JP2007249100A - アクティブマトリクス基板及び液晶表示装置並びにその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】信号線107と走査線102及び共通配線103とが交差し、各画素内で、信号線107に接続される画素電極108と共通配線103に接続される共通電極104とが交互に配置されるアクティブマトリクス基板において、絶縁膜を介して信号線107の下層かつ信号線107の両側に共通電位線105を配置し、保護膜を介して信号線107の上層かつ信号線107と両側の共通電位線105とに相重なるようにフローティング膜111を配置する。これにより信号線のシールド効果を高め、ブラックマトリクスの幅を縮小して開口率を向上させることができ、信号線と共通電位線との寄生容量を小さくし、信号線とフローティング膜とが短絡した場合の欠陥を最小限に抑えて表示品位を向上させる。
【選択図】図1
Description
102、202 走査線
103、203 共通配線
104、204 共通電極
105、205 共通電位線
106、206 絶縁膜
107、207 信号線
108、208 画素電極
109、109a、209 保護膜
110、210 有機膜
111 フローティング膜
112 TFT
113、213 液晶
114、214 ガラス基板
115、215 ブラックマトリクス
116、216 色層
217 シールド電極
Claims (11)
- 複数の走査線及び複数の共通配線と信号線とが交差し、前記走査線と前記信号線とで囲まれる各々の画素にスイッチング素子を備えるアクティブマトリクス基板において、
第1の絶縁膜を介して前記信号線の下層、かつ、前記基板の法線方向から見て前記信号線の両側に、前記共通配線に接続される共通電位線が形成され、
第2の絶縁膜を介して前記信号線の上層、かつ、前記基板の法線方向から見て前記信号線と該信号線両側の前記共通電位線の少なくとも一部とに相重なるように、フローティング膜が形成されることを特徴とするアクティブマトリクス基板。 - 基板側から、複数の走査線及び複数の共通配線と、第1の絶縁膜と、スイッチング素子と、前記走査線に交差し、前記スイッチング素子の一方の電極に接続される複数の信号線と、第2の絶縁膜と、を備え、
前記走査線と前記信号線とで囲まれる各々の画素に、前記スイッチング素子の他方の電極に接続される画素電極と前記共通配線に接続される共通電極とが交互に配設されてなるアクティブマトリクス基板において、
前記信号線の下層、かつ、前記基板の法線方向から見て前記信号線の両側に、前記共通配線に接続される共通電位線が形成され、
前記第2の絶縁膜の上層、かつ、前記基板の法線方向から見て前記信号線と該信号線両側の前記共通電位線の少なくとも一部とに相重なるように、フローティング膜が形成されることを特徴とするアクティブマトリクス基板。 - 前記第2の絶縁膜上に、前記信号線に沿って、該信号線よりも広い幅で有機膜が形成され、前記フローティング膜は、前記有機膜に沿って、該有機膜よりも広い幅で形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のアクティブマトリクス基板。
- 前記フローティング膜は、前記基板の法線方向から見て、幅方向の端部が前記信号線両側の前記共通電位線の両外側と略一致するように形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載のアクティブマトリクス基板。
- 前記フローティング膜は、前記画素毎に分離して形成されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載のアクティブマトリクス基板。
- 請求項1乃至5のいずれか一に記載のアクティブマトリクス基板と、該アクティブマトリクス基板に対向する基板との間に液晶が挟持され、前記画素電極と前記共通電極との間の電界により前記液晶が駆動される横電界方式の液晶表示装置。
- 基板上に、複数の走査線と複数の共通配線とを形成すると共に、画素が形成される領域内に前記共通配線に接続される共通電極を形成する第1の工程と、
第1の絶縁膜を形成する第2の工程と、
スイッチング素子となる半導体層を形成する第3の工程と、
前記走査線に交差し、前記スイッチング素子の一方の電極に接続される複数の信号線を形成すると共に、前記画素内に前記スイッチング素子の他方の電極に接続される画素電極を形成する第4の工程と、
第2の絶縁膜を形成する第5の工程と、を少なくとも備えるアクティブマトリクス基板の製造方法において、
前記第4の工程の前に、前記基板の法線方向から見て前記信号線の両側に、前記共通配線に接続される共通電位線を形成し、
前記第5の工程の後に、前記基板の法線方向から見て前記信号線と該信号線両側の前記共通電位線の少なくとも一部とに相重なるように、フローティング膜を形成する第6の工程を備えることを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。 - 前記第5の工程と前記第6の工程との間に、前記第2の絶縁膜上に、前記信号線に沿って、該信号線よりも広い幅の有機膜を形成する工程を含み、
前記第6の工程では、前記有機膜に沿って、該有機膜よりも広い幅の前記フローティング膜を形成することを特徴とする請求項7記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。 - 前記第6の工程では、前記フローティング膜を、前記基板の法線方向から見て、幅方向の端部が前記信号線両側の前記共通電位線の両外側と略一致するように形成することを特徴とする請求項7又は8に記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。
- 前記第6の工程では、前記フローティング膜を、前記画素毎に分離して形成することを特徴とする請求項7乃至9のいずれか一に記載のアクティブマトリクス基板の製造方法。
- 請求項7乃至10のいずれか一に記載の製造方法を用いて前記アクティブマトリクス基板を製造し、前記アクティブマトリクス基板と対向基板との間に液晶を挟持する液晶表示装置の製造方法。
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