記した各実施形態では、液晶パネルのカラーフィルタが赤色、緑色及び青色の３色構成とされたものを例示したが、赤色、緑色及び青色の各着色部に、黄色の着色部を加えて４色構成としたカラーフィルタを備えたものにも本発明は適用可能である。

（１８）上記した各実施形態では、外部光源であるバックライト装置を備えた透過型の液晶表示装置を例示したが、本発明は、外光を利用して表示を行う反射型液晶表示装置にも適用可能であり、その場合はバックライト装置を省略することができる。また、本発明は、半透過型液晶表示装置にも適用可能である。

（１９）上記した各実施形態では、小型または中小型に分類され、携帯型情報端末、携帯電話（スマートフォンを含む）、ノートパソコン（タブレット型ノートパソコンを含む）、デジタルフォトフレーム、携帯型ゲーム機などの各種電子機器などに用いされる液晶パネルを例示したが、画面サイズが例えば２０インチ〜９０インチで、中型または大型（超大型）に分類される液晶パネルにも本発明は適用可能である。その場合、液晶パネルをテレビ受信装置、電子看板（デジタルサイネージ）、電子黒板などの電子機器に用いることが可能とされる。

（２０）上記した各実施形態では、一対の基板間に液晶層が挟持された構成とされる液晶パネルについて例示したが、一対の基板間に液晶材料以外の機能性有機分子を挟持した表示パネルについても本発明は適用可能である。

（２１）上記した各実施形態では、液晶パネルのスイッチング素子としてＴＦＴを用いたが、ＴＦＴ以外のスイッチング素子（例えば薄膜ダイオード（ＴＦＤ））を用いた液晶パネルを備えた液晶表示装置にも適用可能であり、カラー表示する液晶パネルを備えた液晶表示装置以外にも、白黒表示する液晶パネルを備えた液晶表示装置にも適用可能である。

（２２）上記した各実施形態では、表示パネルとして液晶パネルを用いた液晶表示装置を例示したが、他の種類の表示パネル（ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、有機ＥＬパネル、ＥＰＤ（電気泳動ディスプレイパネル）など）を用いた表示装置にも本発明は適用可能である。その場合、バックライト装置を省略することも可能である。

１０...液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）、１１ａ，１１１ａ，２１１ａ，３１１ａ，４１１ａ，５１１ａ...ＣＦ基板（対向基板）、１１ｂ，２１１ｂ，４１１ｂ，５１１ｂ...アレイ基板、１５，４１５...ベゼル（保持部材）、１９...ＴＦＴ（表示素子、表示用回路）、２０，５２０...画素電極、２１，２２１，５２１...ゲート配線（表示用回路）、２２，２２２...ソース配線（表示用回路）、２４，５２４...カラーフィルタ、２５，２２５，４２５，５２５...遮光部、２６，３２６，５２６...平坦化膜（保護膜）、３７，１３７...モノリシック回路部（素子駆動部）、３８，１３８...検出電極（第１位置検出電極）、３９，２３９，３３９，４３９，５３９...駆動電極（第２位置検出電極）、３９Ｓ，２３９Ｓ，４３９Ｓ，５３９Ｓ...分割駆動電極（分割第２位置検出電極）、４０，３４０，４４０...位置検出配線部、４２，３４２...ＣＦ基板側コンタクト部（信号供給部）、４４，１４４...透明電極膜、４５，１４５...フローティング電極、４６，４４６...金属膜、４７，３４７，４４７...ダミー配線部、４８...接地電極、４９...フォトスペーサ部（スペーサ部）、５０...遮光拡張部（スペーサ配置部）、５１...駆動電極拡張部（スペーサ配置部）、５２...開口部、５３...透明電極膜、ＡＡ...表示領域、ＮＡＡ...非表示領域、ＰＸ...画素部

Claims (15)

1. 画像が表示される表示領域に配される表示素子と画像が表示されない非表示領域に配されて前記表示素子を駆動する素子駆動部とを少なくとも含む表示用回路を有するアレイ基板と、
   前記アレイ基板と対向状をなす形で間隔を空けて配される対向基板と、
   前記対向基板における前記アレイ基板側とは反対側を向いた板面において前記表示領域に配されて前記板面に沿う第１方向に沿って延在する第１位置検出電極と、
   前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面において前記表示領域に配されて前記板面に沿い且つ前記第１方向と直交する第２方向に沿って延在する第２位置検出電極と、
   前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面において前記非表示領域に配されるとともに、前記第２位置検出電極に接続されて前記第２位置検出電極に信号を伝送する位置検出配線部であって、前記素子駆動部と重畳する形で配される位置検出配線部と、を備える位置入力機能付き表示装置。
2. 前記素子駆動部は、前記第２位置検出電極を前記第２方向について両側から挟み込む形でそれぞれ配されているのに対し、前記位置検出配線部には、前記第２位置検出電極における前記第２方向についての一方の端部に接続されるとともに一方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるものが含まれており、
   前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面において前記非表示領域に配され、前記第２位置検出電極における前記第２方向についての他方の端部に接続されるとともに他方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるダミー配線部を備える請求項１記載の位置入力機能付き表示装置。
3. 前記第２位置検出電極、前記位置検出配線部、及び前記ダミー配線部を前記アレイ基板側から覆う形で配される保護膜を備えており、
   前記保護膜のうち前記ダミー配線部と重畳する位置には、開口部が形成されている請求項２記載の位置入力機能付き表示装置。
4. 前記第２位置検出電極は、前記第１方向に沿って複数が並んで配されているのに対し、前記位置検出配線部には、前記第２位置検出電極における前記一方の端部に接続されるとともに前記一方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるものと、前記第２位置検出電極における前記他方の端部に接続されるとともに前記他方の前記素子駆動部と重畳する形で配されるものと、が含まれており、
   前記ダミー配線部には、前記第２位置検出電極における前記他方の端部に接続されるとともに前記他方の素子駆動部と重畳する形で配されるものと、前記第２位置検出電極における前記一方の端部に接続されるとともに前記一方の素子駆動部と重畳する形で配されるものと、が含まれている請求項２または請求項３記載の位置入力機能付き表示装置。
5. 互いに異なる色を呈する複数の画素部と、隣り合う前記画素部間を仕切る遮光部と、を備えており、
   前記第１位置検出電極は、透明電極膜からなるのに対し、前記第２位置検出電極は、少なくとも金属膜からなり且つ前記遮光部の一部と重畳する形で配されている請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
6. 前記遮光部は、前記第１方向に沿って延在する部分と前記第２方向に沿って延在する部分とを有するよう、平面形状が格子状をなすものとされており、
   前記第２位置検出電極は、前記画素部の分の間隔を空けつつ前記第１方向に沿って並ぶ複数の分割第２位置検出電極に分割されてなるものとされるとともに、複数の前記分割第２位置検出電極がそれぞれ前記遮光部のうちの前記第２方向に沿って延在する部分と重畳する形で配されてなる請求項５記載の位置入力機能付き表示装置。
7. 前記複数の画素部は、前記アレイ基板の前記表示領域に配されて前記表示素子に接続される複数の画素電極と、前記対向基板の前記表示領域にて前記複数の画素電極とそれぞれ重畳する形で配されて互いに異なる色を呈する複数の着色部からなるカラーフィルタと、から構成されており、
   前記カラーフィルタは、前記複数の着色部が前記第１方向に沿って延在して前記遮光部のうちの前記第２方向に沿って延在する部分を横切るとともに前記分割第２位置検出電極に対して前記アレイ基板側に重なる形で配されるよう構成されている請求項６記載の位置入力機能付き表示装置。
8. 前記第２位置検出電極は、前記遮光部に対して前記アレイ基板側に重なる形で配されている請求項５から請求項７のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
9. 前記第２位置検出電極は、前記遮光部に対して前記対向基板側に重なる形で配されている請求項５から請求項７のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
10. 前記第２位置検出電極は、前記金属膜と前記金属膜に対して積層される透明電極膜との積層構造とされる請求項９記載の位置入力機能付き表示装置。
11. 前記位置検出配線部のうち、少なくとも前記第２位置検出電極と接続される側の端部は、前記金属膜と前記金属膜に対して積層される透明電極膜との積層構造とされる請求項９または請求項１０記載の位置入力機能付き表示装置。
12. 前記対向基板を前記アレイ基板側とは反対側から保持するとともに、前記非表示領域のうちの少なくとも外側部分と重畳する形で配される保持部材が備えられており、
    前記位置検出配線部は、前記保持部材とは非重畳とされる部分が前記金属膜と前記透明電極膜との積層構造とされるのに対し、前記保持部材と重畳する部分が前記金属膜の単層構造とされる請求項１１記載の位置入力機能付き表示装置。
13. 前記アレイ基板と前記対向基板との間に介在するとともに前記遮光部及び前記第２位置検出電極と重畳する形で配されるスペーサ部を備えており、
    前記遮光部及び前記第２位置検出電極は、前記スペーサ部が配置されないスペーサ非配置部と、前記スペーサ部が配されるとともに前記スペーサ非配置部よりも幅広なスペーサ配置部と、をそれぞれ有している請求項５から請求項１２のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
14. 前記第２位置検出電極は、前記第１方向に沿って複数が並んで配されているのに対し、前記位置検出配線部は、前記第２位置検出電極における前記第２方向についての一方の端部に接続されるとともに前記第１方向に沿って延在する形で複数が前記第２方向に沿って並んで配されており、
    前記対向基板における前記アレイ基板側を向いた板面のうちの前記非表示領域における前記第１方向についての一端部には、前記位置検出配線部に接続されて前記信号を供給する信号供給部が設けられており、
    前記位置検出配線部は、前記第１方向について前記信号供給部に近い前記第２位置検出電極に接続されるものに比べて、前記第１方向について前記信号供給部から遠い前記第２位置検出電極に接続されるものの方が線幅が広くなるよう構成されている請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。
15. 前記対向基板における前記アレイ基板側とは反対側を向いた板面のうちの前記非表示領域には、透明電極膜からなる接地電極が設けられており、
    前記接地電極は、前記素子駆動部及び位置検出配線部と重畳する形で配されている請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の位置入力機能付き表示装置。

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